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水平型両面半導体コーティング生産ライン

  • 水平両面スパッタコーティング
  • 半導体業界の製品に適用可能
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    製品

    製品説明

    コーティングラインはモジュール構造を採用しており、プロセスと効率要件に応じてチャンバーを拡張でき、両面コーティングも可能なため、柔軟性と利便性に優れています。イオン洗浄システム、急速加熱システム、DCマグネトロンスパッタリングシステムを備え、シンプルな金属コーティングを効率的に堆積できます。本装置は、高速ビート、便利なクランプ、高効率を特徴としています。

    コーティングラインにはイオン洗浄システムと高温ベーキングシステムが搭載されており、成膜された膜の密着性が向上します。回転ターゲットを用いた小角スパッタリングは、小口径の内面への成膜に最適です。

    1. 装置はコンパクトな構造で、床面積も小さいです。
    2. 真空システムには、空気抽出用の分子ポンプが装備されており、エネルギー消費量が少なくなっています。
    3. 材料ラックの自動返却により人手を節約します。
    4. プロセスパラメータを追跡でき、生産プロセスをプロセス全体で監視できるため、生産上の欠陥の追跡が容易になります。
    5. コーティングラインは高度な自動化を実現しており、マニピュレーターと併用することで前工程と後工程を連携させ、人件費を削減できます。

    コンデンサ製造工程における銀ペースト印刷を置き換えることができ、効率が上がり、コストも削減できます。
    Ti、Cu、Al、Cr、Ni、Ag、Snなどの単純金属に適用可能で、セラミック基板、セラミックコンデンサ、LEDセラミック支持体などの半導体電子部品に広く使用されています。

    機械は顧客の要求に応じて設計できます 見積もりを依頼する

    相対的なデバイス

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