વેક્યુમ કોટિંગ માટે વાતાવરણ નિયંત્રણમાં વ્યવહારુ અનુભવ

વેક્યુમ કોટિંગમાં, વાતાવરણ નિયંત્રણ એ ફિલ્મની ગુણવત્તા અને પ્રક્રિયા સ્થિરતાને અસર કરતા સૌથી મૂળભૂત પરિબળોમાંનું એક છે. કોટિંગ ચેમ્બર શૂન્યાવકાશ હેઠળ કાર્ય કરે છે, તેમ છતાં ડિપોઝિશન વાતાવરણ સંપૂર્ણપણે "ગેસ-મુક્ત" જગ્યા નથી. શેષ વાયુઓ, પ્રક્રિયા વાયુઓ, પ્રતિક્રિયાશીલ વાયુઓ, ગેસ પ્રવાહ, કાર્યકારી દબાણ અને પમ્પિંગ પરિસ્થિતિઓ પ્લાઝ્મા અને ડિપોઝિશન પ્રજાતિઓ સાથે સતત ક્રિયાપ્રતિક્રિયા કરે છે.

વાસ્તવિક ઉત્પાદનમાં, લક્ષ્ય, કેથોડ, સબસ્ટ્રેટ અથવા પાવર સપ્લાય સાથે સંબંધિત દેખાતી ઘણી કોટિંગ ખામીઓ આખરે અસ્થિર વાતાવરણ નિયંત્રણમાં પાછી ફરી શકે છે. અસ્થિર ફિલ્મ રંગ, નબળું સંલગ્નતા, અસામાન્ય ફિલ્મ પ્રતિકારકતા, અતિશય આર્સિંગ, અસમાન ફિલ્મ જાડાઈ, પિનહોલ્સ અને બેચ-ટુ-બેચ ભિન્નતા જેવી સમસ્યાઓ ઘણીવાર પ્રક્રિયા વાતાવરણમાં થતા ફેરફારો સાથે ગાઢ રીતે સંકળાયેલી હોય છે.

તેથી, ઔદ્યોગિક PVD સિસ્ટમો માટે, વાતાવરણ નિયંત્રણને ફક્ત ગેસ-ફ્લો મીટરને સમાયોજિત કરવા જેટલું ગણવું જોઈએ નહીં. તે એક સંકલિત પ્રક્રિયા છે જેમાં બેઝ પ્રેશર, શેષ ગેસ કમ્પોઝિશન, પ્રોસેસ-ગેસ ફ્લો, વર્કિંગ પ્રેશર, ગેસ આંશિક દબાણ, પમ્પિંગ વાહકતા, પ્લાઝ્મા સ્થિતિઓ અને પ્રતિક્રિયાશીલ-ગેસ પ્રતિસાદનો સમાવેશ થાય છે.

૧. પહેલું પગલું ગેસ ઇન્જેક્શન નથી, પરંતુ બેઝ વેક્યુમને નિયંત્રિત કરવાનું છે

ઉત્પાદનમાં એક સામાન્ય ભૂલ એ છે કે વેક્યુમ ચેમ્બરની સ્થિતિને અવગણીને પ્રોસેસ-ગેસ પરિમાણો પર ધ્યાન કેન્દ્રિત કરવું.

પ્રક્રિયા વાયુઓ દાખલ કરતા પહેલા, કોટિંગ ચેમ્બર યોગ્ય બેઝ પ્રેશર સુધી પહોંચવું આવશ્યક છે. પૂરતું ઓછું બેઝ પ્રેશર શેષ ઓક્સિજન, પાણીની વરાળ, હાઇડ્રોકાર્બન અને અન્ય દૂષકોને ઘટાડવામાં મદદ કરે છે. આ શેષ વાયુઓ ડિપોઝિશન પ્રક્રિયામાં ભાગ લઈ શકે છે અને વધતી જતી ફિલ્મમાં સમાવિષ્ટ થઈ શકે છે, જે ફિલ્મ રચના, માઇક્રોસ્ટ્રક્ચર, સંલગ્નતા અને ઓપ્ટિકલ અથવા વિદ્યુત ગુણધર્મોને અસર કરે છે.

