ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನಕ್ಕಾಗಿ ವಾತಾವರಣ ನಿಯಂತ್ರಣದಲ್ಲಿ ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಅನುಭವ

ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನದಲ್ಲಿ, ವಾತಾವರಣ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಫಿಲ್ಮ್ ಗುಣಮಟ್ಟ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವ ಅತ್ಯಂತ ಮೂಲಭೂತ ಅಂಶಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾಗಿದೆ. ಲೇಪನ ಕೊಠಡಿಯು ನಿರ್ವಾತದ ಅಡಿಯಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತದೆಯಾದರೂ, ಶೇಖರಣಾ ಪರಿಸರವು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ "ಅನಿಲ-ಮುಕ್ತ" ಸ್ಥಳವಲ್ಲ. ಉಳಿಕೆ ಅನಿಲಗಳು, ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಅನಿಲಗಳು, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಅನಿಲಗಳು, ಅನಿಲ ಹರಿವು, ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡ ಮತ್ತು ಪಂಪಿಂಗ್ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಮತ್ತು ಶೇಖರಣಾ ಪ್ರಭೇದಗಳೊಂದಿಗೆ ನಿರಂತರವಾಗಿ ಸಂವಹನ ನಡೆಸುತ್ತವೆ.

ನಿಜವಾದ ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿ, ಗುರಿ, ಕ್ಯಾಥೋಡ್, ತಲಾಧಾರ ಅಥವಾ ವಿದ್ಯುತ್ ಸರಬರಾಜಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಕಂಡುಬರುವ ಅನೇಕ ಲೇಪನ ದೋಷಗಳು ಅಂತಿಮವಾಗಿ ಅಸ್ಥಿರ ವಾತಾವರಣ ನಿಯಂತ್ರಣಕ್ಕೆ ಕಾರಣವೆಂದು ಗುರುತಿಸಬಹುದು. ಅಸ್ಥಿರ ಫಿಲ್ಮ್ ಬಣ್ಣ, ಕಳಪೆ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ, ಅಸಹಜ ಫಿಲ್ಮ್ ಪ್ರತಿರೋಧಕತೆ, ಅತಿಯಾದ ಆರ್ಸಿಂಗ್, ಅಸಮ ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪ, ಪಿನ್‌ಹೋಲ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಬ್ಯಾಚ್-ಟು-ಬ್ಯಾಚ್ ವ್ಯತ್ಯಾಸದಂತಹ ಸಮಸ್ಯೆಗಳು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ವಾತಾವರಣದಲ್ಲಿನ ಬದಲಾವಣೆಗಳೊಂದಿಗೆ ನಿಕಟ ಸಂಬಂಧ ಹೊಂದಿವೆ.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಕೈಗಾರಿಕಾ PVD ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳಿಗೆ, ವಾತಾವರಣ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಕೇವಲ ಅನಿಲ-ಹರಿವಿನ ಮೀಟರ್ ಅನ್ನು ಸರಿಹೊಂದಿಸುವುದಾಗಿ ಪರಿಗಣಿಸಬಾರದು. ಇದು ಮೂಲ ಒತ್ತಡ, ಉಳಿಕೆ ಅನಿಲ ಸಂಯೋಜನೆ, ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ-ಅನಿಲ ಹರಿವು, ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡ, ಅನಿಲ ಭಾಗಶಃ ಒತ್ತಡ, ಪಂಪಿಂಗ್ ವಾಹಕತೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ-ಅನಿಲ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ಸಂಘಟಿತ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಾಗಿದೆ.

1. ಮೊದಲ ಹಂತ ಗ್ಯಾಸ್ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್ ಅಲ್ಲ, ಆದರೆ ಮೂಲ ನಿರ್ವಾತವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುವುದು.

ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿ ಸಾಮಾನ್ಯ ತಪ್ಪು ಎಂದರೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ-ಅನಿಲ ನಿಯತಾಂಕಗಳ ಮೇಲೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸುವುದು ಮತ್ತು ನಿರ್ವಾತ ಕೊಠಡಿಯ ಸ್ಥಿತಿಯನ್ನು ಕಡೆಗಣಿಸುವುದು.

ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಅನಿಲಗಳನ್ನು ಪರಿಚಯಿಸುವ ಮೊದಲು, ಲೇಪನ ಕೊಠಡಿಯು ಸೂಕ್ತವಾದ ಬೇಸ್ ಒತ್ತಡವನ್ನು ತಲುಪಬೇಕು. ಸಾಕಷ್ಟು ಕಡಿಮೆ ಬೇಸ್ ಒತ್ತಡವು ಉಳಿದ ಆಮ್ಲಜನಕ, ನೀರಿನ ಆವಿ, ಹೈಡ್ರೋಕಾರ್ಬನ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಮಾಲಿನ್ಯಕಾರಕಗಳನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಈ ಉಳಿದ ಅನಿಲಗಳು ಶೇಖರಣಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಭಾಗವಹಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಬೆಳೆಯುತ್ತಿರುವ ಫಿಲ್ಮ್‌ನಲ್ಲಿ ಸಂಯೋಜಿಸಲ್ಪಡುತ್ತವೆ, ಫಿಲ್ಮ್ ಸಂಯೋಜನೆ, ಸೂಕ್ಷ್ಮ ರಚನೆ, ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಅಥವಾ ವಿದ್ಯುತ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತವೆ.

ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ ಇದು ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ. ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ನೈಟ್ರೈಡ್‌ಗಳು ಅಥವಾ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡುವಾಗ, ಉದ್ದೇಶಿತ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಅನಿಲವನ್ನು ಕೊಠಡಿಯಲ್ಲಿ ಉಳಿದಿರುವ ಅನಿಯಂತ್ರಿತ ಆಮ್ಲಜನಕ ಅಥವಾ ನೀರಿನ ಆವಿಯಿಂದ ಪ್ರತ್ಯೇಕಿಸಬೇಕು. ಇಲ್ಲದಿದ್ದರೆ, ದ್ರವ್ಯರಾಶಿ-ಹರಿವಿನ ನಿಯಂತ್ರಕವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತಿದ್ದರೂ ಸಹ, ನಿಜವಾದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ವಾತಾವರಣವು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಪಾಕವಿಧಾನದಿಂದ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ವಿಚಲನಗೊಳ್ಳಬಹುದು.

ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿ, ಒಂದೇ ಪಾಕವಿಧಾನ ಇದ್ದಕ್ಕಿದ್ದಂತೆ ವಿಭಿನ್ನ ಲೇಪನ ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು ನೀಡಿದರೆ, ಮೊದಲ ಪ್ರಶ್ನೆ ಯಾವಾಗಲೂ ಗುರಿ ಶಕ್ತಿ ಬದಲಾಗಿದೆಯೇ ಎಂದು ಇರಬಾರದು. ಮೂಲ ಒತ್ತಡ, ಪಂಪ್-ಡೌನ್ ಸಮಯ, ಚೇಂಬರ್ ಶುಚಿತ್ವ ಮತ್ತು ಉಳಿದ ಅನಿಲ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು ಬದಲಾಗಿವೆಯೇ ಎಂದು ಪರಿಶೀಲಿಸುವುದು ಸಹ ಅಗತ್ಯವಾಗಿದೆ.

2. ಪಂಪ್-ಡೌನ್ ನಡವಳಿಕೆಯು ಒಂದು ಪ್ರಮುಖ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಸೂಚಕವಾಗಿದೆ

ಆರೋಗ್ಯಕರ ನಿರ್ವಾತ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಸ್ಥಿರ ಮತ್ತು ಪುನರಾವರ್ತನೀಯ ಪಂಪ್-ಡೌನ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರಬೇಕು.

ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಮೂಲ ಒತ್ತಡವನ್ನು ತಲುಪಲು ಚೇಂಬರ್ ಸಾಮಾನ್ಯಕ್ಕಿಂತ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚು ಸಮಯ ತೆಗೆದುಕೊಂಡರೆ, ಇದು ಹೆಚ್ಚಿದ ಅನಿಲ ವಿಸರ್ಜನೆ, ಮಾಲಿನ್ಯ, ನಿರ್ವಾತ ಸೋರಿಕೆ, ಕೆಳಮಟ್ಟದ ಪಂಪ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಅಥವಾ ಚೇಂಬರ್ ಒಳಗೆ ಅತಿಯಾದ ತೇವಾಂಶವನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.

ಅನಿಲ ಹೊರಸೂಸುವಿಕೆಯ ವಿಶಿಷ್ಟ ಮೂಲಗಳಲ್ಲಿ ತಲಾಧಾರ ವಸ್ತುಗಳು, ನೆಲೆವಸ್ತುಗಳು, ಪಾಲಿಮರ್ ಅವಶೇಷಗಳು, ನಿರ್ವಾತ ಗ್ರೀಸ್, ಕಲುಷಿತ ಕೋಣೆಯ ಮೇಲ್ಮೈಗಳು ಮತ್ತು ಹೀರಿಕೊಳ್ಳಲ್ಪಟ್ಟ ತೇವಾಂಶ ಸೇರಿವೆ. ಕೊಠಡಿಯು ತೋರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಸ್ವೀಕಾರಾರ್ಹ ಒತ್ತಡವನ್ನು ತಲುಪಿದ ನಂತರ ಕೆಲವು ವಸ್ತುಗಳು ಅನಿಲಗಳನ್ನು ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡುವುದನ್ನು ಮುಂದುವರಿಸಬಹುದು, ಇದು ಶೇಖರಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಅಸ್ಥಿರ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಪಂಪ್-ಡೌನ್ ಸಮಯ, ಅಂತಿಮ ಒತ್ತಡ, ಒತ್ತಡ ಏರಿಕೆ ದರ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸ್ಥಿರತೆಯ ನಡುವಿನ ಸಂಬಂಧವು ನಿರ್ವಾತ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಸ್ಥಿತಿಯ ಬಗ್ಗೆ ಅಮೂಲ್ಯವಾದ ಮಾಹಿತಿಯನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.

