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소식
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최신 전자동 이온 스퍼터링 코팅 장비를 소개합니다
완전 자동 이온 스퍼터링 코팅 장비는 최첨단 이온 스퍼터링 기술을 활용하여 매끄럽고 효율적인 코팅 공정을 제공합니다. 완전 자동 기능을 통해 탁월한 정밀도와 일관성을 제공하여 최고 품질의 코팅을 보장합니다.더 읽어보기 -
금속 지문 방지 진공 코팅
금속 지문 방지 진공 코팅 장비의 사용은 표면 보호 기술에 있어 중요한 진전을 의미합니다. 진공 기술과 특수 코팅을 결합한 이 장비는 금속 표면에 얇고 내마모성이 뛰어난 보호막을 형성하여 지문 및 기타 오염으로부터 표면을 보호합니다.더 읽어보기 -
실용적인 진공 코팅기
첨단 제조 및 산업 생산 분야에서 실용적인 진공 코팅 장비에 대한 수요가 증가하고 있습니다. 이러한 최첨단 장비는 다양한 소재의 코팅 방식을 혁신하여 내구성, 성능 및 미관을 향상시키고 있습니다. 이 블로그에서는...더 읽어보기 -
대상 물질 선정 원칙 및 분류
스퍼터링 코팅 기술, 특히 마그네트론 스퍼터링 코팅 기술의 발전으로 현재는 이온 충격 타겟 코팅을 통해 어떤 재료든 필름을 제작할 수 있습니다. 코팅 과정에서 타겟이 스퍼터링되어 기판에 부착되기 때문에 코팅 품질이 우수합니다.더 읽어보기 -
RF 스퍼터링 코팅의 주요 특징
A. 높은 스퍼터링 속도. 예를 들어, SiO2를 스퍼터링할 때 증착 속도는 최대 200nm/min에 달할 수 있으며, 일반적으로는 10~100nm/min 정도입니다. 또한, 박막 형성 속도는 고주파 전력에 정비례합니다. B. 박막과 기판 사이의 접착력이 진공 증착보다 우수합니다.더 읽어보기 -
자동차 램프 필름 생산 코팅 라인
자동차 램프 필름 생산 라인은 자동차 제조 산업에서 필수적인 부분입니다. 이 생산 라인은 자동차 램프 필름의 코팅 및 생산을 담당하며, 이 필름은 자동차 램프의 미관과 기능성을 향상시키는 데 중요한 역할을 합니다. 고품질 램프 필름에 대한 수요가 증가함에 따라...더 읽어보기 -
마그네트론 스퍼터링에서 자기장의 역할
마그네트론 스퍼터링은 주로 방전 플라즈마 수송, 타겟 에칭, 박막 증착 등의 공정을 포함하며, 자기장은 마그네트론 스퍼터링 공정에 영향을 미칩니다. 직교 자기장이 가해진 마그네트론 스퍼터링 시스템에서 전자는 다음과 같은 영향을 받습니다...더 읽어보기 -
진공 코팅기용 펌핑 시스템 요구 사항
진공 코팅기의 펌핑 시스템은 다음과 같은 기본 요구 사항을 충족해야 합니다. (1) 코팅 진공 시스템은 충분히 큰 펌핑 속도를 가져야 하며, 이는 기판과 증발된 물질에서 방출되는 가스와 진공 챔버 내의 구성 요소를 신속하게 배출할 뿐만 아니라...더 읽어보기 -
보석류 PVD 코팅기
주얼리용 PVD 코팅 장비는 물리적 증착(PVD)이라는 공정을 이용하여 주얼리 표면에 얇지만 내구성이 뛰어난 코팅을 입힙니다. 이 공정은 고순도의 고체 금속 타겟을 진공 환경에서 증발시키는 방식으로 진행됩니다. 생성된 금속 증기는 응축되어...더 읽어보기 -
소형 유연 PVD 진공 코팅기
소형 유연 PVD 진공 코팅 장비의 주요 장점 중 하나는 다용도성입니다. 이 장비는 다양한 기판 크기와 모양에 맞춰 설계되어 소규모 또는 맞춤형 제조 공정에 이상적입니다. 또한, 컴팩트한 크기와 유연한 구성은...더 읽어보기 -
절삭 공구 진공 코팅기
끊임없이 진화하는 제조 산업에서 절삭 공구는 우리가 매일 사용하는 제품을 만드는 데 중요한 역할을 합니다. 항공우주 산업의 정밀 절삭부터 의료 분야의 복잡한 설계에 이르기까지 고품질 절삭 공구에 대한 수요는 계속해서 증가하고 있습니다. 이러한 수요를 충족하기 위해 미국은...더 읽어보기 -
이온 충격이 박막층/기판 계면에 미치는 영향
막 원자의 증착이 시작될 때, 이온 충격은 막/기판 계면에 다음과 같은 영향을 미칩니다. (1) 물리적 혼합. 고에너지 이온 주입으로 인해 증착된 원자의 스퍼터링, 표면 원자의 반동 주입 및 연쇄 충돌 현상이 발생하여...더 읽어보기 -
진공 스퍼터링 코팅의 부활과 발전
스퍼터링은 고에너지 입자(주로 기체의 양이온)가 고체 표면(이하 표적 물질)에 충돌하여 표적 물질 표면의 원자(또는 분자)가 떨어져 나가는 현상입니다. 이 현상은 1842년 그로브에 의해 발견되었습니다.더 읽어보기 -
마그네트론 스퍼터링 코팅의 특성 제2장
마그네트론 스퍼터링 코팅의 특징 (3) 저에너지 스퍼터링. 타겟에 인가되는 음극 전압이 낮기 때문에 플라즈마는 음극 근처 공간의 자기장에 의해 구속되어 고에너지 하전 입자가 기판 측면으로 발사되는 것을 억제합니다.더 읽어보기 -
마그네트론 스퍼터링 코팅의 특성 제1장
다른 코팅 기술과 비교했을 때, 마그네트론 스퍼터링 코팅은 다음과 같은 특징을 갖습니다. 코팅 증착 속도와 두께(코팅된 영역의 상태)를 비롯한 작업 매개변수의 동적 조정 범위가 넓어 제어가 용이하며, 설계상의 제약이 없습니다.더 읽어보기