પ્રતિક્રિયાશીલ PVD પ્રક્રિયાઓ માટે આ ખાસ કરીને મહત્વપૂર્ણ છે. ઉદાહરણ તરીકે, નાઈટ્રાઈડ્સ અથવા ઓક્સાઇડ જમા કરતી વખતે, ઇચ્છિત પ્રતિક્રિયાશીલ ગેસને ચેમ્બરમાં બાકી રહેલા અનિયંત્રિત ઓક્સિજન અથવા પાણીની વરાળથી અલગ પાડવો આવશ્યક છે. નહિંતર, વાસ્તવિક પ્રતિક્રિયાશીલ વાતાવરણ પ્રક્રિયા રેસીપીથી નોંધપાત્ર રીતે વિચલિત થઈ શકે છે, ભલે માસ-ફ્લો નિયંત્રક સામાન્ય રીતે કાર્યરત હોય.

વ્યવહારુ ઉત્પાદનમાં, જો એક જ રેસીપી અચાનક અલગ અલગ કોટિંગ પરિણામો ઉત્પન્ન કરે છે, તો પહેલો પ્રશ્ન હંમેશા એ ન હોવો જોઈએ કે લક્ષ્ય શક્તિ બદલાઈ ગઈ છે કે નહીં. બેઝ પ્રેશર, પંપ-ડાઉન સમય, ચેમ્બરની સ્વચ્છતા અને શેષ ગેસની સ્થિતિમાં ફેરફાર થયો છે કે કેમ તે પણ તપાસવું જરૂરી છે.

2. ઉદાસીન વર્તન એક મહત્વપૂર્ણ પ્રક્રિયા સૂચક છે

એક સ્વસ્થ વેક્યુમ સિસ્ટમમાં પ્રમાણમાં સ્થિર અને પુનરાવર્તિત પંપ-ડાઉન લાક્ષણિકતાઓ હોવી જોઈએ.

જો ચેમ્બરને જરૂરી બેઝ પ્રેશર સુધી પહોંચવામાં સામાન્ય કરતાં ઘણો વધુ સમય લાગે છે, તો આ ગેસનું પ્રમાણ વધવું, દૂષણ, વેક્યુમ લીક, પંપની કામગીરીમાં ઘટાડો અથવા ચેમ્બરની અંદર વધુ પડતો ભેજ સૂચવી શકે છે.

ગેસિંગના લાક્ષણિક સ્ત્રોતોમાં સબસ્ટ્રેટ મટિરિયલ્સ, ફિક્સર, પોલિમર અવશેષો, વેક્યુમ ગ્રીસ, દૂષિત ચેમ્બર સપાટીઓ અને શોષિત ભેજનો સમાવેશ થાય છે. ચેમ્બર સ્વીકાર્ય દબાણ સુધી પહોંચ્યા પછી પણ કેટલીક સામગ્રી વાયુઓ છોડવાનું ચાલુ રાખી શકે છે, જેના પરિણામે નિક્ષેપન દરમિયાન અસ્થિર પ્રક્રિયા પરિસ્થિતિઓ સર્જાય છે.

તેથી, પંપ-ડાઉન સમય, અંતિમ દબાણ, દબાણ વધારો દર અને પ્રક્રિયા સ્થિરતા વચ્ચેનો સંબંધ વેક્યુમ સિસ્ટમની સ્થિતિ વિશે મૂલ્યવાન માહિતી પ્રદાન કરી શકે છે.

ઉત્પાદન સાધનો માટે, પમ્પિંગ સિસ્ટમથી અલગ થયા પછી દબાણ-વધારાના વર્તનનું નિરીક્ષણ કરવાથી પણ વાસ્તવિક લીક અને સામાન્ય આઉટગેસિંગ વચ્ચે તફાવત કરવામાં મદદ મળી શકે છે. આ ખાસ કરીને મુશ્કેલીનિવારણ દરમિયાન ઉપયોગી છે.

3. કાર્યકારી દબાણ પરિવહન વાતાવરણ નક્કી કરે છે

યોગ્ય બેઝ વેક્યુમ પ્રાપ્ત કર્યા પછી, પ્રોસેસ ગેસ દાખલ કરવામાં આવે છે અને ચેમ્બર કાર્યકારી દબાણ શાસનમાં પ્રવેશ કરે છે.

