Salvete ad Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
vexillo_paginae

Nuntii

  • Machina Aurei Coloris Vacui Obducendi

    Machina auri obducendi in vacuo technologia provecta utitur ad tenuem stratum auri obducendi in variis superficiebus, ut metallis, ceramicis, materiis plasticis, etc., deponendum. Processus per usum depositionis vaporis physicae (PVD) perficitur, technologia quae superficies altae qualitatis et durabiles cum e...
    Plura lege
  • Linea Magnetronis Speculi Autocineti Sputtering

    Linea pulverisationis magnetronis speculorum autocinetorum technologiam pulverisationis magnetronis provectam adhibet ad stratum tenue et uniforme specula autocinetorum applicandum. Hic processus particularum altae energiae usum implicat ad pelliculam tenuem in superficiem speculi deponendam, unde finis durabilis et summae qualitatis evenit...
    Plura lege
  • Systema Obductionis Vacuae Ebeam Opticae ad Obductionem AR AF

    Systema obductionis vacui fasciculi electronici (e-beam) ad obductionem AR AF (Argentariam-Anti-Fusion) res novas affert et fabricatoribus et clientibus. Utiendo vi evaporationis fasciculi electronici in ambitu vacuo, hoc systema modernissimum obductiones AR et AF accurate et uniformiter ad varietatem superficierum opticarum applicare potest...
    Plura lege
  • Apparatus ad Filtrationem Magneticam Duram Obducendi

    Apparatus ad obductionem duram per filtrationem magneticam adhibita est technologia novissima quae partes magnas agit in variis industriis, inter quas sunt fabricatio, autocinetica, aerospatialis et plura. Apparatus designatus est ad impuritates et sordes a obductionibus efficaciter removendas, productum finale summae qualitatis praebens...
    Plura lege
  • Machina Vacuum Obducendi ad Tutelam

    Machinae ad obducendum vacuum attentionem attrahunt propter facultatem suam applicandi obductiones protectivas variis materiis, inter quas metalla, plastica, vitrum et ceramica. Haec versatilitas eas reddit commodum pretiosum in industriis ut autocinetica, aerospatiali, electronica et fabricatione instrumentorum medicorum. Ut...
    Plura lege
  • Linea Productionis Tegumentorum Vitri Reflectentis

    Postulatio linearum tegumentorum vitri reflexivi constanter crescit, dum societates efficientiam energiae augere et splendorem in aedificiis reducere student. Hoc ad impetum in conatibus investigationis et progressionis ad processus productionis emendandos et tegumenta efficaciora et durabiliora creanda duxit. Una ex...
    Plura lege
  • Machinae ad Ornamenta Ornanda et PVD Obducenda

    Machinae ad obductionem PVD (Polyvinyl Deposit Vapor) in industria gemmarum magis magisque populares fiunt propter facultatem suam variis coloribus et ornamentis ornamentis applicandi. Haec technologia obductionem vividam et diuturnam creat quae splendorem suum per tempus retinet. Cum postulatio singularium et summae qualitatis...
    Plura lege
  • Introductio Recentissimae Machinae Automatae Ion Sputtering Obductionis

    Machina automatica ad obductionem per ionisationem pulverisandam, quae omnino adhibetur, recentissimis progressibus in technologia ionisationis pulverisationis utitur ad processum obductionis continuum et efficientem praebendum. Cum suis facultatibus omnino automaticis, machina praecisionem et constantiam incomparabilem praebet, optimam qualitatem obductionis curans...
    Plura lege
  • Obductores Vacui Metallici Contra Digitorum Impressiones

    Usus machinarum ad superficies metallicas obducendas, quae vestigia digitorum prohibent, magnum progressum in technologia tutelae superficierum repraesentat. Coniungendo technologiam vacui et obductiones speciales, hae machinae stratum tenue et attritu resistente in superficiebus metallicis creant, quod vestigia digitorum et alias impulsiones protegit...
    Plura lege
  • Machina Practica Vacuum Obducendi

    In campis fabricationis provectae et productionis industrialis, augetur postulatio machinarum practicarum ad obducendum in vacuo. Hae machinae modernissimae modum quo varia materia obducuntur revolutionant, praebentes durabilitatem, efficaciam et pulchritudinem auctam. In hoc articulo interretiali...
    Plura lege
  • Principium Selectionis Materiae Destinatae et Classificatio

    Principium Selectionis Materiae Destinatae et Classificatio

    Crescente progressu technologiae pulverisationis cathodicae, praesertim technologiae pulverisationis cathodicae magnetronis, hodie, quaelibet materia per bombardationem ionicam pelliculae scopi praeparari potest, quia scopum pulverisatione cathodica in processu obductionis ad aliquod substratum, qualitas...
    Plura lege
  • Proprietates Praecipuae Tegumenti Sputtering RF

    Proprietates Praecipuae Tegumenti Sputtering RF

    A. Alta celeritas pulverisationis. Exempli gratia, cum SiO2 pulverisatione utitur, celeritas depositionis usque ad 200nm/min pervenire potest, plerumque usque ad 10~100nm/min. Et celeritas formationis pelliculae directe proportionalis est potentiae altae frequentiae. B. Adhaesio inter pelliculam et substratum maior est quam vapor vacuum...
    Plura lege
  • Lineae Tegendi Pelliculae Lampadum Autocinetorum

    Lineae productionis pellicularum lampadum autocinetorum pars essentialis industriae fabricationis autocineticae sunt. Hae lineae productionis curant obductionem et productionem pellicularum lampadum autocinetorum, quae munus cruciale agunt in augendis aestheticis et functionibus lampadum autocinetorum. Cum postulatio qualitatis altae...
    Plura lege
  • Munus Campi Magnetici in Magnetron Sputtering

    Munus Campi Magnetici in Magnetron Sputtering

    Magnetron sputtering imprimis translationem plasmatis emissarii, corrosionem scopi, depositionem pelliculae tenuis, aliasque processus comprehendit; campus magneticus in processu magnetron sputtering vim habebit. In systemate magnetron sputtering una cum campo magnetico orthogonali, electrones subiecti sunt...
    Plura lege
  • Requisita Machinae Vacuo Obducendi Systematis Pumpandi

    Requisita Machinae Vacuo Obducendi Systematis Pumpandi

    Machina ad vacuum applicandum in systemate antliationis haec requisita fundamentalia habet: (1) Systema antliationis vacuum satis magnum habere debet, quod non solum vapores e substrato emissi et materias evaporatas et componentes in machina vacuo applicanda celeriter exhaurire debet...
    Plura lege