1. Tecnologia CVD tèrmica
Els recobriments durs són majoritàriament recobriments metàl·lics-ceràmics (TiN, etc.), que es formen per la reacció del metall en el recobriment i la gasificació reactiva. Inicialment, la tecnologia CVD tèrmica es va utilitzar per proporcionar l'energia d'activació de la reacció combinada mitjançant energia tèrmica a una temperatura elevada de 1000 ℃. Aquesta temperatura només és adequada per dipositar TiN i altres recobriments durs en eines de carbur cimentat. Fins ara, encara és una tecnologia important dipositar recobriments compostos de TiN-Al20 en capçals d'eines de carbur cimentat.
2. Recobriment d'ions de càtode buit i recobriment d'ions d'arc de fil calent
A la dècada del 1980, es van utilitzar recobriments d'ions de càtode buit i recobriments d'ions d'arc de fil calent per dipositar eines de tall recobertes. Ambdues tecnologies de recobriment d'ions són tecnologies de recobriment d'ions de descàrrega d'arc, amb una taxa d'ionització de metalls de fins al 20%~40%.
3. Recobriment d'ions d'arc catòdic
L'aparició del recobriment d'ions d'arc catòdic ha conduït al desenvolupament de la tecnologia de dipòsit de recobriments durs en motlles. La taxa d'ionització del recobriment d'ions d'arc catòdic és del 60% al 90%, cosa que permet que un gran nombre d'ions metàl·lics i ions de gas de reacció arribin a la superfície de la peça i mantinguin una alta activitat, cosa que resulta en la deposició de reacció i la formació de recobriments durs com el TiN. Actualment, la tecnologia de recobriment d'ions d'arc catòdic s'utilitza principalment per dipositar recobriments durs en motlles.
La font d'arc catòdic és una font d'evaporació d'estat sòlid sense un bany fos fix, i la posició de la font d'arc es pot col·locar arbitràriament, millorant la taxa d'utilització de l'espai de la sala de recobriment i augmentant la capacitat de càrrega del forn. Les formes de les fonts d'arc catòdic inclouen petites fonts d'arc catòdic circulars, fonts d'arc columnar i fonts d'arc gran rectangulars planes. Diferents components de fonts d'arc petites, fonts d'arc columnar i fonts d'arc gran es poden disposar per separat per dipositar pel·lícules multicapa i nanopel·lícules multicapa. Mentrestant, a causa de l'alta taxa d'ionització metàl·lica del recobriment d'ions d'arc catòdic, els ions metàl·lics poden absorbir més gasos de reacció, donant lloc a un ampli rang de processos i un funcionament senzill per obtenir recobriments durs excel·lents. Tanmateix, hi ha gotes gruixudes a la microestructura de la capa de recobriment obtinguda mitjançant el recobriment d'ions d'arc catòdic. En els darrers anys, han sorgit moltes tecnologies noves per refinar l'estructura de la capa de pel·lícula, cosa que ha millorat la qualitat de la pel·lícula de recobriment d'ions d'arc.
——Aquest article ha estat publicat per Guangdong Zhenhua Technology, una empresafabricant de màquines de recobriment òptic.
Data de publicació: 28 d'abril de 2023