ಉತ್ಪಾದನಾ ಉಪಕರಣಗಳಿಗೆ, ಪಂಪಿಂಗ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಿಂದ ಪ್ರತ್ಯೇಕತೆಯ ನಂತರ ಒತ್ತಡ-ಏರಿಕೆಯ ನಡವಳಿಕೆಯನ್ನು ಮೇಲ್ವಿಚಾರಣೆ ಮಾಡುವುದು ನಿಜವಾದ ಸೋರಿಕೆ ಮತ್ತು ಸಾಮಾನ್ಯ ಅನಿಲ ಹೊರಹರಿವಿನ ನಡುವೆ ವ್ಯತ್ಯಾಸವನ್ನು ಗುರುತಿಸಲು ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ದೋಷನಿವಾರಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಇದು ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಉಪಯುಕ್ತವಾಗಿದೆ.

3. ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡವು ಸಾರಿಗೆ ಪರಿಸರವನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸುತ್ತದೆ

ಸೂಕ್ತವಾದ ಮೂಲ ನಿರ್ವಾತವನ್ನು ಸಾಧಿಸಿದ ನಂತರ, ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಅನಿಲವನ್ನು ಪರಿಚಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಕೋಣೆ ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡದ ಸ್ಥಿತಿಗೆ ಪ್ರವೇಶಿಸುತ್ತದೆ.

ಕಾರ್ಯ ಒತ್ತಡವು ಸ್ಫಟರ್ಡ್ ಪರಮಾಣುಗಳು, ಅಯಾನುಗಳು ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್‌ಗಳ ಸರಾಸರಿ ಮುಕ್ತ ಮಾರ್ಗದ ಮೇಲೆ ನೇರವಾಗಿ ಪ್ರಭಾವ ಬೀರುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ ಇದು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ಶೇಖರಣಾ ದರ, ಅಯಾನೀಕರಣ, ಕಣಗಳ ಚದುರುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಶೇಖರಣಾ ಹರಿವಿನ ಕೋನೀಯ ವಿತರಣೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.

ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಒತ್ತಡದಲ್ಲಿ, ಸ್ಪಟ್ಟರ್ಡ್ ಪ್ರಭೇದಗಳು ಕಡಿಮೆ ಘರ್ಷಣೆಗಳೊಂದಿಗೆ ಕೋಣೆಯ ಮೂಲಕ ಪ್ರಯಾಣಿಸಬಹುದು, ಇದು ಹೆಚ್ಚು ದಿಕ್ಕಿನ ಶೇಖರಣಾ ಹರಿವಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಇದು ಕೆಲವು ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗೆ ಪ್ರಯೋಜನಕಾರಿಯಾಗಬಹುದು ಆದರೆ ಸಂಕೀರ್ಣವಾದ ಮೂರು ಆಯಾಮದ ಘಟಕಗಳ ಮೇಲೆ ನೆರಳು ಪರಿಣಾಮಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಬಹುದು.

ಒತ್ತಡ ಹೆಚ್ಚಾದಂತೆ, ಶೇಖರಣಾ ಪ್ರಭೇದಗಳು ಮತ್ತು ಅನಿಲ ಅಣುಗಳ ನಡುವಿನ ಘರ್ಷಣೆಗಳು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಸಂಭವಿಸುತ್ತವೆ. ಶೇಖರಣಾ ಹರಿವು ಹೆಚ್ಚು ಚದುರಿಹೋಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಹಿನ್ಸರಿತ ಮೇಲ್ಮೈಗಳಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು ಆದರೆ ಶೇಖರಣಾ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಬಹುದು ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನವನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸಬಹುದು.

ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ, ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಕೇವಲ "ಸರಿಯಾಗಿ ಹೊಂದಿಸಬೇಕಾದ" ಮೌಲ್ಯವೆಂದು ಪರಿಗಣಿಸಬಾರದು. ಇದು ಶೇಖರಣಾ ಪ್ರಭೇದಗಳ ಸಾಗಣೆ ಚಲನಶಾಸ್ತ್ರವನ್ನು ನೇರವಾಗಿ ಪ್ರಭಾವಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ವೇರಿಯೇಬಲ್ ಆಗಿದೆ.

4. ಅನಿಲ ಹರಿವು ಮತ್ತು ಒತ್ತಡ ಒಂದೇ ಅಲ್ಲ.

ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ PVD ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯಲ್ಲಿ, ಅನಿಲ ಹರಿವನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ದ್ರವ್ಯರಾಶಿ ಹರಿವಿನ ನಿಯಂತ್ರಕ (MFC) ಬಳಸಿ ನಿಯಂತ್ರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಕೋಣೆಯ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಅನಿಲ ಇನ್ಪುಟ್ ಮತ್ತು ಪಂಪಿಂಗ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದ ನಡುವಿನ ಸಮತೋಲನದಿಂದ ನಿರ್ಧರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಈ ವ್ಯತ್ಯಾಸವು ಅತ್ಯಂತ ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ.

ವಿಭಿನ್ನ ನಿರ್ವಾತ-ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದೇ ರೀತಿಯ ಅನಿಲ ಹರಿವಿನ ಪ್ರಮಾಣವು ಒಂದೇ ರೀತಿಯ ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುವುದಿಲ್ಲ. ಪಂಪಿಂಗ್ ವೇಗ, ಥ್ರೊಟಲ್-ವಾಲ್ವ್ ಸ್ಥಾನ, ಚೇಂಬರ್ ವಾಹಕತೆ ಅಥವಾ ಆಂತರಿಕ ಅನಿಲ-ಹರಿವಿನ ಮಾರ್ಗ ಬದಲಾದರೆ, ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಉಂಟಾಗುವ ಒತ್ತಡವೂ ಬದಲಾಗಬಹುದು.

ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಒಂದು ಥ್ರೊಟಲ್ ಕವಾಟ ಅಥವಾ ಪಂಪಿಂಗ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಅಸಹಜವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತಿದ್ದರೆ, ಒತ್ತಡದ ವಿಚಲನವನ್ನು ಸರಿದೂಗಿಸಲು ನಿರ್ವಾಹಕರು ಅನಿಲ ಹರಿವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಬಹುದು. ಒತ್ತಡವು ತಾತ್ಕಾಲಿಕವಾಗಿ ಗುರಿ ಮೌಲ್ಯಕ್ಕೆ ಮರಳಬಹುದಾದರೂ, ನಿಜವಾದ ಅನಿಲ-ಹರಿವು ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು ಈಗಾಗಲೇ ಬದಲಾಗಿರಬಹುದು.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಅನುಭವಿ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಎಂಜಿನಿಯರ್‌ಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಅನಿಲ ಹರಿವು ಮತ್ತು ಕೋಣೆಯ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಒಟ್ಟಿಗೆ ಮೇಲ್ವಿಚಾರಣೆ ಮಾಡುತ್ತಾರೆ, ಬದಲಿಗೆ ಎರಡೂ ನಿಯತಾಂಕಗಳನ್ನು ಸ್ವತಂತ್ರವಾಗಿ ಏಕೈಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಉಲ್ಲೇಖವಾಗಿ ಬಳಸುತ್ತಾರೆ.

5. ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಅನಿಲ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಹೆಚ್ಚು ಸೂಕ್ಷ್ಮವಾಗಿರುತ್ತದೆ.

TiN, CrN, TiAlN, Al₂O₃, SiO₂, ಮತ್ತು ಇತರ ಸಂಯುಕ್ತ ಲೇಪನಗಳಂತಹ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ, ವಾತಾವರಣ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಗಣನೀಯವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚು ಸಂಕೀರ್ಣವಾಗುತ್ತದೆ.

ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಅನಿಲವು ನೇರವಾಗಿ ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆಯಲ್ಲಿ ಭಾಗವಹಿಸುತ್ತದೆ. ಸಾರಜನಕ, ಆಮ್ಲಜನಕ, ಅಸಿಟಲೀನ್, ಮೀಥೇನ್ ಅಥವಾ ಇತರ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಅನಿಲಗಳು ಆವಿಯಾದ ಅಥವಾ ಚಿಮ್ಮಿದ ಪ್ರಭೇದಗಳೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸಿ ಅಂತಿಮ ಫಿಲ್ಮ್ ಸಂಯೋಜನೆಯನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸಬಹುದು.

ಆದ್ದರಿಂದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ-ಅನಿಲ ಭಾಗಶಃ ಒತ್ತಡದಲ್ಲಿನ ಸಣ್ಣ ಬದಲಾವಣೆಯು ಪದರ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳಲ್ಲಿ ಗಮನಾರ್ಹ ಬದಲಾವಣೆಯನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡಬಹುದು.

ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಸಾಕಷ್ಟು ಸಾರಜನಕ ಹರಿವು ಅಪೂರ್ಣ ನೈಟ್ರೈಡೇಶನ್‌ಗೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು, ಆದರೆ ಅತಿಯಾದ ಸಾರಜನಕವು ಶೇಖರಣಾ ದರ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ಗುರಿ ನಡವಳಿಕೆ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ಸಂಯೋಜನೆಯ ಮೇಲೆ ಪ್ರಭಾವ ಬೀರಬಹುದು. ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್‌ನಲ್ಲಿ, ಅತಿಯಾದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ-ಅನಿಲ ಪರಿಚಯವು ಗುರಿ ವಿಷಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು, ಇದರಲ್ಲಿ ಗುರಿ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಸಂಯುಕ್ತ ಪದರವು ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸುತ್ತದೆ.

