Isang Panimula sa Vacuum Coating

Bakit Gumamit ng Vacuum?
Pag-iwas sa Kontaminasyon: Sa isang vacuum, ang kawalan ng hangin at iba pang mga gas ay pumipigil sa deposition material na tumugon sa mga atmospheric gas, na maaaring makahawa sa pelikula.
Pinahusay na Pagdirikit: Ang kakulangan ng hangin ay nangangahulugan na ang pelikula ay direktang dumidikit sa substrate nang walang mga air pocket o iba pang interstitial gas na maaaring magpahina sa bono.
Kalidad ng Pelikula: Ang mga kondisyon ng vacuum ay nagbibigay-daan para sa mas mahusay na kontrol sa proseso ng pag-deposition, na nagreresulta sa mas pare-pareho at mas mataas na kalidad na mga pelikula.
Low-Temperature Deposition: Ang ilang materyales ay mabubulok o magre-react sa mga temperaturang kinakailangan para sa deposition kung sila ay nalantad sa mga atmospheric gas. Sa isang vacuum, ang mga materyales na ito ay maaaring ideposito sa mas mababang temperatura.
Mga Uri ng Proseso ng Vacuum Coating
Physical Vapor Deposition (PVD)
Thermal Evaporation: Ang materyal ay pinainit sa isang vacuum hanggang sa ito ay sumingaw at pagkatapos ay condenses sa substrate.
Sputtering: Ang isang high-energy ion beam ay nagbobomba sa isang target na materyal, na nagiging sanhi ng paglabas ng mga atomo at pagdeposito sa substrate.
Pulsed Laser Deposition (PLD): Ang isang high-power laser beam ay ginagamit upang mag-vaporize ng materyal mula sa isang target, na pagkatapos ay mag-condense sa substrate.
Chemical Vapor Deposition (CVD)
Low Pressure CVD (LPCVD): Isinasagawa sa pinababang presyon upang mapababa ang temperatura at mapabuti ang kalidad ng pelikula.
Plasma-Enhanced CVD (PECVD): Gumagamit ng plasma upang i-activate ang mga kemikal na reaksyon sa mas mababang temperatura kaysa sa tradisyonal na CVD.
Atomic Layer Deposition (ALD)
Ang ALD ay isang uri ng CVD na nagdedeposito ng mga pelikula ng isang atomic layer sa isang pagkakataon, na nagbibigay ng mahusay na kontrol sa kapal at komposisyon ng pelikula.

Kagamitang Ginagamit sa Vacuum Coating
Vacuum Chamber: Ang pangunahing bahagi kung saan nagaganap ang proseso ng patong.
Mga Vacuum Pump: Upang lumikha at mapanatili ang vacuum na kapaligiran.
Substrate Holder: Upang hawakan ang substrate sa lugar sa panahon ng proseso ng patong.
Evaporation o Sputtering Sources: Depende sa PVD method na ginamit.
Mga Power Supplies: Para sa paglalagay ng enerhiya sa mga pinagmumulan ng evaporation o para sa pagbuo ng plasma sa PECVD.
Temperature Control System: Para sa pagpainit ng mga substrate o pagkontrol sa temperatura ng proseso.
Mga Sistema sa Pagsubaybay: Upang sukatin ang kapal, pagkakapareho, at iba pang katangian ng nakadepositong pelikula.
Mga Aplikasyon ng Vacuum Coating
Mga Optical Coating: Para sa mga anti-reflective, reflective, o filter coatings sa mga lente, salamin, at iba pang optical component.
Mga Dekorasyon na Coating: Para sa malawak na hanay ng mga produkto, kabilang ang mga alahas, relo, at mga piyesa ng sasakyan.
Mga Hard Coating: Upang mapabuti ang wear resistance at tibay sa mga cutting tool, mga bahagi ng engine, at mga medikal na device.
Mga Barrier Coating: Upang maiwasan ang kaagnasan o pagtagos sa mga substrate ng metal, plastik, o salamin.
Mga Electronic Coating: Para sa paggawa ng mga integrated circuit, solar cell, at iba pang mga electronic device.
Mga Bentahe ng Vacuum Coating
Katumpakan: Ang vacuum coating ay nagbibigay-daan para sa tumpak na kontrol sa kapal at komposisyon ng pelikula.
Pagkakapareho: Ang mga pelikula ay maaaring ideposito nang pantay-pantay sa mga kumplikadong hugis at malalaking lugar.
Kahusayan: Ang proseso ay maaaring lubos na awtomatiko at angkop para sa mataas na dami ng produksyon.
Pagkakabaitan sa Kapaligiran: Ang vacuum coating ay karaniwang gumagamit ng mas kaunting mga kemikal at gumagawa ng mas kaunting basura kaysa sa iba pang mga pamamaraan ng coating.

–Ang artikulong ito ay inilabas ngtagagawa ng vacuum coating machineGuangdong Zhenhua