3. Негіз температурасының әсері
Субстрат температурасы мембрана өсуінің маңызды шарттарының бірі болып табылады. Ол мембрана атомдарына немесе молекулаларына қосымша энергия береді және негізінен мембрана құрылымына, агглютинация коэффициентіне, кеңею коэффициентіне және агрегация тығыздығына әсер етеді. Субстрат температурасының әртүрлілігіне байланысты пленканың сыну көрсеткішіндегі макроскопиялық шағылысу, шашырауы, кернеуі, адгезиясы, қаттылығы және ерімейтіндігі айтарлықтай ерекшеленеді.
(1) Суық субстрат: әдетте металл пленкасын булау үшін қолданылады.
(2) Жоғары температураның артықшылықтары:
① Субстрат бетінде адсорбцияланған қалдық газ молекулалары субстрат пен тұндырылған молекулалар арасындағы байланыстырушы күшті арттыру үшін жойылады;
(2) Физикалық адсорбцияның пленка қабатының хемосорбциясына айналуын ынталандыру, молекулалар арасындағы өзара әрекеттесуді күшейту, пленканы тығыздау, адгезияны арттыру және механикалық беріктікті жақсарту;
③ Бу молекулалық қайта кристалдану температурасы мен субстрат температурасы арасындағы айырмашылықты азайтыңыз, пленка қабатының тығыздығын жақсартыңыз, ішкі кернеуді жою үшін пленка қабатының қаттылығын арттырыңыз.
(3) Тым жоғары температураның кемшілігі: пленка қабатының құрылымы өзгереді немесе пленка материалы ыдырайды.
4. Иондық бомбалаудың әсері
Қаптағаннан кейін бомбалау: пленканың агрегация тығыздығын жақсартады, химиялық реакцияны күшейтеді, оксид пленкасының сыну көрсеткішін, механикалық беріктігі мен кедергісін және адгезиясын арттырады. Жарықтың зақымдану шегі артады.
5. Субстрат материалының әсері
(1) Негіз материалының кеңею коэффициентінің әртүрлілігі пленканың жылулық кернеуінің әртүрлі болуына әкеледі;
(2) Әртүрлі химиялық жақындық пленканың адгезиясына және қаттылығына әсер етеді;
(3) Негіздің кедір-бұдырлығы мен ақаулары жұқа қабықша шашырауының негізгі көздері болып табылады.
6. Негізді тазалаудың әсері
Негіз бетіндегі кір мен жуғыш заттың қалдықтары мыналарға әкеледі: (1) пленканың негізге нашар адгезиялануы; 2 Шашыраудың сіңуі артады, лазерге қарсы қабілеті нашар; 3 Жарық өткізгіштігінің нашарлауы.
Пленка материалының химиялық құрамы (тазалық және қоспа түрлері), физикалық күйі (ұнтақ немесе блок) және алдын ала өңдеу (вакуумдық күйдіру немесе соғу) пленканың құрылымы мен өнімділігіне әсер етеді.
8. Буландыру әдісінің әсері
Молекулалар мен атомдарды булау үшін әртүрлі булану әдістерімен қамтамасыз етілетін бастапқы кинетикалық энергия өте әртүрлі, бұл пленканың құрылымында үлкен айырмашылыққа әкеледі, бұл сыну көрсеткішінің, шашыраудың және адгезияның айырмашылығы ретінде көрінеді.
9. Будың түсу бұрышының әсері
Бу түсу бұрышы бу молекулалық сәулелену бағыты мен жабынды негіздің беткі нормалы арасындағы бұрышты білдіреді, бұл пленканың өсу сипаттамалары мен агрегация тығыздығына әсер етеді және пленканың сыну көрсеткіші мен шашырау сипаттамаларына үлкен әсер етеді. Жоғары сапалы пленкалар алу үшін пленка материалының бу молекулаларының адам шығарындыларының бұрышын бақылау қажет, ол әдетте 30°-пен шектелуі керек.
10. Пісірудің әсері
Атмосферада пленканы термиялық өңдеу қоршаған ортадағы газ молекулалары мен пленка молекулаларының кернеуді босатуға және жылулық миграцияға ықпал етеді және пленканың құрылымын рекомбинациялауға мүмкіндік береді, сондықтан ол пленканың сыну көрсеткішіне, кернеуіне және қаттылығына үлкен әсер етеді.
Жарияланған уақыты: 2024 жылғы 29 наурыз