કાર્યકારી દબાણ સ્પુટર્ડ અણુઓ, આયનો અને ઇલેક્ટ્રોનના સરેરાશ મુક્ત માર્ગને સીધી અસર કરે છે. તેથી તે પ્લાઝ્મા લાક્ષણિકતાઓ, ડિપોઝિશન દર, આયનીકરણ, કણોનું વિખેરન અને ડિપોઝિશન ફ્લક્સના કોણીય વિતરણને અસર કરે છે.

પ્રમાણમાં ઓછા દબાણે, સ્પુટર્ડ પ્રજાતિઓ ઓછી અથડામણ સાથે ચેમ્બરમાંથી પસાર થઈ શકે છે, જેના પરિણામે વધુ દિશાત્મક ડિપોઝિશન ફ્લક્સ થાય છે. આ ચોક્કસ એપ્લિકેશનો માટે ફાયદાકારક હોઈ શકે છે પરંતુ જટિલ ત્રિ-પરિમાણીય ઘટકો પર પડછાયાની અસરોમાં વધારો કરી શકે છે.

જેમ જેમ દબાણ વધે છે તેમ, ડિપોઝિશન પ્રજાતિઓ અને ગેસ અણુઓ વચ્ચે અથડામણ વધુ વારંવાર થાય છે. ડિપોઝિશન ફ્લક્સ વધુ વેરવિખેર બને છે, જે રિસેસ્ડ સપાટીઓ પર કવરેજ સુધારી શકે છે પરંતુ ડિપોઝિશન કાર્યક્ષમતા ઘટાડી શકે છે અને ફિલ્મ મોર્ફોલોજીમાં પણ ફેરફાર કરી શકે છે.

પરિણામે, કાર્યકારી દબાણને ફક્ત એક મૂલ્ય તરીકે ન ગણવું જોઈએ જેને "યોગ્ય રીતે સેટ કરવાની" જરૂર છે. તે એક પ્રક્રિયા ચલ છે જે ડિપોઝિશન પ્રજાતિઓના પરિવહન ગતિશાસ્ત્રને સીધી અસર કરે છે.

4. ગેસનો પ્રવાહ અને દબાણ એક જ વસ્તુ નથી.

વ્યવહારુ PVD કામગીરીમાં, ગેસ પ્રવાહ સામાન્ય રીતે માસ ફ્લો કંટ્રોલર (MFC) નો ઉપયોગ કરીને નિયંત્રિત થાય છે, જ્યારે ચેમ્બરનું દબાણ ગેસ ઇનપુટ અને પમ્પિંગ ક્ષમતા વચ્ચેના સંતુલન દ્વારા નક્કી થાય છે.

આ ભેદ અત્યંત મહત્વપૂર્ણ છે.

વિવિધ વેક્યુમ-સિસ્ટમ પરિસ્થિતિઓમાં સમાન ગેસ પ્રવાહ દર સમાન કાર્યકારી દબાણ ઉત્પન્ન કરે તે જરૂરી નથી. જો પમ્પિંગ ગતિ, થ્રોટલ-વાલ્વ સ્થિતિ, ચેમ્બર વાહકતા અથવા આંતરિક ગેસ-પ્રવાહ માર્ગ બદલાય છે, તો પરિણામી દબાણ પણ બદલાઈ શકે છે.

ઉદાહરણ તરીકે, જો થ્રોટલ વાલ્વ અથવા પમ્પિંગ સિસ્ટમ અસામાન્ય રીતે કાર્યરત હોય, તો ઓપરેટર દબાણના વિચલનની ભરપાઈ કરવા માટે ગેસ પ્રવાહ વધારી શકે છે. જોકે દબાણ અસ્થાયી રૂપે લક્ષ્ય મૂલ્ય પર પાછું આવી શકે છે, વાસ્તવિક ગેસ-પ્રવાહ અને પ્લાઝ્મા સ્થિતિઓ પહેલાથી જ બદલાઈ ગઈ હશે.