ಇದಕ್ಕಾಗಿಯೇ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್‌ಗೆ ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಲೋಹೀಯ ಶೇಖರಣೆಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ಅತ್ಯಾಧುನಿಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ನಿಯಂತ್ರಣದ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ.

6. ಗುರಿ ವಿಷಪೂರಿತಗೊಳಿಸುವಿಕೆಯು ಒಂದು ವಿಶಿಷ್ಟ ವಾತಾವರಣ-ನಿಯಂತ್ರಣ ಸಮಸ್ಯೆಯಾಗಿದೆ.

ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪಟರಿಂಗ್‌ನಲ್ಲಿ, ವಾತಾವರಣ ನಿಯಂತ್ರಣಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಸಾಮಾನ್ಯ ಸಮಸ್ಯೆಗಳಲ್ಲಿ ಗುರಿ ವಿಷಪೂರಿತವಾಗುವುದು ಒಂದು.

ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಅನಿಲದ ಭಾಗಶಃ ಒತ್ತಡವು ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯನ್ನು ಮೀರಿ ಹೆಚ್ಚಾದಾಗ, ಗುರಿ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಸಂಯುಕ್ತ ಪದರದಿಂದ ಮುಚ್ಚಬಹುದು. ನಂತರ ಗುರಿಯು ಲೋಹೀಯ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಸ್ಥಿತಿಯಿಂದ ವಿಷಪೂರಿತ ಸ್ಥಿತಿಗೆ ಪರಿವರ್ತನೆಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.

ಈ ಪರಿವರ್ತನೆಯು ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ದರ, ಡಿಸ್ಚಾರ್ಜ್ ವೋಲ್ಟೇಜ್, ಡಿಸ್ಚಾರ್ಜ್ ಕರೆಂಟ್, ಸೆಕೆಂಡರಿ-ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಹೊರಸೂಸುವಿಕೆ, ಶೇಖರಣಾ ದರ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ಸಂಯೋಜನೆಯಲ್ಲಿ ಬದಲಾವಣೆಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡಬಹುದು.

ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ-ಅನಿಲ ಹರಿವು ಮತ್ತು ಗುರಿ ಸ್ಥಿತಿಯ ನಡುವಿನ ಸಂಬಂಧವು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ರೇಖೀಯವಲ್ಲದ ಕಾರಣ ಸಮಸ್ಯೆ ಹೆಚ್ಚು ಸವಾಲಿನದಾಗುತ್ತದೆ. ಅನಿಲ ಹರಿವಿನಲ್ಲಿ ಒಂದು ಸಣ್ಣ ಬದಲಾವಣೆಯು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿ ಅಸಮಾನವಾಗಿ ದೊಡ್ಡ ಬದಲಾವಣೆಯನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡಬಹುದು.

ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಮಾಣದ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ, ಸ್ಥಿರ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ-ಅನಿಲ ಹರಿವಿನ ಮೇಲೆ ಮಾತ್ರ ಅವಲಂಬಿತವಾಗುವುದು ಸಾಕಾಗುವುದಿಲ್ಲ. ಹೆಚ್ಚು ಮುಂದುವರಿದ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಶೇಖರಣಾ ವಿಂಡೋವನ್ನು ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸಲು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಹೊರಸೂಸುವಿಕೆ, ಡಿಸ್ಚಾರ್ಜ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ಭಾಗಶಃ-ಒತ್ತಡದ ಮಾಪನ ಅಥವಾ ಇತರ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಸಂಕೇತಗಳ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಕ್ಲೋಸ್ಡ್-ಲೂಪ್ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು.

7. ಕೋಣೆಯ ಸ್ವಚ್ಛತೆ ವಾತಾವರಣದ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಮೇಲೆ ನೇರವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.

ವಾತಾವರಣದ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಅನಿಲ ಪೂರೈಕೆ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ ಮೇಲೆ ಮಾತ್ರ ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿಲ್ಲ. ಲೇಪನ ಕೊಠಡಿಯ ಆಂತರಿಕ ಸ್ಥಿತಿಯೂ ಅಷ್ಟೇ ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ.

ಪುನರಾವರ್ತಿತ ಉತ್ಪಾದನಾ ಚಕ್ರಗಳಲ್ಲಿ, ಲೇಪನ ವಸ್ತುವು ಕೋಣೆಯ ಗೋಡೆಗಳು, ಗುರಾಣಿಗಳು, ತಲಾಧಾರ ನೆಲೆವಸ್ತುಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಆಂತರಿಕ ಘಟಕಗಳ ಮೇಲೆ ಕ್ರಮೇಣ ಸಂಗ್ರಹಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಈ ನಿಕ್ಷೇಪಗಳು ಕಣ ಮಾಲಿನ್ಯ ಅಥವಾ ಅನಿಲ ಹೊರಹರಿವಿನ ಮೂಲಗಳಾಗಬಹುದು. ಕೆಲವು ನಿಕ್ಷೇಪಗಳು ನಂತರದ ತಾಪನ ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಅನಿಲಗಳೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸಬಹುದು ಅಥವಾ ಹಿಂದೆ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳಲ್ಪಟ್ಟ ಅನಿಲಗಳನ್ನು ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡಬಹುದು.

ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಪಾಕವಿಧಾನ ಬದಲಾಗದೆ ಇದ್ದರೂ ಸಹ ಇದು ನಿಜವಾದ ಕೋಣೆಯ ವಾತಾವರಣವನ್ನು ಕ್ರಮೇಣ ಬದಲಾಯಿಸಬಹುದು.

ಈ ಕಾರಣಕ್ಕಾಗಿ, ನಿಯಮಿತ ಚೇಂಬರ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವಿಕೆ, ಶೀಲ್ಡ್ ಬದಲಿ, ಫಿಕ್ಚರ್ ನಿರ್ವಹಣೆ ಮತ್ತು ನಿರ್ವಾತ-ಮುದ್ರೆ ಪರಿಶೀಲನೆಗಳು ವಾತಾವರಣ ನಿರ್ವಹಣೆಯ ಅಗತ್ಯ ಭಾಗಗಳಾಗಿವೆ.

ಸ್ಥಿರವಾದ PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಕೇವಲ ಸ್ಥಿರವಾದ ಪಾಕವಿಧಾನದ ಫಲಿತಾಂಶವಲ್ಲ. ಇದು ಕೋಣೆಯೊಳಗೆ ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಸ್ಥಿರವಾದ ಭೌತಿಕ ಪರಿಸರವನ್ನು ಕಾಪಾಡಿಕೊಳ್ಳುವುದರ ಮೇಲೆ ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ.

8. ಅನಿಲ ವಿತರಣೆಯು ಅನಿಲದ ಪ್ರಮಾಣದಷ್ಟೇ ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ

ಮತ್ತೊಂದು ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಸಮಸ್ಯೆಯೆಂದರೆ, ಕೋಣೆಗೆ ಪ್ರವೇಶಿಸುವ ಒಟ್ಟು ಅನಿಲದ ಪ್ರಮಾಣವು ಏಕರೂಪದ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ವಾತಾವರಣವನ್ನು ಖಾತರಿಪಡಿಸುವುದಿಲ್ಲ.

ಗ್ಯಾಸ್ ಇನ್ಲೆಟ್, ಶವರ್‌ಹೆಡ್, ಬ್ಯಾಫಲ್, ಪಂಪಿಂಗ್ ಪೋರ್ಟ್, ಥ್ರೊಟಲ್ ಕವಾಟ ಮತ್ತು ಸಬ್‌ಸ್ಟ್ರೇಟ್ ಹೋಲ್ಡರ್‌ನ ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಸ್ಥಾನವು ಕೋಣೆಯೊಳಗೆ ಅನಿಲವನ್ನು ಹೇಗೆ ವಿತರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಎಂಬುದನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸುತ್ತದೆ.

ಕಳಪೆ ಅನಿಲ ವಿತರಣೆಯು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ-ಅನಿಲ ಸಾಂದ್ರತೆ ಅಥವಾ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಸಾಂದ್ರತೆಯಲ್ಲಿ ಸ್ಥಳೀಯ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡಬಹುದು. ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ತಲಾಧಾರದ ವಿವಿಧ ಸ್ಥಾನಗಳಲ್ಲಿ ವಿಭಿನ್ನ ಫಿಲ್ಮ್ ಸಂಯೋಜನೆಗಳು ಅಥವಾ ದಪ್ಪಗಳು ಉಂಟಾಗಬಹುದು.

ದೊಡ್ಡ-ಪ್ರದೇಶದ ಲೇಪನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಲೋಡಿಂಗ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯ ಹೊಂದಿರುವ ಉತ್ಪಾದನಾ ಉಪಕರಣಗಳಿಗೆ ಇದು ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಮುಖ್ಯವಾಗಿದೆ.

ಆದ್ದರಿಂದ, ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಯಂತ್ರವನ್ನು ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾಗಿಸುವಾಗ, ಅನಿಲ-ಹರಿವಿನ ವಿನ್ಯಾಸವನ್ನು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ-ಮೂಲ ಸಂರಚನೆ, ತಲಾಧಾರದ ತಿರುಗುವಿಕೆ, ಪಂಪಿಂಗ್ ಜ್ಯಾಮಿತಿ ಮತ್ತು ಕೋಣೆಯ ರಚನೆಯೊಂದಿಗೆ ಪರಿಗಣಿಸಬೇಕು.

9. ಲೇಪನವು ಇದ್ದಕ್ಕಿದ್ದಂತೆ ಬದಲಾದಾಗ, ಮೊದಲು ವಾತಾವರಣವನ್ನು ಪರಿಶೀಲಿಸಿ.

