Benvido a Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Novas da industria
-
Varios materiais obxectivo comúns
1. Obxectivo de cromo O cromo como material de película de pulverización catódica non só é doado de combinar co substrato con alta adhesión, senón tamén con cromo e óxido para xerar unha película de CrO3, as súas propiedades mecánicas, resistencia aos ácidos e estabilidade térmica son mellores. Ademais, o cromo na oxidación incompleta...Ler máis -
Tecnoloxía de deposición asistida por feixe de ións
1. A tecnoloxía de deposición asistida por feixe de ións caracterízase por unha forte adhesión entre a membrana e o substrato, a capa da membrana é moi forte. Os experimentos mostran que: a deposición asistida por feixe de ións de adhesión que a adhesión da deposición de vapor térmico aumentou varias veces ata centos...Ler máis -
Características e aplicacións do revestimento de pulverización catódica reactiva
No proceso de revestimento por pulverización catódica, os compostos pódense usar como obxectivos para a preparación de películas sintetizadas quimicamente. Non obstante, a composición da película xerada despois da pulverización catódica do material obxectivo a miúdo difire moito da composición orixinal do material obxectivo e, polo tanto...Ler máis -
Características do coeficiente de temperatura da resistencia de película metálica
O coeficiente de temperatura de resistencia da película metálica varía co grosor da película, as películas delgadas son negativas, as películas grosas son positivas e as películas máis grosas son similares pero non idénticas aos materiais a granel. En xeral, o coeficiente de temperatura de resistencia cambia de negativo a p...Ler máis -
Características e aplicación do revestimento iónico Capítulo 2
③ Alta calidade do revestimento. Como o bombardeo iónico pode mellorar a densidade da membrana, mellorar a estrutura organizativa da membrana, facendo que a uniformidade da capa da membrana sexa boa, organización densa do revestimento, menos buratos e burbullas, mellorando así a calidade da membrana...Ler máis -
Características e aplicación do revestimento iónico: capítulo 1
En comparación co galvanoplastia por evaporación e o galvanoplastia por pulverización catódica, a característica máis importante do galvanoplastia iónica é que os ións enerxéticos bombardean o substrato e a capa de película mentres ten lugar a deposición. O bombardeo de ións cargados produce unha serie de efectos, principalmente os seguintes. ① Membrana / base...Ler máis -
Equipo especial de revestimento de control magnético para películas en cor
O equipo especial de revestimento con magnetrón para películas en cor usa a potencia do campo magnético para controlar con precisión a deposición dos materiais de revestimento no substrato da película. Esta tecnoloxía innovadora permite unha uniformidade e consistencia sen igual durante o proceso de revestimento, o que resulta nunha alta calidade...Ler máis -
Máquina de revestimento por pulverización catódica para ver
A máquina de revestimento por pulverización catódica de reloxos usa o proceso de deposición física de vapor (PVD) para aplicar unha fina película de material de revestimento ás pezas do reloxo. O método proporciona unha excelente adhesión, unha cobertura uniforme e unha variedade de opcións de revestimento, incluíndo metálico, cerámico e carbono tipo diamante. Como resultado,...Ler máis -
Máquina de revestimento de película resistente á oxidación
A máquina de revestimento de película resistente á oxidación é unha tecnoloxía de vangarda que proporciona unha capa protectora para evitar a oxidación e mellorar a durabilidade e lonxevidade dos compoñentes metálicos. Esta máquina aplica un revestimento de película fina á superficie dos materiais, creando unha barreira contra a corrosión...Ler máis -
Equipo de película protectora de lámpadas integrado
A incorporación de tecnoloxía avanzada nas lámpadas modernas mellora significativamente o seu rendemento e a súa eficiencia. Non obstante, isto tamén as fai máis susceptibles a danos por diversos factores externos. Polo tanto, para protexer estes valiosos activos e maximizar a súa vida útil, a...Ler máis -
Selección e clasificación de obxectivos
Co crecente desenvolvemento do revestimento por pulverización catódica, especialmente a tecnoloxía de revestimento por pulverización catódica magnetrón, na actualidade, calquera material pode ser preparado mediante unha película obxectivo de bombardeo iónico, porque o obxectivo é pulverizado no proceso de revestimento sobre algún tipo de substrato, a calidade da medición...Ler máis -
Máquina de revestimento de plasma de aceiro inoxidable
En noticias recentes, a demanda de produtos de aceiro inoxidable aumentou debido á súa superior resistencia á corrosión e ao seu atractivo estético moderno. Como resultado, os fabricantes buscan constantemente métodos novos e mellorados para revestir o aceiro inoxidable para satisfacer as crecentes demandas do mercado. É por iso que...Ler máis -
Máquina de revestimento ao baleiro de ouro para billas
O lanzamento da máquina líder de revestimento de ouro ao baleiro é un avance importante no campo da tecnoloxía de revestimento de superficies. Tradicionalmente, a aplicación de revestimentos de ouro é un proceso complexo e caro que require equipos especializados e técnicos cualificados. Non obstante, esta nova máquina promete...Ler máis -
Factores que afectan á formación de películas Capítulo 2
(4) Material obxectivo. O material obxectivo é a clave para o revestimento por pulverización catódica, en xeral, sempre que o material obxectivo cumpra os requisitos, e pode ser necesario un control estrito dos parámetros do proceso para obter a capa de película. As impurezas no material obxectivo e os óxidos superficiais e outras substancias impuras...Ler máis -
Factores que afectan á formación de películas Capítulo 1
(1) Gas de pulverización catódica. O gas de pulverización catódica debe ter as características de alto rendemento de pulverización catódica, inerte ao material obxectivo, barato, fácil de obter, alta pureza e outras características. En xeral, o argon é o gas de pulverización catódica máis ideal. (2) Tensión de pulverización catódica e tensión do substrato. Estes...Ler máis