તેથી, અનુભવી પ્રક્રિયા ઇજનેરો સામાન્ય રીતે ગેસ પ્રવાહ અને ચેમ્બર દબાણનું એકસાથે નિરીક્ષણ કરે છે, ફક્ત એક જ પ્રક્રિયા સંદર્ભ તરીકે સ્વતંત્ર રીતે કોઈ પણ પરિમાણનો ઉપયોગ કરવાને બદલે.

૫. પ્રતિક્રિયાશીલ ગેસ નિયંત્રણ વધુ સંવેદનશીલ છે

પ્રતિક્રિયાશીલ PVD પ્રક્રિયાઓ જેમ કે TiN, CrN, TiAlN, Al₂O₃, SiO₂, અને અન્ય સંયોજન કોટિંગ્સ માટે, વાતાવરણ નિયંત્રણ નોંધપાત્ર રીતે વધુ જટિલ બને છે.

પ્રતિક્રિયાશીલ વાયુ ફિલ્મની રચનામાં સીધો ભાગ લે છે. નાઇટ્રોજન, ઓક્સિજન, એસિટિલિન, મિથેન અથવા અન્ય પ્રતિક્રિયાશીલ વાયુઓ બાષ્પીભવન થયેલ અથવા છલકાયેલી પ્રજાતિઓ સાથે પ્રતિક્રિયા આપીને અંતિમ ફિલ્મ રચના નક્કી કરી શકે છે.

તેથી, પ્રતિક્રિયાશીલ-વાયુના આંશિક દબાણમાં થોડો ફેરફાર ફિલ્મ ગુણધર્મોમાં નોંધપાત્ર ફેરફાર લાવી શકે છે.

ઉદાહરણ તરીકે, અપૂરતા નાઇટ્રોજન પ્રવાહના પરિણામે અપૂર્ણ નાઇટ્રિડેશન થઈ શકે છે, જ્યારે વધુ પડતું નાઇટ્રોજન ડિપોઝિશન રેટ, પ્લાઝ્મા લાક્ષણિકતાઓ, લક્ષ્ય વર્તન અને ફિલ્મ રચનાને પ્રભાવિત કરી શકે છે. પ્રતિક્રિયાશીલ મેગ્નેટ્રોન સ્પટરિંગમાં, વધુ પડતું પ્રતિક્રિયાશીલ-ગેસ પરિચય પણ લક્ષ્ય ઝેર તરફ દોરી શકે છે, જેમાં લક્ષ્ય સપાટી પર એક સંયોજન સ્તર બને છે અને સ્પટરિંગ લાક્ષણિકતાઓમાં ફેરફાર કરે છે.

આ જ કારણ છે કે રિએક્ટિવ સ્પટરિંગ માટે પરંપરાગત ધાતુ નિક્ષેપણ કરતાં વધુ સુસંસ્કૃત પ્રક્રિયા નિયંત્રણની જરૂર પડે છે.

૬. ટાર્ગેટ પોઈઝનિંગ એ એક લાક્ષણિક વાતાવરણ-નિયંત્રણ સમસ્યા છે.

રિએક્ટિવ મેગ્નેટ્રોન સ્પટરિંગમાં, ટાર્ગેટ પોઈઝનિંગ એ વાતાવરણ નિયંત્રણ સાથે સંકળાયેલ સૌથી સામાન્ય સમસ્યાઓમાંની એક છે.

જ્યારે પ્રતિક્રિયાશીલ ગેસનું આંશિક દબાણ ચોક્કસ શ્રેણીથી આગળ વધે છે, ત્યારે લક્ષ્ય સપાટી સંયોજન સ્તર દ્વારા આવરી લેવામાં આવી શકે છે. ત્યારબાદ લક્ષ્ય ધાતુના સ્પટરિંગ અવસ્થાથી ઝેરી અવસ્થા તરફ સંક્રમણ કરે છે.

આ સંક્રમણ સ્પુટરિંગ રેટ, ડિસ્ચાર્જ વોલ્ટેજ, ડિસ્ચાર્જ કરંટ, સેકન્ડરી-ઇલેક્ટ્રોન ઉત્સર્જન, ડિપોઝિશન રેટ અને ફિલ્મ રચનામાં ફેરફાર લાવી શકે છે.

