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Notizia

  • Vi presentiamo l'ultima macchina completamente automatica per la deposizione di rivestimenti mediante sputtering ionico.

    La macchina per rivestimento a sputtering ionico completamente automatica utilizza le più recenti innovazioni nella tecnologia di sputtering ionico per fornire un processo di rivestimento efficiente e senza interruzioni. Grazie alle sue funzionalità completamente automatiche, la macchina offre precisione e uniformità senza pari, garantendo un rivestimento di altissima qualità...
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  • Rivestimenti sottovuoto per metalli anti-impronta

    L'utilizzo di macchine per la verniciatura sottovuoto anti-impronta su metallo rappresenta un importante progresso nella tecnologia di protezione delle superfici. Combinando la tecnologia del vuoto con rivestimenti specializzati, queste macchine creano uno strato sottile e resistente all'usura sulle superfici metalliche, proteggendole dalle impronte digitali e da altre impurità.
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  • Macchina per rivestimento sottovuoto pratica

    Nei settori della produzione avanzata e della produzione industriale, la domanda di macchine per la verniciatura sottovuoto pratiche è in costante aumento. Queste macchine all'avanguardia stanno rivoluzionando il modo in cui vengono rivestiti diversi materiali, offrendo maggiore durata, prestazioni ed estetica. In questo articolo del blog...
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  • Principio e classificazione della selezione del materiale target

    Principio e classificazione della selezione del materiale target

    Con il crescente sviluppo della tecnologia di rivestimento per sputtering, in particolare della tecnologia di rivestimento per sputtering magnetron, attualmente è possibile preparare qualsiasi materiale mediante film bersaglio di bombardamento ionico, poiché il bersaglio viene spruzzato durante il processo di rivestimento su un qualche tipo di substrato, la qualità di...
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  • Caratteristiche principali del rivestimento mediante sputtering RF

    Caratteristiche principali del rivestimento mediante sputtering RF

    A. Elevata velocità di sputtering. Ad esempio, durante lo sputtering di SiO2, la velocità di deposizione può raggiungere i 200 nm/min, solitamente fino a 10~100 nm/min. E la velocità di formazione del film è direttamente proporzionale alla potenza ad alta frequenza. B. L'adesione tra il film e il substrato è maggiore rispetto al vapore sotto vuoto...
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  • Linee di rivestimento per la produzione di pellicole per fari automobilistici

    Le linee di produzione di pellicole per fari automobilistici sono una parte essenziale dell'industria automobilistica. Queste linee di produzione sono responsabili del rivestimento e della produzione di pellicole per fari, che svolgono un ruolo cruciale nel migliorare l'estetica e la funzionalità dei fari delle auto. Poiché la domanda di pellicole di alta qualità...
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  • Il ruolo del campo magnetico nella deposizione a sputtering magnetron

    Il ruolo del campo magnetico nella deposizione a sputtering magnetron

    La deposizione per sputtering magnetron comprende principalmente il trasporto del plasma di scarica, l'incisione del bersaglio, la deposizione di film sottili e altri processi; il campo magnetico sul processo di sputtering magnetron avrà un impatto. Nel sistema di sputtering magnetron con campo magnetico ortogonale, gli elettroni sono soggetti a...
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  • Requisiti del sistema di pompaggio per la macchina di rivestimento sottovuoto

    Requisiti del sistema di pompaggio per la macchina di rivestimento sottovuoto

    La macchina per rivestimento sottovuoto sul sistema di pompaggio ha i seguenti requisiti di base: (1) Il sistema di vuoto per il rivestimento deve avere una portata di pompaggio sufficientemente elevata, che deve aspirare rapidamente i gas rilasciati dal substrato e i materiali evaporati e i componenti nel vuoto...
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  • Macchina per rivestimento PVD di gioielli

    La macchina per la deposizione di rivestimenti PVD su gioielli utilizza un processo noto come deposizione fisica da fase vapore (PVD) per applicare un rivestimento sottile ma resistente sui gioielli. Questo processo prevede l'utilizzo di target di metallo solido ad elevata purezza, che vengono evaporati in un ambiente sottovuoto. Il vapore metallico risultante viene quindi condensato...
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  • Piccola macchina flessibile per rivestimento sottovuoto PVD

    Uno dei principali vantaggi delle piccole macchine flessibili per la deposizione sottovuoto PVD è la loro versatilità. Queste macchine sono progettate per adattarsi a una varietà di dimensioni e forme di substrato, rendendole ideali per processi di produzione su piccola scala o personalizzati. Inoltre, le sue dimensioni compatte e la configurazione flessibile...
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  • Utensili da taglio Macchina per rivestimento sottovuoto

    Nell'industria manifatturiera in continua evoluzione, gli utensili da taglio svolgono un ruolo fondamentale nel dare forma ai prodotti che utilizziamo quotidianamente. Dal taglio di precisione nell'industria aerospaziale ai progetti complessi in campo medicale, la domanda di utensili da taglio di alta qualità continua ad aumentare. Per soddisfare questa domanda, gli utensili da taglio...
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  • Effetto del bombardamento ionico sull'interfaccia tra lo strato di film e il substrato.

    Effetto del bombardamento ionico sull'interfaccia tra lo strato di film e il substrato.

    Quando inizia la deposizione degli atomi della membrana, il bombardamento ionico ha i seguenti effetti sull'interfaccia membrana/substrato. (1) Mescolamento fisico. A causa dell'iniezione di ioni ad alta energia, dello sputtering degli atomi depositati e dell'iniezione di rinculo degli atomi superficiali e del fenomeno di collisione a cascata, wi...
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  • Rinascita e sviluppo della tecnica di rivestimento a sputtering sottovuoto.

    Rinascita e sviluppo della tecnica di rivestimento a sputtering sottovuoto.

    Lo sputtering è un fenomeno in cui particelle energetiche (solitamente ioni positivi di gas) colpiscono la superficie di un solido (di seguito chiamato materiale bersaglio), provocando la fuoriuscita di atomi (o molecole) dalla superficie del materiale bersaglio. Questo fenomeno fu scoperto da Grove nel 1842 quando...
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  • Caratteristiche del rivestimento mediante sputtering magnetron Capitolo 2

    Caratteristiche del rivestimento mediante sputtering magnetron Capitolo 2

    Caratteristiche del rivestimento mediante sputtering magnetron (3) Sputtering a bassa energia. A causa della bassa tensione catodica applicata al bersaglio, il plasma è confinato dal campo magnetico nello spazio vicino al catodo, inibendo così le particelle cariche ad alta energia verso il lato del substrato. Il...
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  • Caratteristiche del rivestimento mediante sputtering magnetron Capitolo 1

    Caratteristiche del rivestimento mediante sputtering magnetron Capitolo 1

    Rispetto ad altre tecnologie di rivestimento, il rivestimento mediante sputtering magnetron è caratterizzato dalle seguenti caratteristiche: i parametri di lavoro hanno un ampio intervallo di regolazione dinamica della velocità di deposizione del rivestimento e lo spessore (lo stato dell'area rivestita) può essere facilmente controllato e non c'è progettazione...
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