Mengapa Menggunakan Vakum?
Mencegah Kontaminasi: Dalam ruang hampa, tidak adanya udara dan gas lainnya mencegah bahan pengendapan bereaksi dengan gas atmosfer, yang dapat mengontaminasi film.
Daya Rekat yang Lebih Baik: Tidak adanya udara berarti film melekat langsung pada substrat tanpa kantong udara atau gas interstisial lain yang dapat melemahkan ikatan.
Kualitas Film: Kondisi vakum memungkinkan kontrol yang lebih baik atas proses pengendapan, menghasilkan film yang lebih seragam dan berkualitas lebih tinggi.
Deposisi Suhu Rendah: Beberapa material akan terurai atau bereaksi pada suhu yang dibutuhkan untuk deposisi jika terpapar gas atmosfer. Dalam ruang hampa, material ini dapat diendapkan pada suhu yang lebih rendah.
Jenis-jenis Proses Pelapisan Vakum
Deposisi Uap Fisik (PVD)
Penguapan Termal: Bahan dipanaskan dalam ruang hampa hingga menguap dan kemudian mengembun pada substrat.
Sputtering: Sinar ion berenergi tinggi membombardir material target, menyebabkan atom-atom terlempar dan mengendap pada substrat.
Pulsed Laser Deposition (PLD): Sinar laser berkekuatan tinggi digunakan untuk menguapkan material dari target, yang kemudian mengembun pada substrat.
Deposisi Uap Kimia (CVD)
CVD Tekanan Rendah (LPCVD): Dilakukan pada tekanan rendah untuk menurunkan suhu dan meningkatkan kualitas film.
Plasma-Enhanced CVD (PECVD): Menggunakan plasma untuk mengaktifkan reaksi kimia pada suhu yang lebih rendah daripada CVD tradisional.
Deposisi Lapisan Atom (ALD)
ALD merupakan jenis CVD yang melapisi film satu lapisan atom pada satu waktu, sehingga memberikan kendali yang sangat baik terhadap ketebalan dan komposisi film.
Peralatan yang Digunakan dalam Pelapisan Vakum
Ruang Vakum: Komponen utama tempat berlangsungnya proses pelapisan.
Pompa Vakum: Untuk menciptakan dan mempertahankan lingkungan vakum.
Penahan Substrat: Untuk menahan substrat pada tempatnya selama proses pelapisan.
Sumber Penguapan atau Sputtering: Tergantung pada metode PVD yang digunakan.
Catu Daya: Untuk menerapkan energi ke sumber penguapan atau untuk menghasilkan plasma di PECVD.
Sistem Kontrol Suhu: Untuk memanaskan substrat atau mengendalikan suhu proses.
Sistem Pemantauan: Untuk mengukur ketebalan, keseragaman, dan sifat-sifat lain dari film yang disimpan.
Aplikasi Pelapisan Vakum
Pelapis Optik: Untuk pelapis anti-reflektif, reflektif, atau filter pada lensa, cermin, dan komponen optik lainnya.
Pelapis Dekoratif: Untuk berbagai macam produk, termasuk perhiasan, jam tangan, dan suku cadang otomotif.
Pelapis Keras: Untuk meningkatkan ketahanan aus dan daya tahan pada alat pemotong, komponen mesin, dan peralatan medis.
Pelapis Penghalang: Untuk mencegah korosi atau perembesan pada substrat logam, plastik, atau kaca.
Pelapis Elektronik: Untuk produksi sirkuit terpadu, sel surya, dan perangkat elektronik lainnya.
Keuntungan Pelapisan Vakum
Presisi: Pelapisan vakum memungkinkan kontrol yang tepat atas ketebalan dan komposisi film.
Keseragaman: Film dapat diaplikasikan secara merata pada bentuk yang rumit dan area yang luas.
Efisiensi: Prosesnya dapat diotomatisasi secara ketat dan cocok untuk produksi bervolume tinggi.
Keramahan Lingkungan: Pelapisan vakum biasanya menggunakan lebih sedikit bahan kimia dan menghasilkan lebih sedikit limbah dibandingkan metode pelapisan lainnya.
–Artikel ini dirilis olehprodusen mesin pelapis vakumGuangdong Zhenhua
Waktu posting: 15-Agu-2024