마그네트론 스퍼터링 원리: 전자는 전기장의 작용으로 기판으로 가속되는 과정에서 아르곤 원자와 충돌하여 많은 아르곤 이온과 전자를 이온화하고, 전자는 기판으로 날아갑니다. 아르곤 이온은 전기장의 작용으로 가속되어 타겟 물질을 강타하여 많은 타겟 원자를 튀기고, 이 원자들은 기판에 중성 타겟 원자(또는 분자)로 증착되어 박막을 형성합니다. 2차 전자가 가속되어 기판으로 날아오면 자기장의 로렌츠 힘의 영향을 받아 나선형과 사이클로이드의 복합 형태를 띠며 타겟 표면에서 일련의 원 운동을 합니다. 전자는 긴 운동 경로를 가질 뿐만 아니라, 전자기장 이론 빔에 의해 타겟 표면 근처의 플라즈마 영역에 머물러 있는데, 이 빔에서 많은 양의 Ar이 이온화되어 타겟을 강타하기 때문에 마그네트론 스퍼터링 코팅 장치의 증착 속도가 빠릅니다.
따라서,마그네트론 스퍼터링 코팅 장비마그네트론 스퍼터링과 이온 코팅 기술을 통합하여 색상 일관성을 개선하고 증착 속도 및 화합물 조성의 안정성을 향상시키는 솔루션을 제공하는 장비가 개발되었습니다. 다양한 제품 요구 사항에 따라 가열 시스템, 바이어스 시스템, 이온화 시스템 및 기타 장치를 선택할 수 있습니다. 타겟 분포를 유연하게 조정할 수 있으며, 필름 균일도가 우수합니다. 다양한 타겟 재료를 사용하여 더 나은 성능의 복합 필름을 제조할 수 있습니다. 본 장비로 제조된 코팅은 강력한 복합력과 치밀성이라는 장점을 가지고 있어 제품의 염수 분무 저항성, 내마모성 및 표면 경도를 효과적으로 향상시키고 고성능 코팅 제조 요구 사항을 충족합니다.
본 장비는 스테인리스 스틸 수도금 하드웨어/플라스틱 부품, 유리, 세라믹 및 기타 소재에 사용 가능한 다양한 소재를 보유하고 있습니다. 주로 전자 제품 하드웨어, 고급 시계, 고급 주얼리 및 브랜드 가죽 제품 하드웨어 등 다양한 용도로 사용됩니다.
게시 시간: 2023년 2월 7일