ನಿಜವಾದ ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿ, ಲೇಪನ ಸಮಸ್ಯೆಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಣ್ಣ, ಗಡಸುತನ, ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ, ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪ ಅಥವಾ ವಿದ್ಯುತ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯಲ್ಲಿ ಹಠಾತ್ ಬದಲಾವಣೆಗಳಾಗಿ ಕಾಣಿಸಿಕೊಳ್ಳುತ್ತವೆ.

ಇದು ಸಂಭವಿಸಿದಾಗ, ಶೇಖರಣಾ ಶಕ್ತಿ, ತಲಾಧಾರ ಪಕ್ಷಪಾತ ಅಥವಾ ಶೇಖರಣಾ ಸಮಯವನ್ನು ತಕ್ಷಣವೇ ಸರಿಹೊಂದಿಸಲು ಇದು ಪ್ರಚೋದಿಸುತ್ತದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ವಾತಾವರಣಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದ ಅಸ್ಥಿರಗಳನ್ನು ಮೊದಲು ಪರಿಶೀಲಿಸಬೇಕು.

ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ದೋಷನಿವಾರಣೆಯ ಅನುಕ್ರಮವೆಂದರೆ ಪ್ರಸ್ತುತ ಉತ್ಪಾದನಾ ದತ್ತಾಂಶವನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸ್ಥಿತಿಯೊಂದಿಗೆ ಹೋಲಿಸುವುದು: ಮೂಲ ಒತ್ತಡ, ಪಂಪ್-ಡೌನ್ ಸಮಯ, ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡ, ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ-ಅನಿಲ ಹರಿವು, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ-ಅನಿಲ ಹರಿವು, ಥ್ರೊಟಲ್-ಕವಾಟದ ಸ್ಥಾನ, ಡಿಸ್ಚಾರ್ಜ್ ವೋಲ್ಟೇಜ್/ಪ್ರವಾಹ, ತಲಾಧಾರ ತಾಪಮಾನ ಮತ್ತು ಶೇಖರಣಾ ದರ.

ಈ ನಿಯತಾಂಕಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದು ಬದಲಾಗಿದ್ದರೆ, ಅದು ಲೇಪನ ಪಾಕವಿಧಾನವನ್ನು ಮಾರ್ಪಡಿಸುವುದಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ನೇರ ವಿವರಣೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸಬಹುದು.

ನಿರ್ದಿಷ್ಟವಾಗಿ ಹೇಳುವುದಾದರೆ, ಅನಿಲ-ಹರಿವಿನ ಸೆಟ್ಟಿಂಗ್ ಬದಲಾಗದೆ ಇದ್ದರೂ, ಕೋಣೆಯ ಒತ್ತಡವು ಬದಲಾಗಿದ್ದರೆ, ಸಮಸ್ಯೆಯು ಲೇಪನ ವಸ್ತುವಿನಲ್ಲಲ್ಲ, ಪಂಪಿಂಗ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆ, ಒತ್ತಡ-ನಿಯಂತ್ರಣ ಕವಾಟ, ಅನಿಲ ಪೂರೈಕೆ, ಕೋಣೆಯ ವಾಹಕತೆ ಅಥವಾ ಸೋರಿಕೆ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿರಬಹುದು.

10. ವಾತಾವರಣ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಅಂತಿಮವಾಗಿ ವ್ಯವಸ್ಥೆ-ನಿಯಂತ್ರಣ ಸಮಸ್ಯೆಯಾಗಿದೆ.

ಕೈಗಾರಿಕಾ ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನದಿಂದ ಸಂಗ್ರಹವಾದ ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಅನುಭವವು ವಾತಾವರಣ ನಿಯಂತ್ರಣವನ್ನು ಒಟ್ಟಾರೆ ನಿರ್ವಾತ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಿಂದ ಬೇರ್ಪಡಿಸಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ ಎಂದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.

ನಿರ್ವಾತ ಪಂಪ್‌ಗಳು ಕೋಣೆಯ ಪಂಪ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸುತ್ತವೆ. ಅನಿಲ-ವಿತರಣಾ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಅನಿಲ ಇನ್‌ಪುಟ್ ಅನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸುತ್ತದೆ. ಥ್ರೊಟಲ್ ಕವಾಟವು ಅನಿಲ ಹರಿವು ಮತ್ತು ಕೋಣೆಯ ಒತ್ತಡದ ನಡುವಿನ ಸಂಬಂಧವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುತ್ತದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಮೂಲವು ಅನಿಲವು ಅಯಾನೀಕರಿಸಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ ಮತ್ತು ಶೇಖರಣಾ ಪ್ರಭೇದಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೇಗೆ ಸಂವಹನ ನಡೆಸುತ್ತದೆ ಎಂಬುದನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸುತ್ತದೆ. ತಲಾಧಾರ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾದೊಂದಿಗೆ ಹೇಗೆ ಸಂವಹನ ನಡೆಸುತ್ತದೆ ಎಂಬುದನ್ನು ನಿರ್ಧರಿಸುತ್ತದೆ.

