Ни өчен чүп-чар суырткыч кулланырга кирәк?
Пычрануны булдырмау: Вакуумда һава һәм башка газлар булмау утырма материалының атмосфера газлары белән реакциягә керүенә комачаулый, бу исә пленканы пычратырга мөмкин.
Яхшыртылган адгезия: Һава җитмәү пленканың нигезгә турыдан-туры ябышуын аңлата, һава кесәләре яки бәйләнешне киметергә мөмкин булган башка интерстициаль газлар булмыйча.
Пленка сыйфаты: Вакуум шартлары пленкаларны урнаштыру процессын яхшырак контрольдә тотарга мөмкинлек бирә, нәтиҗәдә, бер төрле һәм югарырак сыйфатлы пленкалар барлыкка килә.
Түбән температурада утыру: Кайбер материаллар атмосфера газларына дучар ителсә, алар утыру өчен кирәкле температурада таркала яки реакциягә керә ала. Вакуумда бу материаллар түбәнрәк температурада утыртылырга мөмкин.
Вакуум каплау процесслары төрләре
Физик пар утырту (PVD)
Термик парга әйләнү: Материал вакуумда парга әйләнгәнче җылытыла, аннары субстратта конденсацияләнә.
Сиптерү: Югары энергияле ион нуры максат материалын бомбага тота, нәтиҗәдә атомнар чыгып, субстратка эләгә.
Импульслы лазер белән каплау (PLD): Максаттан материалны парга әйләндерү өчен югары куәтле лазер нуры кулланыла, аннары ул субстратта конденсацияләнә.
Химик пар утырту (ХПК)
Түбән басымлы CVD (LPCVD): түбән басым астында түбән температураларда башкарыла һәм пленка сыйфатын яхшырта.
Плазма белән көчәйтелгән йөрәк-кан тамырлары авырулары (PECVD): Традицион йөрәк-кан тамырлары авыруларына караганда түбәнрәк температураларда химик реакцияләрне активлаштыру өчен плазма куллана.
Атом катламы утырмасы (ALD)
ALD - берьюлы бер атом катламы пленкаларны урнаштыра торган CVD төре, ул пленка калынлыгын һәм составын бик яхшы контрольдә тота.
Вакуум каплауда кулланыла торган җиһазлар
Вакуум камерасы: каплау процессы бара торган төп компонент.
Вакуум насослары: вакуум мохитен булдыру һәм саклау өчен.
Субстрат тотучы: Каплау процессында субстратны урынында тоту өчен.
Парга әйләнү яки сиптерү чыганаклары: кулланылган PVD ысулына бәйле.
Электр белән тәэмин итү чыганаклары: Парга әйләндерү чыганакларына энергия куллану яки PECVDда плазма генерацияләү өчен.
Температураны контрольдә тоту системалары: Субстратларны җылыту яки процесс температурасын контрольдә тоту өчен.
Мониторинг системалары: Чөккән пленканың калынлыгын, бердәмлеген һәм башка үзлекләрен үлчәү өчен.
Вакуум каплауның кулланылышы
Оптик каплаулар: Линзаларда, көзгеләрдә һәм башка оптик компонентларда чагылышка каршы, чагылышлы яки фильтрлы каплаулар өчен.
Декоратив капламалар: бизәнү әйберләре, сәгатьләр һәм автомобиль детальләре кебек төрле продуктлар өчен.
Каты каплаулар: кисү коралларының, двигатель компонентларының һәм медицина җайланмаларының тузуга чыдамлыгын һәм ныклыгын яхшырту өчен.
Барьер каплаулары: Металл, пластик яки пыяла субстратларда коррозия яки үтеп керүне булдырмас өчен.
Электрон каплаулар: Интеграль схемалар, кояш батареялары һәм башка электрон җайланмалар җитештерү өчен.
Вакуум каплауның өстенлекләре
Төгәллек: Вакуум каплавы пленка калынлыгын һәм составын төгәл контрольдә тотарга мөмкинлек бирә.
Бердәмлек: Пленкаларны катлаулы формаларга һәм зур мәйданнарга тигез итеп куярга мөмкин.
Нәтиҗәлелек: Процесс югары дәрәҗәдә автоматлаштырылырга мөмкин һәм зур күләмле җитештерү өчен яраклы.
Әйләнә-тирә мохиткә зыянсызлык: Вакуум каплау, гадәттә, башка каплау ысулларына караганда азрак химик матдәләр куллана һәм азрак калдыклар чыгара.
–Бу мәкалә бастырып чыгарылдывакуум каплау машинасы җитештерүчесеГуандун Чжэнхуа
Бастырып чыгару вакыты: 2024 елның 15 августы