Warum einen Staubsauger verwenden?
Vermeidung von Verunreinigungen: Im Vakuum verhindert die Abwesenheit von Luft und anderen Gasen, dass das Abscheidungsmaterial mit atmosphärischen Gasen reagiert, was zu einer Verunreinigung des Films führen könnte.
Verbesserte Haftung: Durch das Fehlen von Luft haftet die Folie direkt auf dem Substrat, ohne dass Lufteinschlüsse oder andere Zwischengase die Bindung schwächen könnten.
Filmqualität: Vakuumbedingungen ermöglichen eine bessere Kontrolle des Abscheidungsprozesses, was zu gleichmäßigeren und qualitativ hochwertigeren Filmen führt.
Niedertemperaturabscheidung: Einige Materialien würden sich bei den für die Abscheidung erforderlichen Temperaturen zersetzen oder reagieren, wenn sie atmosphärischen Gasen ausgesetzt wären. Im Vakuum können diese Materialien bei niedrigeren Temperaturen abgeschieden werden.
Arten von Vakuumbeschichtungsprozessen
Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)
Thermische Verdampfung: Material wird im Vakuum erhitzt, bis es verdampft und dann auf dem Substrat kondensiert.
Sputtern: Ein hochenergetischer Ionenstrahl bombardiert ein Zielmaterial, wodurch Atome herausgeschleudert und auf dem Substrat abgelagert werden.
Gepulste Laserabscheidung (PLD): Ein Hochleistungslaserstrahl wird verwendet, um Material von einem Ziel zu verdampfen, das dann auf dem Substrat kondensiert.
Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Niederdruck-CVD (LPCVD): Wird bei reduziertem Druck durchgeführt, um die Temperaturen zu senken und die Filmqualität zu verbessern.
Plasmaunterstützte CVD (PECVD): Verwendet ein Plasma, um chemische Reaktionen bei niedrigeren Temperaturen als bei herkömmlicher CVD zu aktivieren.
Atomlagenabscheidung (ALD)
ALD ist eine Art von CVD, bei der Filme atomarschichtweise abgeschieden werden, was eine hervorragende Kontrolle über Filmdicke und -zusammensetzung ermöglicht.
Bei der Vakuumbeschichtung verwendete Ausrüstung
Vakuumkammer: Die Hauptkomponente, in der der Beschichtungsprozess stattfindet.
Vakuumpumpen: Zum Erzeugen und Aufrechterhalten einer Vakuumumgebung.
Substrathalter: Zum Festhalten des Substrats während des Beschichtungsprozesses.
Verdampfungs- oder Sputterquellen: Abhängig vom verwendeten PVD-Verfahren.
Stromversorgungen: Zum Zuführen von Energie zu den Verdampfungsquellen oder zum Erzeugen eines Plasmas bei PECVD.
Temperaturkontrollsysteme: Zum Erhitzen von Substraten oder zur Kontrolle der Prozesstemperatur.
Überwachungssysteme: Zum Messen der Dicke, Gleichmäßigkeit und anderer Eigenschaften des abgeschiedenen Films.
Anwendungen der Vakuumbeschichtung
Optische Beschichtungen: Für Antireflex-, Reflexions- oder Filterbeschichtungen auf Linsen, Spiegeln und anderen optischen Komponenten.
Dekorative Beschichtungen: Für eine breite Produktpalette, darunter Schmuck, Uhren und Autoteile.
Hartbeschichtungen: Zur Verbesserung der Verschleißfestigkeit und Haltbarkeit von Schneidwerkzeugen, Motorkomponenten und medizinischen Geräten.
Barrierebeschichtungen: Zur Verhinderung von Korrosion oder Permeation auf Metall-, Kunststoff- oder Glassubstraten.
Elektronische Beschichtungen: Für die Herstellung von integrierten Schaltkreisen, Solarzellen und anderen elektronischen Geräten.
Vorteile der Vakuumbeschichtung
Präzision: Durch die Vakuumbeschichtung ist eine präzise Kontrolle der Filmdicke und -zusammensetzung möglich.
Gleichmäßigkeit: Filme können gleichmäßig über komplexe Formen und große Flächen aufgetragen werden.
Effizienz: Der Prozess lässt sich hochgradig automatisieren und eignet sich für die Großserienproduktion.
Umweltfreundlichkeit: Beim Vakuumbeschichten werden in der Regel weniger Chemikalien verwendet und es entsteht weniger Abfall als bei anderen Beschichtungsverfahren.
–Dieser Artikel wurde veröffentlicht vonHersteller von VakuumbeschichtungsanlagenGuangdong Zhenhua
Veröffentlichungszeit: 15. August 2024