Mei de tanimmende ûntwikkeling fan sputtercoating, benammen magnetron-sputtercoatingtechnology, kin op it stuit foar elk materiaal taret wurde troch ionbombardemint-doelfilm, om't it doel sputtere wurdt yn it proses fan it coaten op in soarte substraat, hat de kwaliteit fan 'e mjitten film in wichtige ynfloed, dêrom binne de easken foar it doelmateriaal ek stranger. By de seleksje fan doelmateriaal moat, neist it gebrûk fan 'e film sels, ek rekken holden wurde mei de folgjende saken:
It doelmateriaal moat nei de film in goede meganyske sterkte en gemyske stabiliteit hawwe;
It doel en it substraat moatte stevich kombinearre wurde, oars moat it nommen wurde mei it substraat dat in goede kombinaasje fan membraanlaach hat, earst in basisfilm sputterje en dan de tarieding fan 'e fereaske membraanlaach;
As in reaksje moat sputterjen yn it membraanmateriaal maklik reagearje kinne mei it gas om in gearstalde film te generearjen.
Under it útgongspunt fan it foldwaan oan de prestaasjeeasken fan it membraan, is it ferskil tusken de termyske útwreidingskoëffisjint fan it doelmateriaal en it substraat sa lyts mooglik, om de ynfloed fan termyske stress op it sputterde membraan te minimalisearjen.
Neffens de gebrûks- en prestaasjeeasken fan it membraan moat it doelmateriaal foldwaan oan de suverens, ûnreinheidsgehalte, komponintuniformiteit, ferwurkingsnauwkeurigens en oare technyske easken.
– Dit artikel wurdt útjûn trochfabrikant fan fakuümcoatingmasinesGuangdong Zhenhua
Pleatsingstiid: Jan-09-2024