La ligne de revêtement adopte une structure modulaire, permettant d'adapter la taille des chambres aux exigences de procédé et de productivité. Le revêtement recto verso est possible, offrant flexibilité et praticité. Équipée d'un système de nettoyage ionique, d'un système de chauffage rapide et d'un système de pulvérisation cathodique magnétron DC, elle assure un dépôt efficace de revêtements métalliques simples. L'équipement se caractérise par une cadence de production élevée, un serrage aisé et un rendement optimal.
La ligne de revêtement est équipée d'un système de nettoyage ionique et de cuisson à haute température, ce qui améliore l'adhérence du film déposé. La pulvérisation cathodique à petit angle avec cible rotative est particulièrement adaptée au dépôt de film sur la surface interne des petites ouvertures.
1. L'équipement possède une structure compacte et occupe une petite surface au sol.
2. Le système de vide est équipé d'une pompe moléculaire pour l'extraction d'air, avec une faible consommation d'énergie.
3. Le retour automatique du rayonnage permet d'économiser de la main-d'œuvre.
4. Les paramètres du processus peuvent être tracés et le processus de production peut être surveillé tout au long du processus afin de faciliter le suivi des défauts de production.
5. La ligne de revêtement présente un haut degré d'automatisation. Elle peut être utilisée avec un manipulateur pour relier les processus avant et arrière et réduire les coûts de main-d'œuvre.
Elle peut remplacer l'impression à la pâte d'argent dans le processus de fabrication des condensateurs, avec une efficacité accrue et un coût inférieur.
Il est applicable au titane, au cuivre, à l'aluminium, au chrome, au nickel, à l'argent, à l'étain et à d'autres métaux simples. Il est largement utilisé dans les composants électroniques semi-conducteurs, tels que les substrats céramiques, les condensateurs céramiques, les supports céramiques pour LED, etc.