સમસ્યા વધુ પડકારજનક બને છે કારણ કે પ્રતિક્રિયાશીલ-વાયુ પ્રવાહ અને લક્ષ્ય સ્થિતિ વચ્ચેનો સંબંધ ઘણીવાર બિન-રેખીય હોય છે. ગેસ પ્રવાહમાં એક નાનો ફેરફાર પ્રક્રિયા સ્થિતિમાં અપ્રમાણસર મોટો ફેરફાર લાવી શકે છે.

તેથી, ઉચ્ચ-વોલ્યુમ ઉત્પાદન માટે, ફક્ત નિશ્ચિત પ્રતિક્રિયાશીલ-ગેસ પ્રવાહ પર આધાર રાખવો અપૂરતો હોઈ શકે છે. વધુ અદ્યતન સિસ્ટમો પ્રતિક્રિયાશીલ ડિપોઝિશન વિન્ડોને સ્થિર કરવા માટે ઓપ્ટિકલ ઉત્સર્જન, ડિસ્ચાર્જ લાક્ષણિકતાઓ, આંશિક-દબાણ માપન અથવા અન્ય પ્રક્રિયા સંકેતોના આધારે બંધ-લૂપ નિયંત્રણનો ઉપયોગ કરી શકે છે.

7. ચેમ્બરની સ્વચ્છતા વાતાવરણની સ્થિરતાને સીધી અસર કરે છે

વાતાવરણ નિયંત્રણ ફક્ત ગેસ સપ્લાય સિસ્ટમ પર આધારિત નથી. કોટિંગ ચેમ્બરની આંતરિક સ્થિતિ પણ એટલી જ મહત્વપૂર્ણ છે.

વારંવાર ઉત્પાદન ચક્ર દરમિયાન, કોટિંગ સામગ્રી ધીમે ધીમે ચેમ્બરની દિવાલો, ઢાલ, સબસ્ટ્રેટ ફિક્સર અને અન્ય આંતરિક ઘટકો પર એકઠી થાય છે. આ થાપણો કણોના દૂષણ અથવા આઉટગેસિંગના સ્ત્રોત બની શકે છે. કેટલાક થાપણો પ્રક્રિયા વાયુઓ સાથે પ્રતિક્રિયા પણ આપી શકે છે અથવા અનુગામી ગરમી અને પ્લાઝ્મા કામગીરી દરમિયાન અગાઉ શોષાયેલા વાયુઓને મુક્ત કરી શકે છે.

આ પ્રક્રિયાની રેસીપી યથાવત રહે ત્યારે પણ ધીમે ધીમે વાસ્તવિક ચેમ્બર વાતાવરણ બદલી શકે છે.

આ કારણોસર, નિયમિત ચેમ્બર સફાઈ, ઢાલ બદલવી, ફિક્સ્ચર જાળવણી અને વેક્યુમ-સીલ નિરીક્ષણ વાતાવરણ વ્યવસ્થાપનના આવશ્યક ભાગો છે.

સ્થિર PVD પ્રક્રિયા ફક્ત સ્થિર રેસીપીનું પરિણામ નથી. તે ચેમ્બરની અંદર પ્રમાણમાં સ્થિર ભૌતિક વાતાવરણ જાળવવા પર આધાર રાખે છે.

8. ગેસનું વિતરણ ગેસના જથ્થા જેટલું જ મહત્વનું છે

બીજો વ્યવહારુ મુદ્દો એ છે કે ચેમ્બરમાં પ્રવેશતા ગેસનો કુલ જથ્થો એકસમાન પ્રક્રિયા વાતાવરણની ખાતરી આપતો નથી.

ગેસ ઇનલેટ, શાવરહેડ, બેફલ, પમ્પિંગ પોર્ટ, થ્રોટલ વાલ્વ અને સબસ્ટ્રેટ હોલ્ડરની ડિઝાઇન અને સ્થિતિ નક્કી કરે છે કે ચેમ્બરની અંદર ગેસ કેવી રીતે વિતરિત થાય છે.

