Mengapa Menggunakan Vakum?
Mencegah Pencemaran: Dalam vakum, ketiadaan udara dan gas lain menghalang bahan pemendapan daripada bertindak balas dengan gas atmosfera, yang boleh mencemari filem.
Lekatan yang Diperbaiki: Kekurangan udara bermakna filem itu melekat terus pada substrat tanpa poket udara atau gas celahan lain yang boleh melemahkan ikatan.
Kualiti Filem: Keadaan vakum membolehkan kawalan yang lebih baik ke atas proses pemendapan, menghasilkan filem yang lebih seragam dan berkualiti tinggi.
Pemendapan Suhu Rendah: Sesetengah bahan akan terurai atau bertindak balas pada suhu yang diperlukan untuk pemendapan jika ia terdedah kepada gas atmosfera. Dalam vakum, bahan-bahan ini boleh didepositkan pada suhu yang lebih rendah.
Jenis Proses Salutan Vakum
Pemendapan Wap Fizikal (PVD)
Penyejatan Terma: Bahan dipanaskan dalam vakum sehingga ia menyejat dan kemudian terpeluwap pada substrat.
Sputtering: Rasuk ion bertenaga tinggi mengebom bahan sasaran, menyebabkan atom dikeluarkan dan dimendapkan ke substrat.
Pemendapan Laser Berdenyutan (PLD): Pancaran laser berkuasa tinggi digunakan untuk mengewap bahan daripada sasaran, yang kemudiannya terpeluwap pada substrat.
Pemendapan Wap Kimia (CVD)
CVD Tekanan Rendah (LPCVD): Dilakukan pada tekanan rendah untuk menurunkan suhu dan meningkatkan kualiti filem.
Plasma-Enhanced CVD (PECVD): Menggunakan plasma untuk mengaktifkan tindak balas kimia pada suhu yang lebih rendah daripada CVD tradisional.
Pemendapan Lapisan Atom (ALD)
ALD ialah sejenis CVD yang mendepositkan filem satu lapisan atom pada satu masa, memberikan kawalan yang sangat baik terhadap ketebalan dan komposisi filem.
Peralatan Digunakan dalam Salutan Vakum
Ruang Vakum: Komponen utama di mana proses salutan berlaku.
Pam Vakum: Untuk mencipta dan mengekalkan persekitaran vakum.
Pemegang Substrat: Untuk memegang substrat pada tempatnya semasa proses salutan.
Sumber Penyejatan atau Sputtering: Bergantung pada kaedah PVD yang digunakan.
Bekalan Kuasa: Untuk menggunakan tenaga kepada sumber penyejatan atau untuk menghasilkan plasma dalam PECVD.
Sistem Kawalan Suhu: Untuk memanaskan substrat atau mengawal suhu proses.
Sistem Pemantauan: Untuk mengukur ketebalan, keseragaman dan sifat lain bagi filem yang didepositkan.
Aplikasi Salutan Vakum
Salutan Optik: Untuk salutan anti-reflektif, reflektif atau penapis pada kanta, cermin dan komponen optik lain.
Salutan Hiasan: Untuk pelbagai jenis produk, termasuk barang kemas, jam tangan dan bahagian automotif.
Salutan Keras: Untuk meningkatkan rintangan haus dan ketahanan pada alat pemotong, komponen enjin dan peranti perubatan.
Salutan Penghalang: Untuk mengelakkan kakisan atau resapan pada substrat logam, plastik atau kaca.
Salutan Elektronik: Untuk pengeluaran litar bersepadu, sel suria, dan peranti elektronik lain.
Kelebihan Salutan Vakum
Ketepatan: Salutan vakum membolehkan kawalan tepat ke atas ketebalan dan komposisi filem.
Keseragaman: Filem boleh didepositkan secara sama rata di atas bentuk kompleks dan kawasan yang luas.
Kecekapan: Proses ini boleh menjadi sangat automatik dan sesuai untuk pengeluaran volum tinggi.
Mesra Alam Sekitar: Salutan vakum biasanya menggunakan lebih sedikit bahan kimia dan menghasilkan kurang sisa daripada kaedah salutan lain.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: 15 Ogos 2024