የማግኔትሮን ስፒተር ማቀፊያ መሳሪያዎች አጭር መግቢያ እና ጥቅሞች

Magnetron sputtering መርህ: በኤሌክትሪክ መስክ እርምጃ ስር substrate ወደ እየፈጠኑ ሂደት ውስጥ ኤሌክትሮኖች argon አተሞች ጋር ተጋጨች, argon አየኖች እና ኤሌክትሮ መካከል ትልቅ ቁጥር ionizing, እና ኤሌክትሮኖች ወደ substrate መብረር.አርጎን አዮን በኤሌክትሪክ መስክ እንቅስቃሴ ስር የታለመውን ቁሳቁስ ለማፈንዳት ያፋጥናል ፣ ብዙ ቁጥር ያላቸውን ኢላማ አተሞች ያፈልቃል ፣ እነዚህም በገለልተኛ ኢላማ አተሞች (ወይም ሞለኪውሎች) ላይ ፊልም ለመመስረት ይቀመጣሉ።የሁለተኛው ኤሌክትሮኖል ወደ መግነጢሳዊ መስክ ለመብረር በሚፈጥንበት ጊዜ ፣ ​​​​በመግነጢሳዊ መስክ የሎሬንትዝ ኃይል ተጽዕኖ ፣ በዒላማው ወለል ላይ ተከታታይ የክብ እንቅስቃሴዎችን ለማድረግ ጠመዝማዛ እና ሳይክሎይድ የተቀናጀ ቅርጽ ያቀርባል።ኤሌክትሮን ረጅም የመንቀሳቀስ መንገድ ብቻ ሳይሆን አሁንም በፕላዝማ አካባቢ በኤሌክትሮማግኔቲክ መስክ ቲዎሪ ጨረር አማካኝነት በዒላማው ወለል አቅራቢያ ባለው የፕላዝማ ቦታ ላይ ይገኛል, ይህም ከፍተኛ መጠን ያለው Ar ionized ዒላማውን ለመምታት ነው, ስለዚህ የማግኔትሮን ክምችት መጠን የሚረጭ ሽፋን መሳሪያ ከፍተኛ ነው.

ስለዚህም ሀየማግኔትሮን ስፓይተር ማቀፊያ መሳሪያዎችተዘጋጅቷል፣ ይህም የማግኔትሮን ስፑተርቲንግ እና ion ልባስ ቴክኖሎጂን የሚያዋህድ፣ እና የቀለም ወጥነት ለማሻሻል መፍትሄ ይሰጣል እና https://www.zhenhuavac.com/wp-admin/post.php?post=5107&action=edit&message=1# የማስቀመጫ መጠን እና የቅንብር ቅንብር መረጋጋት.በተለያዩ የምርት መስፈርቶች መሰረት የማሞቂያ ስርዓት, የአድሎአዊ ስርዓት, ionization ስርዓት እና ሌሎች መሳሪያዎች ሊመረጡ ይችላሉ.የታለመው ስርጭት በተለዋዋጭ ሁኔታ ሊስተካከል ይችላል, እና የፊልም ተመሳሳይነት የላቀ ነው.በተለያዩ የዒላማ ቁሳቁሶች, የተሻለ አፈፃፀም ያለው የተዋሃደ ፊልም ማዘጋጀት ይቻላል.በመሳሪያዎቹ የሚዘጋጀው ሽፋን የጨው ርጭት መከላከያን በብቃት ሊያሻሽል የሚችል፣ የምርቱን የመቋቋም እና የገጽታ ጥንካሬን የሚለብስ እና ከፍተኛ አፈጻጸም ያለው የሽፋን ዝግጅትን የሚያሟላ ጠንካራ የተቀናጀ ሃይል እና የታመቀ ጥቅም አለው።
መሳሪያዎቹ በሚተገበሩ ቁሳቁሶች የበለፀጉ ናቸው, ይህም ከማይዝግ ብረት የተሰራ ውሃ-የተለጠፉ ሃርድዌር / የፕላስቲክ ክፍሎች, ብርጭቆዎች, ሴራሚክስ እና ሌሎች ቁሳቁሶች ሊያገለግሉ ይችላሉ.በዋነኛነት ለኤሌክትሮኒካዊ ምርቶች ሃርድዌር፣ ከፍተኛ ደረጃ ያላቸው ሰዓቶች እና ሰዓቶች፣ ከፍተኛ ደረጃ ጌጣጌጥ እና ለብራንድ የቆዳ እቃዎች ሃርድዌር እና ሌሎች የበለጸጉ ምርቶች ያገለግላል።