નબળા ગેસ વિતરણને કારણે પ્રતિક્રિયાશીલ-ગેસ સાંદ્રતા અથવા પ્લાઝ્મા ઘનતામાં સ્થાનિક ભિન્નતા થઈ શકે છે. પરિણામે સબસ્ટ્રેટ પર વિવિધ સ્થાનો પર વિવિધ ફિલ્મ રચનાઓ અથવા જાડાઈ હોઈ શકે છે.

આ ખાસ કરીને મોટા વિસ્તારવાળા કોટિંગ સિસ્ટમ્સ અને ઉચ્ચ લોડિંગ ક્ષમતાવાળા ઉત્પાદન સાધનો માટે મહત્વપૂર્ણ છે.

તેથી, વેક્યુમ કોટિંગ મશીનને ઑપ્ટિમાઇઝ કરતી વખતે, ગેસ-ફ્લો ડિઝાઇનને પ્લાઝ્મા-સ્રોત રૂપરેખાંકન, સબસ્ટ્રેટ પરિભ્રમણ, પમ્પિંગ ભૂમિતિ અને ચેમ્બર રચના સાથે ધ્યાનમાં લેવી જોઈએ.

9. જ્યારે આવરણ અચાનક બદલાઈ જાય, ત્યારે પહેલા વાતાવરણ તપાસો

વાસ્તવિક ઉત્પાદનમાં, કોટિંગ સમસ્યાઓ ઘણીવાર રંગ, કઠિનતા, સંલગ્નતા, ફિલ્મની જાડાઈ અથવા વિદ્યુત કામગીરીમાં અચાનક ફેરફાર તરીકે દેખાય છે.

જ્યારે આવું થાય છે, ત્યારે ડિપોઝિશન પાવર, સબસ્ટ્રેટ બાયસ અથવા ડિપોઝિશન સમયને તાત્કાલિક સમાયોજિત કરવાનું આકર્ષણ થાય છે. જો કે, વાતાવરણ-સંબંધિત ચલોને પહેલા તપાસવા જોઈએ.

એક વ્યવહારુ મુશ્કેલીનિવારણ ક્રમ એ છે કે વર્તમાન ઉત્પાદન ડેટાની તુલના સામાન્ય પ્રક્રિયા સ્થિતિ સાથે કરવામાં આવે: બેઝ પ્રેશર, પંપ-ડાઉન સમય, કાર્યકારી દબાણ, પ્રક્રિયા-ગેસ પ્રવાહ, પ્રતિક્રિયાશીલ-ગેસ પ્રવાહ, થ્રોટલ-વાલ્વ સ્થિતિ, ડિસ્ચાર્જ વોલ્ટેજ/કરંટ, સબસ્ટ્રેટ તાપમાન અને ડિપોઝિશન રેટ.

જો આમાંના કોઈ એક પરિમાણો બદલાયા હોય, તો તે ફક્ત કોટિંગ રેસીપીમાં ફેરફાર કરવા કરતાં વધુ સીધી સમજૂતી આપી શકે છે.

ખાસ કરીને, જો ગેસ-પ્રવાહ સેટિંગ બદલાયેલ ન હોય પરંતુ ચેમ્બરનું દબાણ બદલાઈ ગયું હોય, તો સમસ્યા કોટિંગ સામગ્રીને બદલે પમ્પિંગ સિસ્ટમ, પ્રેશર-કંટ્રોલ વાલ્વ, ગેસ સપ્લાય, ચેમ્બર વાહકતા અથવા લિકેજ સ્થિતિમાં હોઈ શકે છે.

૧૦. વાતાવરણ નિયંત્રણ આખરે સિસ્ટમ-નિયંત્રણ સમસ્યા છે

ઔદ્યોગિક વેક્યુમ કોટિંગમાંથી સંચિત વ્યવહારુ અનુભવ દર્શાવે છે કે વાતાવરણ નિયંત્રણને એકંદર વેક્યુમ સિસ્ટમથી અલગ કરી શકાતું નથી.

