本装置は垂直型二重扉構造で、DCマグネトロンスパッタリングコーティング技術、抵抗蒸着コーティング技術、CVDコーティング技術、中周波イオン洗浄システムを統合した複合装置です。お客様の複雑な製品開発に適しています。

この装置はマグネトロンスパッタリングとイオンコーティング技術を統合し、独自のホイールハブクランプと自動回転治具設計により、色の均一性、蒸着速度、複合組成の安定性を向上させるソリューションを提供します。さまざまな製品要件に応じて…

この装置はマグネトロンスパッタリングとイオンコーティング技術を統合し、色の均一性、堆積速度、化合物組成の安定性を向上させるソリューションを提供します。製品要件に応じて、加熱システム、バイアスシステム、イオン化システムなどのデバイスを必要に応じて選択できます。

この装置は、マグネトロンスパッタリングと抵抗蒸着技術を統合し、様々な基板へのコーティングソリューションを提供します。この実験用コーティング装置は主に大学や科学研究機関で使用され、様々な実験ニーズに対応できます。

大型金属指紋防止コーティング設備には、陰極アークイオンコーティングシステム、中周波マグネトロンスパッタリングコーティングシステム、指紋防止コーティングシステムが装備されており、装飾性と耐久性の面で高級大型ステンレス鋼部品の二重の要件を満たしています。

本装置は、高速蒸着、高エネルギー、高金属イオン化率といった特徴を持つ陰極アーク蒸着イオンコーティング技術を採用しています。陰極アークは様々な要件に合わせて組み合わせることができ、様々なプロセスに対応できます。本装置は、優れた蒸着速度、高エネルギー、高金属イオン化率といった特徴を備えています。

本装置はマルチアークイオンコーティング技術を採用しており、操作が簡単で、排気速度が速く、効率が高く、プロセスの再現性に優れています。また、ワークピースのアップロードとダウンロードに便利なダブルステーション可動式ワークピースラックと、…

高級衛生陶器用の大型指紋防止コーティング設備には、陰極アークイオンコーティングシステム、中周波マグネトロンスパッタリングコーティングシステム、指紋防止コーティングシステムが装備されており、高誘電率衛生陶器業界の金属部品とセラミック部品の二重の要件を満たしています。

この装置は電子ビーム蒸着技術を採用しています。陰極フィラメントから放出された電子は一定のビーム電流に集束され、陰極とるつぼ間の電位によって加速され、コーティング材料を溶融・蒸発させます。この装置は次のような特徴を備えています…

携帯電話業界の需要が急速に拡大する中、従来の光学コーティング装置の積載能力では対応しきれなくなっています。振華はこの需要に応えるため、マグネトロンスパッタリング光学コーティング装置を発売しました。装置の特徴：(1)ワークラックは円筒形設計を採用し、ワークをラックに載せるスペースを確保しています。(2)ワークラックは、ワークをラックに載せるスペースを確保し、ワークをラックに載せるスペースを確保します。(3)ワークラックは、ワークをラックに載せるスペースを確保し、ワークをラックに載せるスペースを確保します。(4)ワークラックは、ワークをラックに載せるスペースを確保し、ワークをラックに載せるスペースを確保します。(5)ワークラックは、ワークをラックに載せるスペースを確保し、ワークをラックに載せるスペースを確保します。(6)ワークラックは、ワークをラックに載せるスペースを確保し、ワークをラックに載せるスペースを確保します。(7)ワークラックは、ワークをラックに載せるスペースを確保し、ワークをラックに載せるスペースを確保します。(8)ワークラックは、ワークをラックに載せるスペースを確保し、ワークをラックに載せる

本装置は、マグネトロンスパッタリングコーティングシステム、指紋防止コーティングシステム、そしてSPEEDFLO閉ループ制御を搭載しています。中周波マグネトロンスパッタリング技術と指紋防止技術を採用しており、精密加工向けに特別に設計されたナノコーティング装置です。

CF1914装置は、中周波マグネトロンスパッタリングコーティングシステム、陽極層イオン源、SPEEDFLO閉ループ制御、結晶制御モニタリングシステムを備えています。中周波マグネトロンスパッタリング技術は、様々な酸化物の堆積に用いられます。従来のスパッタリング装置と比較して、CF1914は優れた成膜性能と優れた成膜効率を誇ります。

装置の利点 本装置は電子ビーム蒸着技術を採用しており、陰極フィラメントから放出された電子が特定のビーム電流に集束されます。ビームは陰極とるつぼ間の電位によって加速され、コーティング材料を蒸発させます。

この装置は電子ビーム蒸着技術を採用しています。陰極フィラメントから放出された電子は一定のビーム電流に集束され、陰極とるつぼ間の電位によって加速され、コーティング材料を溶融・蒸発させます。この装置は次のような特徴を備えています…

この装置は電子ビーム蒸着技術を採用しています。陰極フィラメントから放出された電子は一定のビーム電流に集束され、陰極とるつぼ間の電位によって加速され、コーティング材料を溶融・蒸発させます。この装置は次のような特徴を備えています…

大型金属指紋防止コーティング設備には、陰極アークイオンコーティングシステム、中周波マグネトロンスパッタリングコーティングシステム、指紋防止コーティングシステムが装備されており、装飾性と耐久性の面で高級大型ステンレス鋼部品の二重の要件を満たしています。

近年、ジュエリーの着用性に対する市場ニーズがますます高まっていることを受け、当社はジュエリー業界向けに特殊な保護膜コーティング装置を発売しました。この装置はCVDコーティングシステムと保護膜コーティングシステムを採用しており、超耐腐食コーティングを施すことができます。

