Mga Elemento sa Proseso ug mga Mekanismo sa Aksyon nga Nakaapekto sa Kalidad sa mga Thick Film Device (Bahin 2)

3. Impluwensya sa temperatura sa substrate

Ang temperatura sa substrate usa sa mga importanteng kondisyon para sa pagtubo sa membrane. Naghatag kini og dugang nga enerhiya para sa mga atomo o molekula sa membrane, ug kasagaran makaapekto sa istruktura sa membrane, agglutination coefficient, expansion coefficient ug aggregation density. Ang macroscopic reflection sa film refractive index, scattering, stress, adhesion, hardness ug insolubility magkalahi kaayo tungod sa lain-laing temperatura sa substrate.

(1) Bugnaw nga substrate: kasagarang gigamit para sa pag-alisngaw sa metal film.

(2) Mga bentaha sa taas nga temperatura:

① Ang nahibiling mga molekula sa gas nga nasuhop sa ibabaw sa substrate gikuha aron madugangan ang puwersa sa pagbugkos tali sa substrate ug sa mga nadeposito nga molekula;

(2) Pagpalambo sa pagbag-o sa pisikal nga adsorption ngadto sa chemisorption sa film layer, pagpalambo sa interaksyon tali sa mga molekula, paghimo sa film nga hugot, pagdugang sa adhesion ug pagpalambo sa mekanikal nga kusog;

③ Pakunhuran ang kalainan tali sa temperatura sa vapor molecular recrystallization ug sa temperatura sa substrate, pauswaga ang densidad sa film layer, dugangan ang katig-a sa film layer aron mawagtang ang internal stress.

(3) Ang disbentaha sa sobra ka taas nga temperatura: ang istruktura sa layer sa pelikula mausab o ang materyal sa pelikula madunot.

4. Mga epekto sa pagpamomba sa ion

Pagbomba human sa plating: pagpaayo sa aggregation density sa film, pagpausbaw sa kemikal nga reaksyon, pagdugang sa refractive index sa oxide film, mekanikal nga kusog ug resistensya ug adhesion. Ang light damage threshold motaas.
5. Ang impluwensya sa materyal sa substrate

(1) Ang lain-laing expansion coefficient sa substrate material mosangpot sa lain-laing thermal stress sa film;

(2) Ang lain-laing kemikal nga pagkaangay makaapekto sa pagtapot ug kalig-on sa pelikula;

(3) Ang kagaspang ug mga depekto sa substrate mao ang pangunang mga tinubdan sa thin film scattering.
6. Epekto sa paglimpyo sa substrate

Ang nahibiling hugaw ug detergent sa ibabaw sa substrate mosangpot sa: (1) dili maayong pagtapot sa film sa substrate; ② Motaas ang pagsuhop sa scattering, dili maayo ang abilidad sa anti-laser; ③ Dili maayong performance sa pagpasa sa kahayag.

Ang kemikal nga komposisyon (mga tipo sa kaputli ug kahugaw), pisikal nga kahimtang (pulbos o bloke), ug pretreatment (vacuum sintering o forging) sa materyal sa pelikula makaapekto sa istruktura ug performance sa pelikula.

8. Impluwensya sa pamaagi sa pag-alisngaw

Ang inisyal nga kinetic energy nga gihatag sa lainlaing mga pamaagi sa pag-alisngaw aron ma-vaporize ang mga molekula ug atomo managlahi kaayo, nga miresulta sa usa ka dako nga kalainan sa istruktura sa pelikula, nga gipakita isip kalainan sa refractive index, scattering ug adhesion.

9. Impluwensya sa Anggulo sa Pagdagsa sa Aw-as

Ang anggulo sa pag-abot sa alisngaw nagtumong sa anggulo tali sa direksyon sa molekular nga radyasyon sa alisngaw ug sa normal nga nawong sa giputos nga substrate, nga makaapekto sa mga kinaiya sa pagtubo ug densidad sa aggregation sa pelikula, ug adunay dakong impluwensya sa refractive index ug scattering nga mga kinaiya sa pelikula. Aron makakuha og taas nga kalidad nga mga pelikula, kinahanglan nga kontrolon ang anggulo sa pagpagawas sa mga molekula sa alisngaw sa materyal sa pelikula, nga sa kinatibuk-an kinahanglan nga limitado sa 30°.

10. Mga epekto sa pagluto

Ang heat treatment sa pelikula sa atmospera makatabang sa pagpagawas sa stress ug thermal migration sa mga ambient gas molecule ug sa mga film molecule, ug makahimo sa istruktura sa film recombination, busa kini adunay dakong impluwensya sa refractive index, stress ug hardness sa pelikula.