Гуандун Чжэнхуа Технология ОООга рәхим итегез.
single_banner

ПВД капламнары: rылылык парга әйләнү һәм бөтерелү

Мәкалә чыганагы: Чжэнхуа вакуум
Уку: 10
Басылган: 24-09-27

ПВД (Физик парны чүпләү) капламнары нечкә пленкалар һәм өслек каплаулары ясау өчен киң кулланыла. Гомуми ысуллар арасында җылылык парга әйләнү һәм бөтерелү ике мөһим ПВД процессы. Менә аларның һәрберсе:

1. rылылык парга әйләнү

  • Принцип:Материал вакуум камерасында парга әйләнгәнче яки сублиматланганчы җылытыла. Парланган материал аннары нечкә пленка формалаштыру өчен субстратка күчә.
  • Процесс:
  • Чыганак материалы (металл, керамика һ.б.) җылытыла, гадәттә резистив җылыту, электрон нур яки лазер ярдәмендә.
  • Материал парлану ноктасына җиткәч, атомнар яки молекулалар чыганактан китәләр һәм вакуум аша субстратка китәләр.
  • Парга әйләнгән атомнар субстрат өслегендә конденса, нечкә катлам ясыйлар.
  • Кушымталар:
  • Гадәттә металлларны, ярымүткәргечләрне, изоляторларны урнаштыру өчен кулланыла.
  • Кушымталарга оптик каплау, декоратив бизәкләр, микроэлектроника керә.
  • Уңай яклары:
  • Depгары чокыр ставкалары.
  • Аерым материаллар өчен гади һәм чыгымлы.
  • Бик чиста фильмнар чыгара ала.
  • Кимчелекләр:
  • Түбән эрү нокталары яки югары пар басымы булган материаллар белән чикләнгән.
  • Катлаулы өслекләр өстендә начар адым.
  • Эретмәләр өчен кино композициясенә азрак контроль.

2. Спуттеринг

  • Принцип: Плазмадагы ионнар максатлы материалга таба тизләнәләр, атомнар максаттан чыгарылалар (чәчәләр), аннары субстратка урнаштыралар.
  • Процесс:
  • Палатага максатлы материал (металл, эретмә һ.б.) урнаштырыла, һәм газ (гадәттә аргон) кертелә.
  • Газны ионлаштыручы плазма ясау өчен югары көчәнеш кулланыла.
  • Плазмадан уңай корылган ионнар тискәре корылган максатка тизләнәләр, атомнарны өслектән аералар.
  • Аннары бу атомнар субстратка салалар, нечкә пленка ясыйлар.
  • Кушымталар:
  • Ярымүткәргеч җитештерүдә, пыяла каплауда, һәм киемгә чыдам капламалар ясауда киң кулланыла.
  • Эретү, керамик яки катлаулы нечкә фильмнар ясау өчен идеаль.
  • Уңай яклары:
  • Металл, эретмәләр, оксидлар кертеп, бик күп материал туплый ала.
  • Искиткеч кино бердәмлеге һәм адымнарны яктырту, хәтта катлаулы формаларда.
  • Фильм калынлыгына һәм композициясенә төгәл контроль.
  • Кимчелекләр:
  • Rылылык парга әйләнү белән чагыштырганда әкренрәк чүпләнү темплары.
  • Equipmentиһазларның катлаулылыгы һәм югары энергиягә мохтаҗлыгы аркасында кыйммәтрәк.

Төп аермалар:

  • Чыганак чыганагы:
  • Rылылык парга әйләнү материалны парга әйләндерү өчен җылылык куллана, ә бөтерелү атомны физик яктан таркату өчен ион бомбардирасын куллана.
  • Энергия кирәк:
  • Rылылык парга әйләнү гадәттә чәчүгә караганда аз энергия таләп итә, чөнки ул плазма җитештерүгә түгел, ә җылытуга таяна.
  • Материаллар:
  • Спуттеринг материалларның киң ассортиментын урнаштыру өчен кулланылырга мөмкин, шул исәптән парга әйләнү авыр булган эретү нокталары булганнарны.
  • Кино сыйфаты:
  • Спуттеринг, гадәттә, кино калынлыгын, бердәмлеген, композициясен яхшырак контрольдә тота.

Пост вакыты: 27-2024 сентябрь