კეთილი იყოს თქვენი მობრძანება Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd-ში.
სიახლეები
-
მინის კერამიკული ფილების ოქროს მოპირკეთების მანქანა
მინის კერამიკული ფილების მოოქროვილი აპარატი იყენებს მოწინავე ტექნიკას ფილების ზედაპირზე მოოქროვილი თხელი ფენის დასატანად, რაც ქმნის განსაცვიფრებელ და მდიდრულ იერსახეს. ეს პროცესი არა მხოლოდ აძლიერებს ფილების ესთეტიკურ მიმზიდველობას, არამედ უზრუნველყოფს დამატებით დაცვას...დაწვრილებით -
სუბსტრატებისა და ფირის შერჩევის პრინციპები
ფირის მომზადების პროცესში, სუბსტრატის შერჩევა შესაძლებელია შემდეგი ძალის ზედაპირის მიხედვით: 1. სხვადასხვა გამოყენების მიზნების მიხედვით, სუბსტრატად აირჩიეთ ოქროსფერი ან შენადნობი, მინა, კერამიკა და პლასტმასი; 2. სუბსტრატის მასალის სტრუქტურა შეესაბამება ფი...დაწვრილებით -
ზედაპირის ფორმა და სუბსტრატის თერმული გაფართოების კოეფიციენტი ფილმზე
ფირის ზრდის შეფერხებას ძალიან მნიშვნელოვანი გავლენა აქვს. თუ სუბსტრატის ზედაპირის უხეშობა დიდია და უფრო და უფრო მეტად ერწყმის ზედაპირულ დეფექტებს, ეს გავლენას მოახდენს ფირის მიმაგრებასა და ზრდის ტემპზე. ამიტომ, ვაკუუმური საფარის გამოყენებამდე, სუბსტრატი წინასწარ დამუშავდება...დაწვრილებით -
წინააღმდეგობის გათბობის აორთქლების წყაროს მახასიათებლები, მოთხოვნები და მასალის შერჩევა
წინააღმდეგობის გათბობის აორთქლების წყაროს სტრუქტურა მარტივია, მარტივი გამოსაყენებელი, მარტივი დასამზადებელი და წარმოადგენს აორთქლების წყაროს ერთ-ერთ ყველაზე ფართოდ გამოყენებად სახეობას. მას ჩვეულებრივ სითბოს გენერატორს ან აორთქლების ნავს უწოდებენ. გათბობისთვის გამოყენებული წინააღმდეგობის მასალის მოთხოვნებია: მაღალი ტემპერატურა, წინაღობა,...დაწვრილებით -
აორთქლების წყაროს დიზაინი და პრობლემის გამოყენება
ვაკუუმური აორთქლებისა და ვაკუუმური იონის პროცესში, მემბრანული მასალა იქნება 1000 ~ 2000C მაღალ ტემპერატურაზე, ისე, რომ მისი Yanfa აორთქლების მოწყობილობა, რომელიც ცნობილია როგორც აორთქლების წყარო. აორთქლების წყაროს სხვა ტიპები, ნივრის თმის წყაროს აორთქლება მემბრანული მასალების სხვადასხვა პრ...დაწვრილებით -
პლასტმასის კოვზი PVD ვაკუუმური საფარის მანქანა
PVD (ფიზიკური ორთქლის დეპონირება) ვაკუუმური საფარი არის პროცესი, რომელიც იყენებს ვაკუუმურ კამერას მასალის თხელი ფენების სუბსტრატზე დასაფენად. ეს ტექნოლოგია ფართოდ გამოიყენება წარმოებაში სხვადასხვა პროდუქტის მუშაობისა და გარეგნობის გასაუმჯობესებლად და ამჟამად ასევე გამოიყენება პროდუქტებში...დაწვრილებით -
მრავალფუნქციური ვაკუუმური საფარის აღჭურვილობა
მრავალფუნქციური ვაკუუმური საფარის მოწყობილობა იყენებს უახლეს ტექნოლოგიას სხვადასხვა მასალაზე, მათ შორის ლითონებზე, მინასა და პლასტმასზე თხელი საფარის დასატანად. ეს პროცესი არა მხოლოდ აუმჯობესებს პროდუქციის ესთეტიკას, არამედ აუმჯობესებს მათ გამძლეობას და მუშაობას. შედეგად, მწარმოებელი...დაწვრილებით -
სანიტარული PVD ვაკუუმური საფარის აღჭურვილობა
