Máy phủ màng bằng phương pháp phún xạ ion hoàn toàn tự động sử dụng những tiến bộ mới nhất trong công nghệ phún xạ ion để cung cấp quy trình phủ màng liền mạch và hiệu quả. Với khả năng hoàn toàn tự động, máy mang lại độ chính xác và tính nhất quán vượt trội, đảm bảo chất lượng lớp phủ cao nhất...
Việc sử dụng máy phủ chân không chống bám vân tay trên kim loại là một bước tiến lớn trong công nghệ bảo vệ bề mặt. Bằng cách kết hợp công nghệ chân không và các lớp phủ chuyên dụng, những máy này tạo ra một lớp mỏng, chống mài mòn trên bề mặt kim loại, bảo vệ chống lại dấu vân tay và các tác nhân gây hại khác...
Trong lĩnh vực sản xuất tiên tiến và sản xuất công nghiệp, nhu cầu về máy phủ chân không thực tiễn đang ngày càng tăng. Những cỗ máy hiện đại này đang cách mạng hóa cách thức phủ nhiều loại vật liệu khác nhau, mang lại độ bền, hiệu suất và tính thẩm mỹ được nâng cao. Trong bài viết này...
Với sự phát triển ngày càng tăng của công nghệ phủ màng bằng phương pháp lắng đọng phún xạ, đặc biệt là công nghệ phủ màng bằng phương pháp lắng đọng phún xạ magnetron, hiện nay, bất kỳ vật liệu nào cũng có thể được chế tạo bằng màng phủ mục tiêu bắn phá ion, bởi vì mục tiêu được phún xạ trong quá trình phủ lên một loại chất nền nào đó, chất lượng của...
A. Tốc độ lắng đọng cao. Ví dụ, khi lắng đọng SiO2, tốc độ lắng đọng có thể lên đến 200nm/phút, thường là 10~100nm/phút. Và tốc độ hình thành màng tỷ lệ thuận với công suất tần số cao. B. Độ bám dính giữa màng và chất nền lớn hơn so với lắng đọng chân không...
Dây chuyền sản xuất màng phim đèn xe hơi là một phần thiết yếu của ngành công nghiệp sản xuất ô tô. Các dây chuyền sản xuất này chịu trách nhiệm phủ và sản xuất màng phim đèn xe hơi, đóng vai trò quan trọng trong việc nâng cao tính thẩm mỹ và chức năng của đèn xe. Khi nhu cầu về chất lượng cao...
Quá trình lắng đọng phún xạ magnetron chủ yếu bao gồm vận chuyển plasma phóng điện, khắc mục tiêu, lắng đọng màng mỏng và các quy trình khác, từ trường sẽ có tác động đến quá trình lắng đọng phún xạ magnetron. Trong hệ thống lắng đọng phún xạ magnetron có thêm từ trường vuông góc, các electron chịu tác động của...
Máy phủ chân không trên hệ thống bơm có các yêu cầu cơ bản sau: (1) Hệ thống chân không phủ phải có tốc độ bơm đủ lớn, không chỉ phải nhanh chóng bơm ra các khí thoát ra từ chất nền và vật liệu bay hơi và các thành phần trong buồng chân không...
Máy phủ PVD cho đồ trang sức sử dụng quy trình được gọi là lắng đọng hơi vật lý (PVD) để phủ một lớp màng mỏng nhưng bền chắc lên các món đồ trang sức. Quy trình này bao gồm việc sử dụng các mục tiêu kim loại rắn có độ tinh khiết cao, được làm bay hơi trong môi trường chân không. Hơi kim loại thu được sau đó...
Một trong những ưu điểm chính của máy phủ chân không PVD linh hoạt cỡ nhỏ là tính đa dụng của chúng. Những máy này được thiết kế để phù hợp với nhiều kích thước và hình dạng chất nền khác nhau, lý tưởng cho các quy trình sản xuất quy mô nhỏ hoặc theo yêu cầu. Ngoài ra, kích thước nhỏ gọn và cấu hình linh hoạt của chúng...
Trong ngành công nghiệp sản xuất không ngừng phát triển, dụng cụ cắt đóng vai trò thiết yếu trong việc định hình các sản phẩm chúng ta sử dụng hàng ngày. Từ việc cắt chính xác trong ngành hàng không vũ trụ đến các thiết kế phức tạp trong lĩnh vực y tế, nhu cầu về dụng cụ cắt chất lượng cao ngày càng tăng. Để đáp ứng nhu cầu này, chúng ta...
Khi quá trình lắng đọng các nguyên tử màng bắt đầu, sự bắn phá ion có những tác động sau lên giao diện màng/chất nền. (1) Sự trộn lẫn vật lý. Do sự tiêm ion năng lượng cao, sự bắn phá các nguyên tử được lắng đọng và sự tiêm giật lùi của các nguyên tử bề mặt và hiện tượng va chạm tầng, wi...
Hiện tượng bắn phá bằng hạt (sputtering) là hiện tượng trong đó các hạt năng lượng cao (thường là các ion dương của khí) va chạm vào bề mặt của chất rắn (gọi tắt là vật liệu đích), khiến các nguyên tử (hoặc phân tử) trên bề mặt vật liệu đích bị bắn phá ra. Hiện tượng này được Grove phát hiện vào năm 1842 khi...
Đặc điểm của lớp phủ phún xạ magnetron (3) Phún xạ năng lượng thấp. Do điện áp catốt thấp được áp dụng cho mục tiêu, plasma bị ràng buộc bởi từ trường trong không gian gần catốt, do đó ngăn chặn các hạt tích điện năng lượng cao bắn ra phía bên của chất nền. ...
So với các công nghệ phủ khác, phương pháp phủ bằng phún xạ magnetron có những đặc điểm sau: các thông số hoạt động có phạm vi điều chỉnh động lớn, tốc độ và độ dày lớp phủ (trạng thái của vùng được phủ) có thể dễ dàng kiểm soát, và không có thiết kế...