Рост плёнкі мае вельмі важны ўплыў. Калі шурпатасць паверхні падкладкі вялікая і ў спалучэнні з паверхневымі дэфектамі ўсё больш уплывае на хуткасць прымацавання і росту плёнкі. Такім чынам, перад пачаткам вакуумнага пакрыцця падкладка будзе папярэдне апрацавана, што ўплывае на шурпатасць паверхні падкладкі. Пасля ультрагукавога ўздзеяння на паверхні падкладкі ўтвараецца невялікая драпіна, што павялічвае плошчу кантакту часціц тонкай плёнкі з паверхняй падкладкі, што можа значна павялічыць трываласць ротара і спалучэння мембраннай асновы.
Для большасці матэрыялаў падкладкі, па меры памяншэння шурпатасці падкладкі, адгезія плёнкі павялічваецца, гэта значыць сіла звязвання мембраны з асновай становіцца мацнейшай; ёсць таксама некаторыя матэрыялы падкладкі, якія з'яўляюцца асаблівымі выпадкамі, напрыклад, пры звязванні плёнкі з керамічнай асновай. Пры зніжэнні ступені, гэта значыць сіла звязвання мембраны з асновай слабее.
Сярод фактараў, якія ўплываюць на плёнку і плёнку, вырашальную ролю адыгрывае каэфіцыент цеплавога аб'ёму. Калі каэфіцыент цеплавога пашырэння плёнкі большы за каэфіцыент цеплавога пашырэння матрыцы, крутоўны момант адмоўны, а максімальнае нацяжэнне прыпадае на свабодную мяжу. Блізка да цэнтра цэнтр сціскаецца, і плёнка можа выглядаць слаістай. Возьмем у якасці прыкладу тонкую плёнку асадкавага тыпу Скінуса. Паколькі каэфіцыент цеплавога пашырэння алмаза малы, пасля заканчэння газафазнага адкладання тэмпература падкладкі зніжаецца з больш высокай асадкавай тэмпературы да пакаёвай, і сцісканне алмаза памяншаецца ў параўнанні з падкладкай. Унутры ўзнікае вялікае цеплавое напружанне. Калі каэфіцыент цеплавога пашырэння плёнкі меншы за каэфіцыент награвальнай лінейкі падкладкі, крутоўны момант дадатны, і плёнку цяжка наносіць слаістай.
–Гэты артыкул апублікаванывытворца вакуумных пакрыццяўГуандун Чжэньхуа
Час публікацыі: 29 лютага 2024 г.