სანიტარული მოწყობილობების PVD ვაკუუმური საფარის აღჭურვილობა რევოლუციურია სანიტარული პროდუქტების წარმოებაში. ეს მოწინავე ტექნოლოგია იყენებს ფიზიკურ ორთქლის დეპონირების (PVD) პროცესს სანიტარული პროდუქტების გამძლე და ხანგრძლივი საფარის შესაქმნელად. შედეგი არის მაღალი ხარისხის საფარი, რომელიც...დაწვრილებით -
ზუსტი ვაკუუმური საფარის აღჭურვილობა
ზუსტი ვაკუუმური საფარის მოწყობილობა გულისხმობს სპეციალურ მანქანა-დანადგარებს, რომლებიც თხელ ფენებსა და საფარებს სხვადასხვა მასალაზე უკიდურესად მაღალი სიზუსტით ატარებენ. პროცესი ვაკუუმურ გარემოში მიმდინარეობს, რაც გამორიცხავს მინარევებს და იწვევს საფარის წასმისას უმაღლესი ერთგვაროვნებისა და თანმიმდევრულობის მიღწევას...დაწვრილებით -
დიდი ჰორიზონტალური ვაკუუმური საფარის აღჭურვილობა
დიდი ჰორიზონტალური ვაკუუმური საფარის მოწყობილობის ერთ-ერთი მთავარი უპირატესობა მისი თხელი, ერთგვაროვანი საფარის დიდ, ბრტყელ სუბსტრატებზე წასმის შესაძლებლობაა. ეს განსაკუთრებით მნიშვნელოვანია ისეთ ინდუსტრიებში, როგორიცაა მინის წარმოება, სადაც დიდ ზედაპირზე საფარის თანმიმდევრული სისქის მიღწევა აუცილებელია...დაწვრილებით -
Watch Ion Gold-ის ვაკუუმური საფარის მანქანა
საათის იონური ოქროს ვაკუუმური საფარის აპარატის მუშაობის პრინციპია ფიზიკური ორთქლის დეპონირების (PVD) პროცესის გამოყენება საათის ნაწილების ზედაპირზე ოქროს თხელი ფენის დასაფენად. პროცესი გულისხმობს ოქროს ვაკუუმურ კამერაში გაცხელებას, რაც იწვევს მის აორთქლებას და შემდეგ ზედაპირზე კონდენსაციას...დაწვრილებით -
ნანო კერამიკული ვაკუუმური საფარის მანქანა
ნანოკერამიკული ვაკუუმური საფარის აპარატი წარმოადგენს ულტრათანამედროვე ტექნოლოგიას, რომელიც იყენებს ვაკუუმური დეპონირების პროცესს კერამიკული მასალების თხელი ფენების სხვადასხვა სუბსტრატზე დასაფენად. საფარის ეს მოწინავე მეთოდი მრავალ უპირატესობას გვთავაზობს, მათ შორის გაზრდილ სიმტკიცეს, გაუმჯობესებულ თერმულ სტაბილურობას და უმაღლეს...დაწვრილებით -
რამდენიმე გავრცელებული სამიზნე მასალა
1. ქრომის სამიზნე ქრომი, როგორც გაფრქვევის აპკის მასალა, არა მხოლოდ ადვილად ერწყმის სუბსტრატს მაღალი ადჰეზიით, არამედ ქრომისა და ოქსიდის მეშვეობით წარმოიქმნება CrO3 აპკი, მისი მექანიკური თვისებები, მჟავასადმი მდგრადობა და თერმული სტაბილურობა უკეთესია. გარდა ამისა, ქრომი არასრულ დაჟანგვაში...დაწვრილებით -
იონური სხივის დახმარებით დალექვის ტექნოლოგია
1. იონური სხივური დეპონირების ტექნოლოგია ხასიათდება მემბრანასა და სუბსტრატს შორის ძლიერი ადჰეზიით, მემბრანის ფენა ძალიან მტკიცეა. ექსპერიმენტები აჩვენებს, რომ: იონური სხივური დეპონირების ადჰეზია რამდენჯერმე გაიზარდა ასჯერ, ვიდრე თერმული ორთქლის დეპონირების ადჰეზია...დაწვრილებით -
რეაქტიული გაფრქვევის საფარის მახასიათებლები და გამოყენება
გაფრქვევით საფარის პროცესში, ნაერთების გამოყენება შესაძლებელია ქიმიურად სინთეზირებული ფირების მოსამზადებლად სამიზნეებად. თუმცა, სამიზნე მასალის გაფრქვევის შემდეგ წარმოქმნილი ფირის შემადგენლობა ხშირად მნიშვნელოვნად განსხვავდება სამიზნე მასალის თავდაპირველი შემადგენლობისგან და შესაბამისად...დაწვრილებით
