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Notizie dal settore
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Diversi materiali bersaglio comuni
1. Target di cromo Il cromo come materiale per film di sputtering non solo si combina facilmente con il substrato con elevata adesione, ma genera anche un film di CrO3 con ossido, le cui proprietà meccaniche, resistenza agli acidi e stabilità termica sono migliori. Inoltre, il cromo nell'ossidazione incompleta...Per saperne di più -
Tecnologia di deposizione assistita da fascio ionico
1. La tecnologia di deposizione assistita da fascio ionico è caratterizzata da una forte adesione tra la membrana e il substrato, lo strato di membrana è molto resistente. Gli esperimenti dimostrano che: l'adesione della deposizione assistita da fascio ionico è aumentata di diverse volte rispetto all'adesione della deposizione termica in fase vapore, raggiungendo centinaia di volte...Per saperne di più -
Caratteristiche e applicazioni dei rivestimenti ottenuti mediante sputtering reattivo.
Nel processo di deposizione per sputtering, i composti possono essere utilizzati come target per la preparazione di film sintetizzati chimicamente. Tuttavia, la composizione del film generato dopo lo sputtering del materiale target spesso si discosta notevolmente dalla composizione originale del materiale target, e pertanto...Per saperne di più -
Caratteristiche del coefficiente di temperatura dei resistori a film metallico
Il coefficiente di temperatura della resistenza di un film metallico varia con lo spessore del film: i film sottili sono negativi, quelli spessi sono positivi e i film più spessi sono simili, ma non identici, ai materiali massivi. In generale, il coefficiente di temperatura della resistenza cambia da negativo a positivo...Per saperne di più -
Caratteristiche e applicazioni del rivestimento ionico - Capitolo 2
③ Elevata qualità del rivestimento Poiché il bombardamento ionico può migliorare la densità della membrana, migliorare la struttura organizzativa della membrana, rendendo uniforme lo strato di membrana, densa organizzazione del rivestimento, meno fori e bolle, migliorando così la qualità della membrana l...Per saperne di più -
Caratteristiche e applicazioni del rivestimento ionico - Capitolo 1
Rispetto alla placcatura per evaporazione e alla placcatura per sputtering, la caratteristica più importante della placcatura ionica è che gli ioni energetici bombardano il substrato e lo strato di film durante la deposizione. Il bombardamento di ioni carichi produce una serie di effetti, principalmente come segue: ① Membrana / base...Per saperne di più -
Apparecchiatura speciale di rivestimento a controllo magnetico per pellicole a colori
La speciale apparecchiatura di rivestimento magnetron per pellicole a colori utilizza la potenza del campo magnetico per controllare con precisione la deposizione dei materiali di rivestimento sul substrato della pellicola. Questa tecnologia innovativa consente un'uniformità e una consistenza senza pari durante il processo di rivestimento, garantendo risultati di alta qualità...Per saperne di più -
Macchina per la deposizione di rivestimenti a sputtering per orologi
La macchina per la deposizione a sputtering di orologi utilizza il processo di deposizione fisica da fase vapore (PVD) per applicare un sottile strato di materiale di rivestimento sui componenti degli orologi. Il metodo offre un'eccellente adesione, una copertura uniforme e una varietà di opzioni di rivestimento, tra cui metalli, ceramica e carbonio simile al diamante. Di conseguenza, ...Per saperne di più -
Macchina per la deposizione di film resistenti all'ossidazione
La macchina per la deposizione di film antiossidante è una tecnologia all'avanguardia che fornisce uno strato protettivo per prevenire l'ossidazione e migliorare la durata e la longevità dei componenti metallici. Questa macchina applica un sottile strato di rivestimento sulla superficie dei materiali, creando una barriera contro la corrosione...Per saperne di più -
Apparecchiatura integrata per la pellicola protettiva della lampada
L'integrazione di tecnologie avanzate nei moderni apparecchi di illuminazione ne migliora significativamente le prestazioni e l'efficienza. Tuttavia, ciò li rende anche più suscettibili ai danni causati da vari fattori esterni. Pertanto, al fine di proteggere questi preziosi elementi e massimizzarne la durata, è necessario...Per saperne di più -
Selezione e classificazione degli obiettivi
Con il crescente sviluppo della deposizione per sputtering, in particolare della tecnologia di deposizione per sputtering magnetron, attualmente è possibile preparare qualsiasi materiale mediante film bersaglio a bombardamento ionico, poiché il bersaglio viene spruzzato durante il processo di rivestimento su un qualche tipo di substrato, la qualità della misurazione...Per saperne di più -
Macchina per rivestimento al plasma dell'acciaio inossidabile
Di recente, la domanda di prodotti in acciaio inossidabile è aumentata grazie alla sua superiore resistenza alla corrosione e al suo moderno appeal estetico. Di conseguenza, i produttori sono costantemente alla ricerca di metodi nuovi e migliori per rivestire l'acciaio inossidabile al fine di soddisfare le crescenti richieste del mercato. È qui che...Per saperne di più -
Macchina per rivestimento sottovuoto in oro per rubinetti
Il lancio della macchina leader per la deposizione sottovuoto di oro rappresenta un importante sviluppo nel campo della tecnologia di rivestimento superficiale. Tradizionalmente, l'applicazione di rivestimenti in oro è un processo complesso e costoso che richiede attrezzature specializzate e tecnici qualificati. Tuttavia, questa nuova macchina promette...Per saperne di più -
Fattori che influenzano la formazione del film - Capitolo 2
(4) Materiale bersaglio. Il materiale bersaglio è la chiave per il rivestimento mediante sputtering; in generale, purché il materiale bersaglio soddisfi i requisiti, è necessario un controllo rigoroso dei parametri di processo per ottenere lo strato di film. Impurità nel materiale bersaglio, ossidi superficiali e altre sostanze impure...Per saperne di più -
Fattori che influenzano la formazione del film Capitolo 1
(1) Gas di sputtering. Il gas di sputtering deve avere le caratteristiche di elevata resa di sputtering, inerzia rispetto al materiale bersaglio, basso costo, facile reperibilità di elevata purezza e altre caratteristiche. In generale, l'argon è il gas di sputtering più ideale. (2) Tensione di sputtering e tensione del substrato. Queste...Per saperne di più
