კეთილი იყოს თქვენი მობრძანება Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd-ში.
სიახლეები
-
პლაზმური გაძლიერებული ქიმიური ორთქლის დეპონირება თავი 1
ქიმიური ორთქლის დეპონირება (CVD). როგორც სახელიდან ჩანს, ეს არის ტექნიკა, რომელიც იყენებს აირისებრი წინამორბედი რეაქტანტების გამოყენებას მყარი აპკების წარმოსაქმნელად ატომური და მოლეკულათშორისი ქიმიური რეაქციების საშუალებით. PVD-სგან განსხვავებით, CVD პროცესი ძირითადად ხორციელდება მაღალი წნევის (დაბალი ვაკუუმის) გარემოში...დაწვრილებით -
პროცესის ელემენტები და მოქმედების მექანიზმები, რომლებიც გავლენას ახდენენ თხელი ფირის მოწყობილობების ხარისხზე (ნაწილი 2)
3. სუბსტრატის ტემპერატურის გავლენა სუბსტრატის ტემპერატურა მემბრანის ზრდის ერთ-ერთი მნიშვნელოვანი პირობაა. ის უზრუნველყოფს მემბრანის ატომების ან მოლეკულების დამატებით ენერგიას და ძირითადად გავლენას ახდენს მემბრანის სტრუქტურაზე, აგლუტინაციის კოეფიციენტზე, გაფართოების კოეფიციენტზე და აგრეგაციაზე...დაწვრილებით -
თხელი ფირის მოწყობილობების ხარისხზე მოქმედი პროცესის ფაქტორები და მექანიზმები (ნაწილი 1)
ოპტიკური თხელი აპკის მოწყობილობების წარმოება ვაკუუმურ კამერაში ხორციელდება და აპკის ფენის ზრდა მიკროსკოპული პროცესია. თუმცა, ამჟამად, მაკროსკოპული პროცესები, რომელთა პირდაპირი კონტროლი შესაძლებელია, არის ზოგიერთი მაკროსკოპული ფაქტორი, რომელსაც არაპირდაპირი კავშირი აქვს ხარისხთან...დაწვრილებით -
აორთქლების ტექნოლოგიის განვითარების ისტორიის შესავალი
მყარი მასალების მაღალი ვაკუუმის გარემოში გაცხელების პროცესი სუბლიმაციის ან აორთქლების მიზნით და მათი კონკრეტულ სუბსტრატზე თხელი ფენის მისაღებად დალექვის მიზნით ცნობილია, როგორც ვაკუუმური აორთქლების საფარი (მოხსენიებული, როგორც აორთქლების საფარი). თხელი ფენების ვაკუუმური აორთქლებით მიღების ისტორია...დაწვრილებით -
ITO საფარის შესავალი
ინდიუმის კალის ოქსიდი (ინდიუმის კალის ოქსიდი, ასევე ცნობილი როგორც ITO) არის ფართო ზოლური უფსკრულის მქონე, ძლიერ დოპირებული n-ტიპის ნახევარგამტარული მასალა, მაღალი ხილული სინათლის გამტარობით და დაბალი წინაღობის მახასიათებლებით, და ამიტომ ფართოდ გამოიყენება მზის უჯრედებში, ბრტყელპანელიან დისპლეებში, ელექტროქრომულ ფანჯრებში, არაორგანულ და ორგანულ...დაწვრილებით -
ლაბორატორიული ვაკუუმური დატრიალებული საფარის მანქანა
ლაბორატორიული ვაკუუმური სპინინგ-დამფარავი მოწყობილობები მნიშვნელოვანი ინსტრუმენტებია თხელი ფენის დაფენისა და ზედაპირის მოდიფიკაციის სფეროში. ეს მოწინავე აღჭურვილობა შექმნილია სხვადასხვა მასალის თხელი ფენების ზუსტად და თანაბრად დასატანად სუბსტრატებზე. პროცესი მოიცავს თხევადი ხსნარის ან სუსპენზიის გამოყენებას...დაწვრილებით -
იონური სხივის დახმარებით დეპონირების რეჟიმი და მისი ენერგიის შერჩევა
იონური სხივის დახმარებით დეპონირების ორი ძირითადი რეჟიმი არსებობს, ერთი დინამიური ჰიბრიდია; მეორე სტატიკური ჰიბრიდი. პირველი გულისხმობს, რომ ზრდის პროცესში აპკს ყოველთვის თან ახლავს იონური დაბომბვისა და აპკის გარკვეული ენერგია და სხივური დენა; ეს უკანასკნელი წინასწარ დეპონირდება ზედაპირზე...დაწვრილებით -
იონური სხივური დეპონირების ტექნოლოგია
