TiN là lớp phủ cứng đầu tiên được sử dụng trong các công cụ cắt, với những ưu điểm như độ bền cao, độ cứng cao và khả năng chống mài mòn. Đây là vật liệu phủ cứng đầu tiên được công nghiệp hóa và sử dụng rộng rãi, được sử dụng rộng rãi trong các công cụ phủ và khuôn phủ. Lớp phủ cứng TiN ban đầu được lắng đọng ở 1000 ℃ bằng công nghệ CVD nhiệt. Bây giờ nó có thể đạt được ở 500 ℃ bằng lớp phủ ion hồ quang catốt, lớp phủ phun Magnetron, lớp phủ ion catốt rỗng, lớp phủ ion hồ quang dây nóng, PECVD và các công nghệ khác. Lớp phủ này đã được sử dụng trong một thời gian dài trong quá trình xử lý vật liệu kim loại làm cứng bề mặt và sản xuất khuôn mẫu của các công cụ tạo hình và khuôn thép tốc độ cao. Việc lắng đọng TiN ở 500 ℃ đã tiên phong trong việc lắng đọng các công cụ cắt được phủ bằng công nghệ phủ ion. Trên cơ sở này, nhiều loại lớp phủ cứng với nhiều thành phần khác nhau đã được phát triển để đáp ứng nhu cầu phát triển của ngành công nghiệp chế biến cao cấp: lớp phủ cứng có độ cứng thông thường nhị phân, tam phân và tứ phân dựa trên nitrit và cacbua đã được phát triển trên cơ sở TiN, cũng như lớp phủ nano siêu cứng dựa trên các lớp phủ cứng này, cũng như lớp phủ siêu cứng nội tại có độ cứng cực cao.
Chỉ số hiệu suất chính của lớp phủ cứng là độ cứng. Theo độ cứng của lớp phủ, lớp phủ cứng có thể được chia thành ba loại: lớp phủ cứng thông thường, lớp phủ nano siêu cứng và lớp phủ siêu cứng/cực cứng nội tại, như thể hiện trong bảng sau.
– Bài viết này được đăng tải bởi Guangdong Zhenhua,một nhà sản xuất máy phủ cứng.
Thời gian đăng: 07-06-2023