Beira-zeramikazko teilak urreztatzeko makinak teknika aurreratuak erabiltzen ditu urreztatze geruza fin bat teilen gainazalean aplikatzeko, itxura harrigarri eta luxuzkoa sortuz. Prozesu honek ez ditu teilen estetika hobetzen bakarrik, baita babes gehigarria ere eskaintzen du ...
Filma prestatzeko prozesuan, substratua honako indar-gainazalaren arabera hauta daiteke: 1. Aplikazio-helburu desberdinen arabera, hautatu Urre-erakusketa edo Aleazioa, Beira, Zeramika eta Plastikoa substratu gisa; 2. Substratu-materialaren egitura bat dator...
Filmaren hazkundeari aurre egiteak eragin oso garrantzitsua du. Substratuaren gainazaleko zimurtasuna handia bada, eta gero eta gehiago gainazaleko akatsekin konbinatzen bada, filmaren atxikimenduan eta hazkunde-tasan eragina izango du. Beraz, hutsean estaldura hasi aurretik, substratua aurre-prozesatu egingo da...
Erresistentzia-berogailuaren lurruntze-iturriaren egitura sinplea, erabiltzeko erraza eta egiteko erraza da, eta lurruntze-iturri mota erabiliena da. Bero-sortzaile edo lurruntze-ontzi deitzen zaie normalean. Berotzeko erabiltzen den erresistentzia-materialaren eskakizunak hauek dira: tenperatura altua, erresistentzia...
Hutsean lurruntzeko eta hutsean ioitzeko prozesuan, mintz-materiala 1000 ~ 2000C tenperatura altuan egongo da, beraz, gailua lurrundu egingo da, lurruntze-iturri gisa ezagutzen dena. Lurruntze-iturri mota gehiago daude, baratxuri-ilearen iturriaren lurruntze-mintz-materialak desberdinak dira...
PVD (Physical Vapor Deposition) hutsean estaldura hutsean dagoen ganbera bat erabiltzen duen prozesu bat da, material-geruza meheak substratu batean uzteko. Teknologia hau asko erabili da fabrikazioan hainbat produkturen errendimendua eta itxura hobetzeko, eta orain produktuetan ere aplikatzen ari da...
Hutsean estaltzeko ekipamendu multifuntzionalak punta-puntako teknologia erabiltzen du estaldura meheak hainbat materialetan aplikatzeko, besteak beste, metaletan, beiran eta plastikoetan. Prozesu honek ez ditu produktuen estetika hobetzen bakarrik, baita haien iraunkortasuna eta errendimendua ere. Ondorioz, fabrikatzaileak...
PVD Hutsean Estaltzeko Ekipamendua iraultzailea da osasun-produktuen ekoizpenean. Teknologia aurreratu honek Lurrun Deposizio Fisikoa (PVD) izeneko prozesu bat erabiltzen du osasun-produktuetan estaldura iraunkor eta iraunkorra sortzeko. Emaitza kalitate handiko akabera da...
Hutsean estaltzeko zehaztasun handiko ekipamenduak hainbat materialetan film meheak eta estaldurak zehaztasun handiz aplikatzen dituzten makina bereziak dira. Prozesua hutsean gertatzen da, eta horrek ezpurutasunak ezabatzen ditu eta estalduraren aplikazioan uniformetasun eta koherentzia handiagoa lortzen du...
Hutsean estaltzeko ekipamendu horizontal handien abantaila nagusietako bat substratu handi eta lauetan estaldura mehe eta uniformeak aplikatzeko duen gaitasuna da. Hau bereziki garrantzitsua da beira-fabrikazioa bezalako industrietan, non gainazal handi batean estaldura-lodiera koherentea lortzea ezinbestekoa den...
Erloju-ioien urrezko hutsean estaltzeko makinaren funtzionamendu-printzipioa lurrun-deposizio fisikoa (PVD) erabiltzea da, erloju-piezen gainazalean urre-geruza fin bat estaltzeko. Prozesuak urrea huts-ganbera batean berotzea dakar, lurrundu eta gero gainazalean kondentsatzea eraginez...
Nanozeramikazko hutsean estaltzeko makina punta-puntako teknologia bat da, hutsean deposizio prozesua erabiltzen duena zeramikazko materialen geruza meheak hainbat substratutan estaltzeko. Estaldura-metodo aurreratu honek abantaila asko eskaintzen ditu, besteak beste, gogortasun handiagoa, egonkortasun termiko hobea eta...
1. Kromoaren helburua Kromoa sputtering film material gisa ez da soilik erraza substratuarekin konbinatzea atxikimendu handikoarekin, baita kromoa eta oxidoa ere CrO3 filma sortzeko, bere propietate mekanikoak, azidoen erresistentzia, egonkortasun termikoa hobeak dira. Gainera, kromoa oxidazio osatugabean...
1. Ioi-izpien bidezko deposizio teknologia mintzaren eta substratuaren arteko atxikimendu sendoagatik bereizten da, mintz-geruza oso sendoa da. Esperimentuek erakusten dute: ioi-izpien bidezko deposizioak atxikimenduaren igoera termiko-lurrun bidezko deposizioarena baino hainbat aldiz handitu da, ehunka...
Sputtering bidezko estaldura prozesuan, konposatuak erabil daitezke kimikoki sintetizatutako filmak prestatzeko helburu gisa. Hala ere, helburu-materiala sputtering bidez ihinztatu ondoren sortutako filmaren konposizioa askotan asko aldentzen da helburu-materialaren jatorrizko konposiziotik, eta beraz...