① იონური სხივური დეპონირების ტექნოლოგია ხასიათდება აპკსა და სუბსტრატს შორის ძლიერი ადჰეზიით, აპკის ფენა ძალიან მტკიცეა. ექსპერიმენტებმა აჩვენა, რომ: იონური სხივური დეპონირების ადჰეზია რამდენჯერმე გაიზარდა თერმული ორთქლის დეპონირების ადჰეზიასთან შედარებით ასობითჯერ...დაწვრილებით -
ვაკუუმური იონური საფარი
ვაკუუმური იონური საფარი (მოხსენიებული, როგორც იონური მოოქროვება) შეერთებულ შტატებში 1963 წელს Somdia კომპანია DM Mattox-მა შემოგვთავაზა, 1970-იან წლებში კი ახალი ზედაპირული დამუშავების ტექნოლოგია სწრაფად განვითარდა. ეს გულისხმობს აორთქლების წყაროს ან გაფრქვევის სამიზნის გამოყენებას ვაკუუმურ ატმოსფეროში ისე, რომ ფილმი...დაწვრილებით -
დაფარული მინის ფირის ფენის მოხსნის გზა
დაფარული მინა იყოფა აორთქლებით დაფარულ, მაგნეტრონული გაფრქვევით დაფარულ და ხაზოვანი ორთქლით დალექილ დაფარულ მინად. რადგან ფირის მომზადების მეთოდი განსხვავებულია, ფირის მოხსნის მეთოდიც განსხვავებულია. წინადადება 1, მარილმჟავას და თუთიის ფხვნილის გამოყენება გასაპრიალებლად და გასაპრიალებლად...დაწვრილებით -
საჭრელი ხელსაწყოების საფარის როლი - თავი 2
ძალიან მაღალ ჭრის ტემპერატურაზეც კი, საჭრელი ხელსაწყოს გამოყენების ვადა შეიძლება გაიზარდოს საფარით, რითაც მნიშვნელოვნად შემცირდება დამუშავების ხარჯები. გარდა ამისა, საჭრელი ხელსაწყოს საფარი ამცირებს საპოხი სითხეების საჭიროებას. არა მხოლოდ ამცირებს მასალის ხარჯებს, არამედ ხელს უწყობს გარემოს დაცვას...დაწვრილებით -
საჭრელი ხელსაწყოების საფარის როლი - თავი 1
საჭრელი ხელსაწყოების საფარი აუმჯობესებს საჭრელი ხელსაწყოების ხახუნისა და ცვეთის თვისებებს, რის გამოც ისინი აუცილებელია ჭრის ოპერაციებში. მრავალი წლის განმავლობაში, ზედაპირის დამუშავების ტექნოლოგიების მომწოდებლები ავითარებდნენ მორგებულ საფარის გადაწყვეტილებებს საჭრელი ხელსაწყოების ცვეთისადმი მდგრადობის, დამუშავების ეფექტურობის გასაუმჯობესებლად...დაწვრილებით -
ვაკუუმურ სისტემაში სხვადასხვა ვაკუუმური ტუმბოების დანერგვა
სხვადასხვა ვაკუუმური ტუმბოების მუშაობას კამერაში ვაკუუმის გადატუმბვის უნარის გარდა სხვა განსხვავებებიც აქვს. ამიტომ, არჩევისას ძალიან მნიშვნელოვანია განვმარტოთ ტუმბოს მიერ ვაკუუმურ სისტემაში შესრულებული სამუშაო და შევაჯამოთ ტუმბოს როლი სხვადასხვა სამუშაო სფეროში...დაწვრილებით -
კერამიკული იატაკის ფილების შესასხურებელი ვაკუუმური საფარის მანქანა
გაფრქვევით შესხურებით ვაკუუმური საფარის აპარატი იყენებს მოწინავე ტექნოლოგიას კერამიკული იატაკის ფილებზე თხელი ფენის საფარის დასატანად. ეს პროცესი გულისხმობს ვაკუუმური კამერის გამოყენებას ფილების ზედაპირზე მეტალის ან ნაერთი საფარის დასატანად, რაც იწვევს გამძლე და ესთეტიურად სასიამოვნო დასრულებას...დაწვრილებით -
ავტონაწილების მეტალიზაციის ვაკუუმური საფარის მანქანა
ამ ტენდენციის განმაპირობებელი ერთ-ერთი მთავარი ფაქტორია ავტომობილის ნაწილებზე მაღალი ხარისხის საფარის გამოყენების მნიშვნელობის შესახებ მზარდი ცნობიერება. ეს საფარი არა მხოლოდ აუმჯობესებს ნაწილების ესთეტიკას, არამედ უზრუნველყოფს დაცვას კოროზიისა და ცვეთისგან, რაც საბოლოო ჯამში ახანგრძლივებს ავტომობილის ნაწილის სიცოცხლის ხანგრძლივობას...დაწვრილებით
