S rastućim razvojem tehnologije raspršivanja, posebno magnetronskog raspršivanja, trenutno se za bilo koji materijal može pripremiti ciljni film bombardiranjem ionima. Budući da se meta raspršuje tijekom procesa nanošenja na neku vrstu podloge, kvaliteta izmjerenog filma ima važan utjecaj, stoga su zahtjevi za ciljni materijal također stroži. Prilikom odabira ciljnog materijala, osim same upotrebe filma, treba uzeti u obzir i sljedeća pitanja:
Ciljni materijal trebao bi imati dobru mehaničku čvrstoću i kemijsku stabilnost nakon filma;
Meta i podloga moraju biti čvrsto spojeni, inače treba uzeti s podlogom dobru kombinaciju membranskog sloja, prvo raspršiti osnovni film, a zatim pripremiti potreban membranski sloj;
Kao reakcija raspršivanja u membranski materijal mora lako reagirati s plinom kako bi se stvorio složeni film.
Pod pretpostavkom ispunjavanja zahtjeva za performanse membrane, razlika između koeficijenta toplinskog širenja ciljanog materijala i podloge je što manja, kako bi se smanjio utjecaj toplinskog naprezanja na raspršenu membranu.
Prema zahtjevima upotrebe i performansi membrane, ciljni materijal mora ispunjavati čistoću, sadržaj nečistoća, ujednačenost komponenti, točnost obrade i druge tehničke zahtjeve.
–Ovaj članak objavljujeproizvođač strojeva za vakuumsko premazivanjeGuangdong Zhenhua
Vrijeme objave: 09.01.2024.