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Noticias del sector
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Varios materiales objetivo comunes
1. Objetivo de cromo El cromo como material para películas de pulverización catódica no solo se combina fácilmente con el sustrato con alta adhesión, sino que también el cromo y el óxido generan una película de CrO3, cuyas propiedades mecánicas, resistencia a los ácidos y estabilidad térmica son mejores. Además, el cromo en la oxidación incompleta...Leer más -
Tecnología de deposición asistida por haz de iones
1. La tecnología de deposición asistida por haz de iones se caracteriza por una fuerte adhesión entre la membrana y el sustrato, siendo la capa de membrana muy resistente. Los experimentos demuestran que la adhesión en la deposición asistida por haz de iones, en comparación con la deposición térmica en fase vapor, aumenta varias veces hasta alcanzar un valor de cientos...Leer más -
Características y aplicaciones del recubrimiento por pulverización catódica reactiva
En el proceso de recubrimiento por pulverización catódica, se pueden utilizar compuestos como blancos para la preparación de películas sintetizadas químicamente. Sin embargo, la composición de la película generada tras la pulverización del material blanco a menudo difiere considerablemente de la composición original del material blanco y, por lo tanto...Leer más -
Características del coeficiente de temperatura de las resistencias de película metálica
El coeficiente de temperatura de la resistencia de las películas metálicas varía con el espesor de la película: las películas delgadas son negativas, las gruesas son positivas y las más gruesas son similares, pero no idénticas, a los materiales a granel. En general, el coeficiente de temperatura de la resistencia cambia de negativo a positivo...Leer más -
Características y aplicación del recubrimiento iónico Capítulo 2
③ Alta calidad del recubrimiento Como el bombardeo iónico puede mejorar la densidad de la membrana, mejorar la estructura organizativa de la membrana, haciendo que la uniformidad de la capa de membrana sea buena, organización de recubrimiento densa, menos poros y burbujas, mejorando así la calidad de la membrana...Leer más -
Características y aplicación del recubrimiento iónico - Capítulo 1
En comparación con la deposición por evaporación y la deposición por pulverización catódica, la característica más importante de la deposición iónica es que los iones energéticos bombardean el sustrato y la capa de película durante el proceso de deposición. El bombardeo de iones cargados produce una serie de efectos, principalmente los siguientes: ① Membrana / base...Leer más -
Equipo especial de recubrimiento con control magnético para películas en color.
El equipo especial de recubrimiento por magnetrón para películas de color utiliza la potencia del campo magnético para controlar con precisión la deposición de los materiales de recubrimiento sobre el sustrato de la película. Esta innovadora tecnología permite una uniformidad y consistencia sin precedentes durante el proceso de recubrimiento, lo que da como resultado una alta calidad...Leer más -
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de reloj
La máquina de recubrimiento por pulverización catódica para relojes utiliza el proceso de deposición física de vapor (PVD) para aplicar una fina película de material de recubrimiento a las piezas del reloj. Este método proporciona una excelente adherencia, una cobertura uniforme y una variedad de opciones de recubrimiento, incluyendo metálico, cerámico y de carbono tipo diamante. Como resultado, w...Leer más -
Máquina de recubrimiento de película resistente a la oxidación
La máquina de recubrimiento con película resistente a la oxidación es una tecnología de vanguardia que proporciona una capa protectora para prevenir la oxidación y mejorar la durabilidad y la vida útil de los componentes metálicos. Esta máquina aplica un recubrimiento de película delgada a la superficie de los materiales, creando una barrera contra la corrosión...Leer más -
Equipo de película protectora para lámparas integradas
La incorporación de tecnología avanzada en las luminarias modernas mejora significativamente su rendimiento y eficiencia. Sin embargo, esto también las hace más susceptibles a sufrir daños por diversos factores externos. Por lo tanto, para proteger estos valiosos activos y maximizar su vida útil, es necesario...Leer más -
Selección y clasificación de objetivos
Con el creciente desarrollo del recubrimiento por pulverización catódica, especialmente la tecnología de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón, actualmente se puede preparar cualquier material mediante la pulverización de una película objetivo por bombardeo iónico, debido a que el objetivo se pulveriza en el proceso de recubrimiento sobre algún tipo de sustrato, la calidad de la medición...Leer más -
Máquina de recubrimiento por plasma de acero inoxidable
En noticias recientes, la demanda de productos de acero inoxidable ha ido en aumento debido a su excelente resistencia a la corrosión y su atractivo estético moderno. Como resultado, los fabricantes buscan constantemente métodos nuevos y mejorados para el recubrimiento del acero inoxidable con el fin de satisfacer las crecientes demandas del mercado. Es por eso que...Leer más -
Máquina de recubrimiento al vacío de oro para grifos
El lanzamiento de la máquina líder de recubrimiento al vacío de oro representa un avance significativo en el campo de la tecnología de recubrimiento de superficies. Tradicionalmente, la aplicación de recubrimientos de oro es un proceso complejo y costoso que requiere equipos especializados y técnicos cualificados. Sin embargo, esta nueva máquina promete...Leer más -
Factores que afectan la formación de la película Capítulo 2
(4) Material objetivo. El material objetivo es clave para el recubrimiento por pulverización catódica. En general, siempre que el material objetivo cumpla con los requisitos, se puede requerir un control estricto de los parámetros del proceso para obtener la capa de película. Las impurezas en el material objetivo, los óxidos superficiales y otras sustancias impuras...Leer más -
Factores que afectan la formación de películas Capítulo 1
(1) Gas de pulverización catódica. El gas de pulverización catódica debe tener las características de alto rendimiento de pulverización, ser inerte al material objetivo, económico, fácil de obtener y de alta pureza, entre otras. En general, el argón es el gas de pulverización catódica más ideal. (2) Voltaje de pulverización catódica y voltaje del sustrato. Estos...Leer más
