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Actualités du secteur
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Plusieurs matériaux cibles communs
1. Cible de chrome. Le chrome, utilisé comme matériau de dépôt par pulvérisation cathodique, adhère facilement au substrat et forme un film de CrO3. De plus, l'oxydation incomplète du chrome permet d'obtenir un film de CrO3 aux propriétés mécaniques, à la résistance aux acides et à la stabilité thermique supérieures. Par ailleurs, le chrome, sous sa forme partiellement oxydée...En savoir plus -
Technologie de dépôt assisté par faisceau d'ions
1. La technologie de dépôt assisté par faisceau d'ions se caractérise par une forte adhésion entre la membrane et le substrat, la couche membranaire étant très résistante. Les expériences montrent que l'adhésion obtenue par dépôt assisté par faisceau d'ions est plusieurs fois supérieure à celle obtenue par dépôt thermique en phase vapeur, atteignant des valeurs plusieurs centaines de fois supérieures.En savoir plus -
Caractéristiques et applications des revêtements par pulvérisation réactive
Dans le procédé de dépôt par pulvérisation cathodique, des composés peuvent servir de cibles pour la préparation de films de synthèse chimique. Cependant, la composition du film obtenu après pulvérisation du matériau cible s'écarte souvent considérablement de la composition initiale de ce dernier, et par conséquent…En savoir plus -
Caractéristiques du coefficient de température des résistances à film métallique
Le coefficient de température de la résistance des films métalliques varie en fonction de leur épaisseur : il est négatif pour les films minces, positif pour les films épais, et similaire, mais non identique, à celui des matériaux massifs pour les films très épais. En général, le coefficient de température de la résistance passe de négatif à positif.En savoir plus -
Caractéristiques et applications du revêtement ionique - Chapitre 2
③ Haute qualité du revêtement : Le bombardement ionique permet d'améliorer la densité et la structure de la membrane, assurant ainsi une bonne uniformité de la couche, une organisation dense du revêtement, et réduisant le nombre de piqûres et de bulles, améliorant de ce fait la qualité de la membrane.En savoir plus -
Caractéristiques et applications du revêtement ionique - Chapitre 1
Comparativement au dépôt par évaporation et au dépôt par pulvérisation cathodique, la principale caractéristique du dépôt ionique réside dans le bombardement du substrat et de la couche de film par des ions énergétiques lors du dépôt. Ce bombardement d'ions chargés produit une série d'effets, principalement les suivants : ① Membrane / support…En savoir plus -
Équipement spécial de revêtement à contrôle magnétique pour films couleur
L'équipement spécial de revêtement magnétronique pour films couleur utilise la puissance du champ magnétique pour contrôler avec précision le dépôt des matériaux de revêtement sur le substrat du film. Cette technologie innovante garantit une uniformité et une régularité inégalées lors du processus de revêtement, ce qui permet d'obtenir une qualité supérieure.En savoir plus -
Machine de revêtement par pulvérisation cathodique
La machine de revêtement par pulvérisation cathodique pour montres utilise le procédé de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour appliquer une fine couche de revêtement sur les pièces horlogères. Cette méthode offre une excellente adhérence, une couverture uniforme et une variété d'options de revêtement, notamment métalliques, céramiques et en carbone amorphe (DLC). Par conséquent, nous…En savoir plus -
Machine de revêtement de film résistant à l'oxydation
La machine de revêtement par film anti-oxydation est une technologie de pointe qui forme une couche protectrice empêchant l'oxydation et améliorant la durabilité et la longévité des composants métalliques. Cette machine applique un film mince sur la surface des matériaux, créant ainsi une barrière contre la corrosion.En savoir plus -
Équipement intégré de film protecteur pour lampe
L'intégration de technologies de pointe dans les luminaires modernes améliore considérablement leurs performances et leur efficacité. Cependant, cela les rend également plus vulnérables aux dommages causés par divers facteurs externes. Par conséquent, afin de protéger ces précieux équipements et d'optimiser leur durée de vie, il est essentiel de...En savoir plus -
Sélection et classification des cibles
Avec le développement croissant du revêtement par pulvérisation cathodique, et notamment de la technologie de pulvérisation cathodique magnétron, il est désormais possible de préparer un film cible par bombardement ionique pour n'importe quel matériau. Le procédé de dépôt sur un substrat implique que la cible est pulvérisée, ce qui permet d'obtenir une qualité de mesure...En savoir plus -
Machine de revêtement plasma en acier inoxydable
Récemment, la demande de produits en acier inoxydable a fortement augmenté en raison de leur excellente résistance à la corrosion et de leur esthétique moderne. Par conséquent, les fabricants recherchent constamment des méthodes de revêtement nouvelles et améliorées pour l'acier inoxydable afin de répondre aux exigences croissantes du marché. C'est pourquoi…En savoir plus -
Machine de revêtement sous vide pour robinets dorés
Le lancement de la machine de revêtement sous vide à l'or la plus performante constitue une avancée majeure dans le domaine des technologies de revêtement de surface. Traditionnellement, l'application de revêtements à l'or est un processus complexe et coûteux qui requiert un équipement spécialisé et des techniciens qualifiés. Cependant, cette nouvelle machine promet…En savoir plus -
Facteurs influençant la formation du film - Chapitre 2
(4) Matériau cible. Le matériau cible est essentiel au revêtement par pulvérisation cathodique. En général, il doit répondre aux exigences et un contrôle rigoureux des paramètres de procédé est nécessaire pour obtenir la couche de revêtement. Les impuretés présentes dans le matériau cible, les oxydes de surface et autres substances impures...En savoir plus -
Facteurs influençant la formation du film Chapitre 1
(1) Gaz de pulvérisation. Le gaz de pulvérisation doit présenter un rendement de pulvérisation élevé, être inerte vis-à-vis du matériau cible, peu coûteux et d'une pureté élevée facilement accessible. L'argon est généralement considéré comme le gaz de pulvérisation idéal. (2) Tension de pulvérisation et tension du substrat. Ces paramètres...En savoir plus
