በማግኔትሮን ስፑተርቲንግ ውስጥ የመግነጢሳዊ መስክ ሚና

የማግኔትሮን መትረፍ በዋነኛነት የመልቀቂያ ፕላዝማ ማጓጓዝ፣ ዒላማ ማሳከክ፣ ቀጭን ፊልም ማስቀመጥ እና ሌሎች ሂደቶችን ያጠቃልላል፣ በማግኔትሮን የማፍሰስ ሂደት ላይ ያለው መግነጢሳዊ መስክ ተጽእኖ ይኖረዋል። በማግኔትሮን sputtering ሥርዓት እና orthogonal መግነጢሳዊ መስክ ውስጥ, ኤሌክትሮኖች Lorentz ኃይል ሚና ተገዢ ናቸው እና spiral trajectory እንቅስቃሴ ማድረግ, ቀስ በቀስ ወደ anode ለማንቀሳቀስ የማያቋርጥ ግጭት ውስጥ ማለፍ አለባቸው, በግጭቱ ምክንያት የኃይል ትንሽ ከሆነ በኋላ anode ለመድረስ የኤሌክትሮን አካል ያደርገዋል, substrate ላይ ያለውን የቦምብ ሙቀት ደግሞ ትልቅ አይደለም. በተጨማሪም ፣ በኤሌክትሮን በዒላማው መግነጢሳዊ መስክ ገደቦች ምክንያት ፣ በመፍሰሻ አውራ ጎዳና ውስጥ ባለው ክልል ውስጥ ያለው መግነጢሳዊ ተፅእኖ በታለመው ወለል ውስጥ ይህ የአካባቢ አነስተኛ የኤሌክትሮን ትኩረት በጣም ከፍተኛ ነው ፣ እና ከመሬቱ ወለል ውጭ ባለው ክልል መግነጢሳዊ ተፅእኖ ውስጥ ፣ በተለይም በመሬቱ አቅራቢያ ካለው መግነጢሳዊ መስክ ርቆ ፣ የኤሌክትሮን ትኩረት በጣም ዝቅተኛ እና በአንጻራዊነት ተመሳሳይነት ባለው ስርጭት ምክንያት የኤሌክትሮን ትኩረትን በጣም ዝቅተኛ እና በአንፃራዊነት ወጥነት ባለው ጋዝ ስርጭት ምክንያት ፣ እና የሁለትዮሽ የአየር ግፊት ልዩነት እንኳን ዝቅተኛ ነው ። የክብደት ቅደም ተከተል)። የኤሌክትሮኖች ዝቅተኛ መጠጋጋት የመሬቱን ወለል ላይ ቦምብ ይወርዳሉ ፣ ስለሆነም በዝቅተኛ የሙቀት መጠን መጨመር ምክንያት የንጥረ-ነገር ቦምብ ዝቅተኛ ነው ፣ ይህም የማግኔትሮን የሚረጭ substrate የሙቀት መጨመር ዋና ዘዴ ነው። በተጨማሪም የኤሌክትሪክ መስክ ብቻ ከሆነ ኤሌክትሮኖች በጣም አጭር ርቀት ከደረሱ በኋላ ወደ አኖድ ይደርሳሉ, እና ከሚሰራው ጋዝ ጋር የመጋጨት እድሉ 63.8% ብቻ ነው. እና መግነጢሳዊ መስክን ይጨምሩ ፣ ኤሌክትሮኖች ክብ እንቅስቃሴን ለመስራት ወደ anode በሚንቀሳቀሱበት ጊዜ ፣ ​​መግነጢሳዊ መስክ የታሰሩ እና የኤሌክትሮኖች አቅጣጫን ያራዝማሉ ፣ የኤሌክትሮኖች እና የስራ ጋዞች የመጋጨት እድልን በእጅጉ ያሻሽላል ፣ ይህም ionization ፣ ionization እና ከዚያ እንደገና ኤሌክትሮኖችን ማምረት የግጭት ሂደትን ሊቀላቀሉ ይችላሉ ። መጠን, эlektronov эlektronov эffektyvnыm አጠቃቀም, እና ከፍተኛ ጥግግት ምስረታ ውስጥ ፕላዝማ ጥግግት anomalnыm ፍካት መፍሰስ ፕላዝማ ውስጥ ይጨምራል. ከዒላማው የሚወጣው አተሞች መጠንም ይጨምራል፣ እና ኢላማውን በአዎንታዊ ionዎች ቦምብ በመወርወር ምክንያት የሚፈጠረው ዒላማ መትፋት የበለጠ ውጤታማ ነው፣ ይህም የማግኔትሮን የመትከል መጠን ከፍተኛ ነው። በተጨማሪም, መግነጢሳዊ መስክ መገኘት ደግሞ ዝቅተኛ የአየር ግፊት ላይ የሚሠራውን sputtering ሥርዓት, ዝቅተኛ 1 ለ የአየር ግፊት ወደ ሰገባው ንብርብር ክልል ውስጥ ያለውን ግጭት ለመቀነስ, ዒላማው በአንጻራዊ ሁኔታ ትልቅ kinetic ኃይል ጋር ቦምብ, እና ቀን ተበታተኑ ዒላማ አቶሞች እና ገለልተኛ ጋዝ ግጭት ለመቀነስ, ወደ ዒላማው አተሞች ወደ ዒላማው ወለል ወይም ወደ ዒላማው ወለል እንዳይበታተን ለመከላከል, ወደ ዒላማው አተሞች ወደ ኋላ እንዳይበታተን ለመከላከል. የቀጭኑ ፊልም አቀማመጥ መጠን እና ጥራት.

የዒላማው መግነጢሳዊ መስክ የኤሌክትሮኖችን አቅጣጫ በትክክል ሊገድበው ይችላል, ይህ ደግሞ በፕላዝማ ባህሪያት እና በዒላማው ላይ የ ions ን መውጣቱን ይነካል.

ዱካ: የዒላማው መግነጢሳዊ መስክ ተመሳሳይነት መጨመር የታለመውን ወለል ማሳከክ ተመሳሳይነት ሊጨምር ይችላል, ስለዚህም የታለመውን ቁሳቁስ አጠቃቀም ያሻሽላል; ምክንያታዊ የኤሌክትሮማግኔቲክ መስክ ስርጭትም የመትፋቱን ሂደት መረጋጋት ውጤታማ በሆነ መንገድ ያሻሽላል። ስለዚህ, ለማግኔትሮን ስፒተር ኢላማ, የመግነጢሳዊ መስክ መጠን እና ስርጭት እጅግ በጣም አስፈላጊ ነው.

- ይህ ጽሑፍ የተለቀቀው በየቫኩም ሽፋን ማሽን አምራችጓንግዶንግ ዠንዋ