指紋防止コーティング装置は、磁気制御コーティングAF指紋防止技術を採用しており、指紋防止水滴角度は115°以上に達します。フィルムは優れた疎水性、高い安定性、優れた防汚性、防水性、耐摩耗性を備えています。

高級衛生陶器用の大型指紋防止コーティング設備には、陰極アークイオンコーティングシステム、中周波マグネトロンスパッタリングコーティングシステム、指紋防止コーティングシステムが装備されており、高誘電率衛生陶器業界の金属部品とセラミック部品の二重の要件を満たしています。

硬質コーティングの耐摩耗性、潤滑性、耐腐食性などの特性向上に対する市場需要の急速な高まりに伴い、陰極アーク磁気濾過イオンコーティング装置が注目を集めています。この装置は、最も一般的に使用され、効果的な90度アークコーティングを採用しています。

本装置のカソードは、フロントコイルと永久磁石の重ね合わせによるデュアルドライブ技術を採用し、陽極層イオン源エッチングシステムおよび3次元マルチアングル固定具と連携して、マルチステーション同時作業を実現します。大口径カソードを装備し…

本装置は陰極アークイオンコーティング技術を採用し、高度なIETエッチングシステムを備えています。処理後、遷移層を残さずに硬質コーティングを直接堆積できます。同時に、従来のアーク技術を永久磁石と電磁石を組み合わせた技術にアップグレードしました。

サファイア膜ハードコーティング装置は、サファイア膜を成膜するための専門装置です。中周波反応性マグネトロンスパッタリング＋CVD＋AFの3つのコーティングシステムを統合し、製品に低摩擦係数で透明かつ高硬度の膜を形成できます。

真空チャンバー内で、抵抗加熱方式を用いてコーティング材料を気化させ、基材に蒸着させることで、基材表面に金属質感を与え、装飾目的を達成します。成膜速度が速く、色鮮やかで、高い生産性を特徴としています。

本装置は垂直型二重扉構造で、DCマグネトロンスパッタリングコーティング技術、抵抗蒸着コーティング技術、CVDコーティング技術、中周波イオン洗浄システムを統合した複合装置です。お客様の複雑な製品開発に適しています。

ZHENHUAが開発したランプ保護膜装置は、PC / ABSランプに塗装を施す必要があるという長年の課題を解決します。ランプの射出成形部品を真空チャンバーに直接投入することで、蒸発と保護膜コーティングの工程を一気通貫で完了させることができます。

ZHENHUAが開発したランプ保護膜装置は、PC / ABSランプに塗装を施す必要があるという長年の課題を解決します。ランプの射出成形部品を真空チャンバーに直接投入することで、蒸発と保護膜コーティングの工程を一気通貫で完了させることができます。

マグネトロン巻き線コーティング装置は、マグネトロンスパッタリング法を用いてコーティング材料を真空環境下でガス状またはイオン状に変換し、ワークピース上に堆積させて緻密な膜を形成する装置です。これにより、表面状態を改善したり、特定の特殊性能を得たりすることができます。

このシリーズの装置は、低融点で蒸発しやすいコーティング材料を中周波誘導炉または蒸発モリブデンボートで加熱することでナノ粒子化し、ワーク表面に堆積させて膜を形成します。ロール状のフィルムを…

このシリーズの装置は、マグネトロンターゲットを用いてコーティング材料をナノメートルサイズの粒子に変換し、基板表面に堆積させて薄膜を形成します。ロール状のフィルムは真空チャンバー内に配置され、電動巻線構造を介して片方の端に電流が流れ、もう一方の端に電流が流れます。

真空状態で、ワークピースを低圧グロー放電の陰極上に置き、適切なガスを注入します。一定の温度に達すると、化学反応とプラズマを組み合わせたイオン化重合プロセスによってワークピースの表面にコーティングが形成され、ガスは…

化学蒸着装置の真空コーティングチャンバーは、独立した二重水冷構造を採用しており、冷却効率と均一性が高く、安全で安定した構造となっています。装置は二重扉、複数の観察窓、複数の冷却ポートを備えており、...

本装置は主に化学蒸着法を用いて酸化膜を成膜し、成膜速度が速く、膜質が高いという特徴があります。装置構造は、クランプ効率を高めるために二重扉構造を採用し、最新の液体ガス供給システムを採用しています。

真空プラズマ洗浄装置は一体型構造を採用し、RFイオン洗浄システムを搭載し、全自動制御で操作とメンテナンスが簡単です。RF高周波発生器は高密度プラズマを生成し、ワーク表面を活性化、エッチング、アッシングし、効果的に不純物を除去します。

この装置はマグネトロンスパッタリングとイオンコーティング技術を統合し、色の均一性、堆積速度、化合物組成の安定性を向上させるソリューションを提供します。製品要件に応じて、加熱システム、バイアスシステム、イオン化システムなどのデバイスを必要に応じて選択できます。

この装置は、マグネトロンスパッタリングと抵抗蒸着技術を統合し、様々な基板へのコーティングソリューションを提供します。この実験用コーティング装置は主に大学や科学研究機関で使用され、様々な実験ニーズに対応できます。

真空プラズマ洗浄装置は一体型構造を採用し、RFイオン洗浄システムを搭載し、全自動制御で操作とメンテナンスが簡単です。RF高周波発生器は高密度プラズマを生成し、ワーク表面を活性化、エッチング、アッシングし、効果的に不純物を除去します。

この装置は電子ビーム蒸着技術を採用しています。陰極フィラメントから放出された電子は一定のビーム電流に集束され、陰極とるつぼ間の電位によって加速され、コーティング材料を溶融・蒸発させます。この装置は次のような特徴を備えています…