PRODUKTBESCHREIBUNG
Die Anlage CF1914 ist ausgestattet mit einem Mittelfrequenz-Magnetron-Sputterbeschichtungssystem + Anodenschicht-Ionenquelle + SPEEDFLO-Regelkreissteuerung + Kristallkontroll-Überwachungssystem.
Die Mittelfrequenz-Magnetron-Sputtertechnologie dient zur Abscheidung verschiedener Oxide. Im Vergleich zu herkömmlichen Elektronenstrahlverdampfungsanlagen bietet CF1914 eine höhere Beladungskapazität und eignet sich für Produkte mit vielfältigen Formen. Der Beschichtungsfilm zeichnet sich durch höhere Dichte, stärkere Haftung und geringe Adsorption von Wasserdampfmolekülen aus und behält seine optischen Eigenschaften in unterschiedlichen Umgebungen stabiler bei.
Die Anlage eignet sich für Glas, Kristall, Keramik und temperaturbeständige Kunststoffprodukte. Sie kann verschiedene Oxide und einfache Metalle abscheiden und glänzende Farbschichten, Farbverlaufsschichten und andere dielektrische Schichten herstellen. Die Anlage findet breite Anwendung bei Parfümflaschen, Kosmetikglasflaschen, Lippenstiftkappen, Kristallornamenten, Sonnenbrillen, Skibrillen, Beschlägen und anderen Dekorationsartikeln.
Optionale Modelle
| CF1914 | CF1716 |
| φ1900*H1400(mm)
| φ1700*H1600(mm)
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