Proces priamej polymerizácie plazmou Proces plazmovej polymerizácie je relatívne jednoduchý pre zariadenia na polymerizáciu s vnútornou elektródou aj pre zariadenia na polymerizáciu s vonkajšou elektródou, ale výber parametrov je pri plazmovej polymerizácii dôležitejší, pretože parametre majú väčší...
Technológia plazmového chemického nanášania z pár s využitím oblúka s horúcim drôtom využíva na vyžarovanie oblúkovej plazmy oblúkovú pištoľ s horúcim drôtom, skrátene nazývanú technológia PECVD s horúcim drôtom. Táto technológia je podobná technológii iónového nanášania oblúkom s horúcim drôtom, ale rozdiel je v tom, že pevný film získaný...
1. Technológia tepelného CVD Tvrdé povlaky sú väčšinou kovovo-keramické povlaky (TiN atď.), ktoré vznikajú reakciou kovu v povlaku a reaktívnym splyňovaním. Technológia tepelného CVD sa spočiatku používala na zabezpečenie aktivačnej energie kombinovanej reakcie tepelnou energiou pri ...
Nanášanie náterov odporovým odparovaním je základná metóda vákuového odparovania. „Odparovanie“ označuje metódu prípravy tenkého filmu, pri ktorej sa náterový materiál vo vákuovej komore zahrieva a odparuje, takže atómy alebo molekuly materiálu sa odparujú a unikajú z...
Technológia katódového oblúkového iónového pokovovania využíva technológiu oblúkového výboja v studenom poli. Najstaršiu aplikáciu technológie oblúkového výboja v studenom poli v oblasti pokovovania vykonala spoločnosť Multi Arc Company v Spojených štátoch. Anglický názov tohto postupu je oblúkové iónové pokovovanie (AIP). Katódové oblúkové iónové pokovovanie...
Existuje mnoho typov substrátov pre okuliare a šošovky, ako napríklad CR39, PC (polykarbonát), 1,53 Trivex156, plast so stredným indexom lomu, sklo atď. Pri korekčných šošovkách je priepustnosť živicových aj sklenených šošoviek iba približne 91 % a časť svetla sa odráža späť od dvoch ...
1. Film vákuového povlaku je veľmi tenký (normálne 0,01 – 0,1 μm) | 2. Vákuové povlakovanie sa môže použiť na mnoho plastov, ako napríklad ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA atď. 3. Teplota tvorby filmu je nízka. V železiarskom a oceliarskom priemysle je teplota povlaku pri žiarovom zinkovaní zvyčajne medzi 400 ℃ a ...
Po objavení fotovoltaického efektu v Európe v roku 1863 vyrobili Spojené štáty v roku 1883 prvý fotovoltaický článok s (Se). V počiatkoch sa fotovoltaické články používali hlavne v leteckom priemysle, armáde a iných oblastiach. V posledných 20 rokoch prudko klesli náklady na fotovoltaické...
1. Čistenie substrátu bombardovaním 1.1) Naprašovací stroj používa na čistenie substrátu tlmivý výboj. To znamená, že sa do komory vpustí argónový plyn, výbojové napätie je okolo 1000 V. Po zapnutí napájania sa vygeneruje tlmivý výboj a substrát sa vyčistí ...
Aplikácia optických tenkých vrstiev v spotrebnej elektronike, ako sú mobilné telefóny, sa posunula od tradičných objektívov fotoaparátov k diverzifikovanému smeru, ako sú objektívy fotoaparátov, ochranné filtre objektívov, filtre na infračervené žiarenie (IR-CUT) a povlaky NCVM na krytoch batérií mobilných telefónov. Špecifikácie fotoaparátu...
Technológia CVD povlakovania má nasledujúce charakteristiky: 1. Procesná prevádzka CVD zariadenia je relatívne jednoduchá a flexibilná a umožňuje prípravu jednoduchých alebo kompozitných fólií a zliatinových fólií s rôznymi pomermi; 2. CVD povlakovanie má širokú škálu aplikácií a možno ho použiť na pred...
Proces vákuového nanášania sa delí na: vákuové naparovanie, vákuové naprašovanie a vákuové iónové nanášanie. 1. Vákuové naparovanie. Za vákuových podmienok sa materiál, ako napríklad kov, kovová zliatina atď., odparí a potom sa nanesie na povrch substrátu...
1. Čo je proces vákuového nanášania? Aká je jeho funkcia? Takzvaný proces vákuového nanášania využíva odparovanie a naprašovanie vo vákuovom prostredí na emitovanie častíc filmového materiálu, ktoré sa nanášajú na kov, sklo, keramiku, polovodiče a plastové diely a vytvárajú tak povlakovú vrstvu na dekoráciu...
Keďže vákuové nanášacie zariadenie pracuje vo vákuových podmienkach, musí spĺňať požiadavky vákua pre dané prostredie. Priemyselné normy pre rôzne typy vákuových nanášacích zariadení formulované v mojej krajine (vrátane všeobecných technických podmienok pre vákuové nanášacie zariadenia,...
Typ filmu Materiál filmu Substrát Vlastnosti filmu a použitie Kovový film CrAI, ZnPtNi Au, Cu, AI P, Au Au, W, Ti, Ta Ag, Au, AI, Pt oceľ, mäkká oceľTitánová zliatina, vysoko uhlíková oceľ, mäkká oceľTitánová zliatinaTvrdý skloplastNikel, Inconel oceľ, nehrdzavejúca oceľ kremík Proti opotrebovaniu ...