Cù u sviluppu crescente di u rivestimentu per sputtering, in particulare a tecnulugia di rivestimentu per sputtering magnetron, attualmente, ogni materiale pò esse preparatu per mezu di un film di destinazione per bombardamentu ionicu, postu chì u bersagliu hè sputterizatu durante u prucessu di rivestimentu nantu à qualchì tipu di substratu, a qualità di u film misuratu hà un impattu impurtante, dunque, i requisiti per u materiale di destinazione sò ancu più severi. In a selezzione di u materiale di destinazione, in più di l'usu di u film stessu deve esse sceltu, si devenu ancu cunsiderà i seguenti punti:
U materiale di destinazione deve avè una bona resistenza meccanica è stabilità chimica dopu à u filmu;
U bersagliu è u sustratu devenu esse fermamente cumminati, altrimenti si deve piglià cù u sustratu chì hà una bona cumbinazione di stratu di membrana, prima sputtering un film di basa è dopu a preparazione di u stratu di membrana necessariu;
Cum'è una reazione, a sputtering in u materiale di a membrana deve esse faciule da reagisce cù u gasu per generà una film cumposta.
Sottu a premessa di risponde à i requisiti di prestazione di a membrana, a differenza trà u coefficientu di dilatazione termica di u materiale di destinazione è u substratu hè a più chjuca pussibule, in modu da minimizà l'influenza di u stress termicu nantu à a membrana sputterizzata.
Sicondu i requisiti d'usu è di prestazione di a membrana, u materiale di destinazione deve risponde à a purezza, u cuntenutu d'impurità, l'uniformità di i cumpunenti, a precisione di machinazione è altri requisiti tecnichi.
–Questu articulu hè statu publicatu dafabricatore di macchine di rivestimentu à vuotoGuangdong Zhenhua
Data di publicazione: 9 di ghjennaghju di u 2024