In processu evaporationis vacui et ionis vacui, materia membranae temperaturam inter 1000 et 2000°C altissimam habebit, ita ut vaporizatio eius per instrumentum, quae fons evaporationis appellatur, fiat. Plura genera vaporationis, et fons vaporationis per capillos alliaceos, materiae membranae secundum principia differunt. Tamen, quoad proprietates applicationis, in designando vel applicando, haec praecipue consideranda sunt:
1. Fons evaporationis evaporationem materiae membranae cum magna evaporationis celeritate convenire debet, et satis magnam materiae membranae continere posse;
② Fons evaporationis meliorem et longiorem vitam utilem habere debet;
③ Fons evaporationis adhibendus est in amplo ambitu evaporationis tam metallorum vel mixturarum metallorum (velut Al, Ti, Fe, Co, Cr) quam compositorum (e.g. SiO, SiO2, Zns etc.);
④ Fons evaporationis structura simplex, facilis fabricatione, facilis usu et conservatione, et operatione vilis esse debet.
–Hic articulus editus est abFabricator machinae ad obducendum vacuumGuangdong Zhenhua
Tempus publicationis: XXIII Februarii, MMXXIV