ಈ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳು ಏಕಕಾಲದಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತವೆ, ಮತ್ತು ಒಂದು ನಿಯತಾಂಕದಲ್ಲಿನ ಬದಲಾವಣೆಯು ಹಲವಾರು ಇತರರ ಮೇಲೆ ಪ್ರಭಾವ ಬೀರಬಹುದು.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಒಂದು ಪ್ರೌಢ PVD ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಒಂದೇ ಸ್ಥಿರ ನಿಯತಾಂಕವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸುವ ಬದಲು ಸ್ಥಿರ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ವಿಂಡೋವನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸಬೇಕು. ನಿರ್ವಾತ ಒತ್ತಡ, ಅನಿಲ ಹರಿವು, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ತಲಾಧಾರ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು ಮತ್ತು ಶೇಖರಣಾ ನಿಯತಾಂಕಗಳು ಉತ್ಪಾದನೆಯ ಉದ್ದಕ್ಕೂ ನಿಯಂತ್ರಿತ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯಲ್ಲಿ ಉಳಿಯುವುದನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳುವುದು ಉದ್ದೇಶವಾಗಿದೆ.

ತೀರ್ಮಾನ

ವಾತಾವರಣದ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಸ್ಥಿರವಾದ ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನದ ಮೂಲಭೂತ ಅಂಶಗಳಲ್ಲಿ ಒಂದಾಗಿದೆ. ಮೂಲ ಒತ್ತಡ ಮತ್ತು ಉಳಿಕೆ ಅನಿಲ ನಿರ್ವಹಣೆಯಿಂದ ಹಿಡಿದು ಕೆಲಸದ ಒತ್ತಡ, ಅನಿಲ ಹರಿವು, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ-ಅನಿಲ ಭಾಗಶಃ ಒತ್ತಡ, ಗುರಿ ವಿಷ ಮತ್ತು ಕೋಣೆಯ ಶುಚಿತ್ವದವರೆಗೆ, ಪ್ರತಿಯೊಂದು ಅಂಶವು ಅಂತಿಮ ಲೇಪನದ ಮೇಲೆ ಪ್ರಭಾವ ಬೀರಬಹುದು.

ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ PVD ಶೇಖರಣೆಗೆ, ಸ್ಥಿರ ವಾತಾವರಣದ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು ಪುನರಾವರ್ತಿತ ಫಿಲ್ಮ್ ಬೆಳವಣಿಗೆಗೆ ಅಡಿಪಾಯವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತವೆ. ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಇತರ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ-ನೆರವಿನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಿಗೆ, ನಿಖರವಾದ ವಾತಾವರಣ ನಿಯಂತ್ರಣವು ಇನ್ನಷ್ಟು ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗುತ್ತದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಅನಿಲ ಸಂಯೋಜನೆಯು ನೇರವಾಗಿ ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆಯಲ್ಲಿ ಭಾಗವಹಿಸುತ್ತದೆ.

ಆದ್ದರಿಂದ ವಾತಾವರಣ ನಿಯಂತ್ರಣದ ನಿಜವಾದ ಉದ್ದೇಶವು ಕೇವಲ ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಒತ್ತಡ ಅಥವಾ ಅನಿಲ-ಹರಿವಿನ ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ಕಾಯ್ದುಕೊಳ್ಳುವುದಲ್ಲ. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ, ಶೇಖರಣಾ ಪ್ರಭೇದಗಳು, ತಲಾಧಾರ ಮತ್ತು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ವಾತಾವರಣವು ನಿಯಂತ್ರಿತ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿ ಉಳಿಯುವಂತಹ ಸ್ಥಿರ ಮತ್ತು ಪುನರುತ್ಪಾದಿಸಬಹುದಾದ ಶೇಖರಣಾ ವಾತಾವರಣವನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸುವುದಾಗಿದೆ.

ಕೈಗಾರಿಕಾ ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಉಪಕರಣಗಳಿಗೆ, ಇದಕ್ಕೆ ನಿರ್ವಾತ ಪಂಪಿಂಗ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆ, ಅನಿಲ-ವಿತರಣಾ ವ್ಯವಸ್ಥೆ, ಒತ್ತಡ-ನಿಯಂತ್ರಣ ವ್ಯವಸ್ಥೆ, ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ಮೂಲ, ಚೇಂಬರ್ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ-ನಿಯಂತ್ರಣ ಸಾಫ್ಟ್‌ವೇರ್‌ನ ಸಂಘಟಿತ ವಿನ್ಯಾಸದ ಅಗತ್ಯವಿದೆ.

- ಈ ಲೇಖನವನ್ನು ಪ್ರಕಟಿಸಿದವರುನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಸಲಕರಣೆ ತಯಾರಕಝೆನ್ಹುವಾ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್