Welkom bij Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
Branchenieuws
-
Verschillende veelvoorkomende doelmaterialen
1. Chroomdoelwit Chroom als sputterfilmmateriaal hecht niet alleen gemakkelijk aan het substraat met een hoge hechting, maar vormt ook een CrO3-film met chroomoxide, waardoor de mechanische eigenschappen, zuurbestendigheid en thermische stabiliteit beter zijn. Bovendien is chroom in de onvolledige oxidatie...Lees meer -
Ionbundelondersteunde afzettingstechnologie
1. Ionbundelondersteunde depositietechnologie kenmerkt zich door een sterke hechting tussen het membraan en het substraat; de membraanlaag is zeer sterk. Experimenten tonen aan dat de hechting bij ionbundelondersteunde depositie honderden keren hoger is dan bij thermische dampdepositie.Lees meer -
Eigenschappen en toepassingen van reactieve sputtercoatings
Bij het sputtercoatingproces kunnen verbindingen als targets worden gebruikt voor de bereiding van chemisch gesynthetiseerde films. De samenstelling van de film die na het sputteren van het targetmateriaal ontstaat, wijkt echter vaak sterk af van de oorspronkelijke samenstelling van het targetmateriaal, en daarom...Lees meer -
Temperatuurcoëfficiëntkarakteristieken van metaalfilmweerstanden
De temperatuurcoëfficiënt van de weerstand van metaalfilms varieert met de filmdikte; dunne films hebben een negatieve waarde, dikke films een positieve waarde, en nog dikkere films lijken op, maar zijn niet identiek aan, bulkmaterialen. Over het algemeen verandert de temperatuurcoëfficiënt van de weerstand van negatief naar positief.Lees meer -
Kenmerken en toepassingen van ionencoating, hoofdstuk 2
③ Hoge kwaliteit van de coating. Omdat ionenbombardement de dichtheid van het membraan kan verhogen en de organisatiestructuur ervan kan verbeteren, waardoor de uniformiteit van de membraanlaag goed is, de coating dicht is en er minder gaatjes en luchtbellen ontstaan, verbetert dit de kwaliteit van het membraan.Lees meer -
Kenmerken en toepassingen van ionencoatings - Hoofdstuk 1
Vergeleken met verdampingsplating en sputterplating is het belangrijkste kenmerk van ionenplating dat energierijke ionen het substraat en de filmlaag bombarderen tijdens het afzettingsproces. De bombardering met geladen ionen veroorzaakt een reeks effecten, hoofdzakelijk als volgt: ① Membraan / basis...Lees meer -
Speciale magnetisch gestuurde coatingapparatuur voor kleurenfilms
De speciale magnetroncoatingapparatuur voor kleurenfilms maakt gebruik van de kracht van een magnetisch veld om de afzetting van coatingmaterialen op het filmsubstraat nauwkeurig te regelen. Deze innovatieve technologie zorgt voor een ongeëvenaarde uniformiteit en consistentie tijdens het coatingproces, wat resulteert in hoogwaardige resultaten.Lees meer -
Bekijk de sputtercoatingmachine
De sputtercoatingmachine voor horloges maakt gebruik van het fysische dampafzettingsproces (PVD) om een dunne laag coatingmateriaal aan te brengen op horlogeonderdelen. Deze methode biedt uitstekende hechting, een uniforme dekking en diverse coatingmogelijkheden, waaronder metaal, keramiek en diamantachtige koolstof. Hierdoor...Lees meer -
Oxidatiebestendige filmcoatingmachine
De oxidatiebestendige filmcoatingmachine is een geavanceerde technologie die een beschermende laag aanbrengt om oxidatie te voorkomen en de duurzaamheid en levensduur van metalen onderdelen te verbeteren. Deze machine brengt een dunne filmcoating aan op het oppervlak van materialen, waardoor een barrière tegen corrosie ontstaat...Lees meer -
Geïntegreerde lampbeschermfolie
Door geavanceerde technologie in moderne verlichtingsarmaturen te integreren, worden hun prestaties en efficiëntie aanzienlijk verbeterd. Dit maakt ze echter ook gevoeliger voor schade door diverse externe factoren. Om deze waardevolle activa te beschermen en hun levensduur te maximaliseren, is het daarom belangrijk om...Lees meer -
Doelselectie en classificatie
Met de toenemende ontwikkeling van sputtercoating, met name magnetron sputtercoatingtechnologie, kan tegenwoordig voor elk materiaal een film worden aangebracht door middel van ionenbombardement op een target. Omdat het target tijdens het coatingproces op een substraat wordt gesputterd, is de kwaliteit van de meting...Lees meer -
Plasmacoatingmachine voor roestvrij staal
Recent nieuws meldt dat de vraag naar roestvrijstalen producten is toegenomen vanwege hun superieure corrosiebestendigheid en moderne uitstraling. Fabrikanten zijn daarom voortdurend op zoek naar nieuwe en verbeterde methoden voor het coaten van roestvrij staal om aan de groeiende marktvraag te voldoen. Dit is waar...Lees meer -
Kraangoud vacuümcoatingmachine
De introductie van de toonaangevende vacuümcoatingmachine voor goud is een belangrijke ontwikkeling op het gebied van oppervlaktecoatingtechnologie. Traditioneel is het aanbrengen van goudcoatings een complex en kostbaar proces dat gespecialiseerde apparatuur en ervaren technici vereist. Deze nieuwe machine belooft echter...Lees meer -
Factoren die de filmvorming beïnvloeden Hoofdstuk 2
(4) Doelmateriaal. Het doelmateriaal is de sleutel tot sputtercoating. Over het algemeen kan, zolang het doelmateriaal aan de eisen voldoet en de procesparameters strikt worden gecontroleerd, een filmlaag worden verkregen. Onzuiverheden in het doelmateriaal, oppervlakteoxiden en andere onzuivere stoffen...Lees meer -
Factoren die de filmvorming beïnvloeden Hoofdstuk 1
(1) Sputtergas. Het sputtergas moet de volgende eigenschappen hebben: een hoge sputteropbrengst, inert ten opzichte van het doelmateriaal, goedkoop, gemakkelijk te verkrijgen hoge zuiverheid en andere kenmerken. Over het algemeen is argon het meest ideale sputtergas. (2) Sputterspanning en substraatspanning. Deze...Lees meer