વેક્યુમ પંપ ચેમ્બરની પમ્પિંગ ક્ષમતા નક્કી કરે છે. ગેસ-ડિલિવરી સિસ્ટમ ગેસ ઇનપુટ નક્કી કરે છે. થ્રોટલ વાલ્વ ગેસ પ્રવાહ અને ચેમ્બર દબાણ વચ્ચેના સંબંધને નિયંત્રિત કરે છે. પ્લાઝ્મા સ્ત્રોત નક્કી કરે છે કે ગેસ કેવી રીતે આયનાઇઝ્ડ થાય છે અને ડિપોઝિશન પ્રજાતિઓ સાથે ક્રિયાપ્રતિક્રિયા કરે છે. સબસ્ટ્રેટ સિસ્ટમ નક્કી કરે છે કે વર્કપીસ પ્લાઝ્મા સાથે કેવી રીતે ક્રિયાપ્રતિક્રિયા કરે છે.

આ સિસ્ટમો એકસાથે કાર્ય કરે છે, અને એક પરિમાણમાં ફેરફાર ઘણા અન્ય પરિમાણને પ્રભાવિત કરી શકે છે.

તેથી, એક પરિપક્વ PVD પ્રક્રિયાએ એક નિશ્ચિત પરિમાણ પર આધાર રાખવાને બદલે સ્થિર પ્રક્રિયા વિન્ડો સ્થાપિત કરવી જોઈએ. ઉદ્દેશ્ય એ સુનિશ્ચિત કરવાનો છે કે વેક્યુમ પ્રેશર, ગેસ પ્રવાહ, પ્લાઝ્મા લાક્ષણિકતાઓ, સબસ્ટ્રેટ સ્થિતિઓ અને ડિપોઝિશન પરિમાણો સમગ્ર ઉત્પાદન દરમિયાન નિયંત્રિત શ્રેણીમાં રહે.

નિષ્કર્ષ

વાતાવરણ નિયંત્રણ એ સ્થિર વેક્યુમ કોટિંગના મૂળભૂત તત્વોમાંનું એક છે. બેઝ પ્રેશર અને શેષ ગેસ મેનેજમેન્ટથી લઈને કાર્યકારી દબાણ, ગેસ પ્રવાહ, પ્રતિક્રિયાશીલ-ગેસ આંશિક દબાણ, લક્ષ્ય ઝેર અને ચેમ્બર સ્વચ્છતા સુધી, દરેક પરિબળ અંતિમ કોટિંગને પ્રભાવિત કરી શકે છે.

પરંપરાગત PVD ડિપોઝિશન માટે, સ્થિર વાતાવરણની સ્થિતિ પુનરાવર્તિત ફિલ્મ વૃદ્ધિ માટે પાયો પૂરો પાડે છે. પ્રતિક્રિયાશીલ સ્પટરિંગ અને અન્ય પ્લાઝ્મા-સહાયિત પ્રક્રિયાઓ માટે, ચોક્કસ વાતાવરણ નિયંત્રણ વધુ મહત્વપૂર્ણ બની જાય છે કારણ કે ગેસ રચના સીધી ફિલ્મ રચનામાં ભાગ લે છે.

તેથી વાતાવરણ નિયંત્રણનો વાસ્તવિક ઉદ્દેશ્ય ફક્ત ચોક્કસ દબાણ અથવા ગેસ-પ્રવાહ મૂલ્ય જાળવવાનો નથી. તે એક સ્થિર અને પુનઃઉત્પાદનક્ષમ નિક્ષેપન વાતાવરણ સ્થાપિત કરવાનો છે જેમાં પ્લાઝ્મા, નિક્ષેપન પ્રજાતિઓ, સબસ્ટ્રેટ અને પ્રતિક્રિયાશીલ વાતાવરણ નિયંત્રિત સ્થિતિમાં રહે છે.

ઔદ્યોગિક વેક્યુમ કોટિંગ સાધનો માટે, આ માટે વેક્યુમ પમ્પિંગ સિસ્ટમ, ગેસ-ડિલિવરી સિસ્ટમ, પ્રેશર-કંટ્રોલ સિસ્ટમ, પ્લાઝ્મા સ્ત્રોત, ચેમ્બર સ્ટ્રક્ચર અને પ્રોસેસ-કંટ્રોલ સોફ્ટવેરની સંકલિત ડિઝાઇનની જરૂર પડે છે.

-આ લેખ પ્રકાશિત થયો હતોવેક્યુમ કોટિંગ સાધનો ઉત્પાદકઝેન્હુઆ વેક્યુમ