Salvete ad Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nuntii
-
Machina Auraria Tegularum Vitrearum Ceramicarum
Machina ad tegulas vitroceramicas aurandas utitur artibus provectis ad tenuem stratum aurandi superficiei tegularum applicandum, speciem mirabilem et luxuriosam creans. Hic processus non solum pulchritudinem tegularum auget, sed etiam praesidium additum contra ...Plura lege -
Principia substratorum et selectionis pellicularum
Dum pellicula praeparatur, substratum secundum sequentem vim superficialem eligi potest: 1. Secundum usus diversos, elige Aurum Spectaculum vel Mixturam Metallicam, Vitrum, Ceramicam et Plasticum ut substratum; 2. Structura materiae substrati respondet fi...Plura lege -
Forma superficiei et coefficiens expansionis thermalis substrati in pellicula
Incrementum pelliculae sustinere momentum magni momenti habet. Si asperitas superficiei substrati magna est, et magis ac magis cum vitiis superficialibus coniungitur, adhaesionem et celeritatem incrementi pelliculae afficiet. Ergo, antequam obductio vacuo incipiat, substratum praeparatum erit...Plura lege -
Proprietates, requisita et selectio materiae fontis evaporationis et calefactionis resistentiae
Structura fontis evaporationis calefactionis resistentiae simplex, facilis usu, facilis fabricatione est, et est genus fontis evaporationis latissime adhibitum. Generator caloris vel navis evaporationis plerumque appellatur. Requisita materiae resistentiae calefactionis adhibitae sunt: temperatura alta, resistentia,...Plura lege -
Designatio fontis evaporationis et usus problematis
In processu evaporationis vacui et ionis vacui, materia membranae erit in temperatura alta 1000 ~ 2000C, ita ut vaporizatio eius Yanfa in apparatu, quae fons evaporationis appellatur, fiat. Plura genera fontis evaporationis, vaporizatio fontis capillorum allii materiae membranae differunt pr...Plura lege -
Machina Plastica Cochlearis PVD Vacuum Tegendi
Depositio Vaporis Physica (PVD) in vacuo est processus qui cameram vacui adhibet ad tenues pelliculas materiae in substratum deponendas. Haec technologia late in fabricatione adhibita est ad augendam efficaciam et speciem variorum productorum, et nunc etiam ad producta applicatur...Plura lege -
Instrumenta Multifunctionalia Vacuum Tegendi
Instrumentum multifunctionale ad obductionem in vacuo applicandam technologia modernissima utitur ad obductionem tenuem variis materiis, inter quas metalla, vitrum et plastica, applicandam. Hic processus non solum pulchritudinem productorum amplificat, sed etiam durabilitatem et efficaciam eorum auget. Quam ob rem, fabri...Plura lege -
Instrumenta ad Vacuum Tegendum Pvd Sanitarium
Apparatus ad Depositionem Vaporis Physicam (PVD) Obductionem Vacuam Obducendi Instrumenta Sanitaria (sc. apparatus PVD) in productione productorum sanitariorum res novas affert. Haec technologia provecta processum, Depositionem Vaporis Physicam (PVD) appellatum, adhibet ad obductionem durabilem et diuturnam in productis sanitariis creandam. Resultatum est finis summae qualitatis qui...Plura lege -
Instrumenta ad Vacuum Obductionem Praecisionis
Apparatus ad obductionem vacui accuratam pertinent ad machinas speciales quae tenues membranas et obductiones variis materiis summa cum praecisione applicant. Processus in ambitu vacui fit, quod impuritates eliminat et uniformitatem ac constantiam superiorem in applicatione obductionis efficit...Plura lege -
Magnae Machinae Horizontales Vacuum Tegendi
Unum ex praecipuis commodis magnarum machinarum horizontalium ad obductionem in vacuo est facultas earum ad obductionem tenuem et uniformem in substrata magna et plana applicandam. Hoc praecipue magni momenti est in industriis sicut fabricatione vitri, ubi crassitudinem obductionis constantem per magnam superficiem assequi essentiale est...Plura lege -
Machina Vacuum Obducendi Auri Ion Watch
Principium operationis machinae auri in vacuo ionizatae horologiorum est ut, per depositionem vaporis physici (PVD), tenui auri strato superficiei partium horologiorum obducatur. Processus aurum in camera vacuo calefacit, quo evaporatio et deinde condensatio in superficie efficitur...Plura lege -
Machina Nano Ceramica Vacuum Obducendi
Machina nanoceramica ad obducendum vacuum est technologia modernissima quae, processu depositionis vacui utens, tenues stratas materiarum ceramicarum in varia substrata obducit. Haec methodus obducendi provecta multa commoda offert, inter quae duritiam auctam, stabilitatem thermalem emendatam, et qualitatem superiorem...Plura lege -
Complures Materiae Scopi Communis
1. Scopus chromii Chromium, ut materia pelliculae pulverisationis, non solum facile cum substrato adhaerente miscetur, sed etiam chromium et oxidum ad pelliculam CrO3 generandam, cuius proprietates mechanicae, resistentia acidorum, et stabilitas thermalis meliores sunt. Praeterea, chromium in oxidatione incompleta...Plura lege -
Technologia Depositionis Adiuvatae Fasciculo Ionico
1. Technologia depositionis fasciculo ionico adiuvatae adhaesione valida inter membranam et substratum insignitur, strato membranae valde valido. Experimenta ostendunt: depositione fasciculo ionico adiuvata adhaesionem adhaesionis quam depositione vaporis thermalis ad centum vicibus auctam esse...Plura lege -
Proprietates et Applicationes Tegumentorum Pulverisationis Reactivae
In processu depositionis per pulverizationem cathodicam, composita ut metae ad praeparationem pellicularum chemicae synthesizatarum adhiberi possunt. Attamen, compositio pelliculae generatae post pulverizationem materiae designatae saepe a compositione originali materiae designatae valde discrepat, et ideo...Plura lege
