Selamat datang di Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
Berita Industri
-
Beberapa Bahan Target Umum
1. Target Kromium Kromium sebagai material film sputtering tidak hanya mudah dikombinasikan dengan substrat dengan daya rekat tinggi, tetapi juga kromium dan oksida untuk menghasilkan film CrO3, sifat mekaniknya, ketahanan asam, stabilitas termalnya lebih baik. Selain itu, kromium dalam oksidasi tidak sempurna...Baca selengkapnya -
Teknologi Deposisi dengan Bantuan Sinar Ion
1. Teknologi pengendapan dengan bantuan berkas ion dicirikan oleh daya rekat yang kuat antara membran dan substrat, lapisan membran sangat kuat. Percobaan menunjukkan bahwa: daya rekat pengendapan dengan bantuan berkas ion meningkat beberapa kali lipat hingga ratusan dibandingkan dengan daya rekat pengendapan uap termal...Baca selengkapnya -
Karakteristik dan Aplikasi Pelapisan Sputtering Reaktif
Dalam proses pelapisan sputtering, senyawa dapat digunakan sebagai target untuk pembuatan film yang disintesis secara kimia. Namun, komposisi film yang dihasilkan setelah sputtering material target seringkali sangat menyimpang dari komposisi asli material target, dan oleh karena itu...Baca selengkapnya -
Karakteristik Koefisien Suhu Resistor Film Logam
Koefisien suhu resistansi film logam bervariasi dengan ketebalan film; film tipis bernilai negatif, film tebal bernilai positif, dan film yang lebih tebal memiliki nilai yang mirip tetapi tidak identik dengan material curah. Secara umum, koefisien suhu resistansi berubah dari negatif menjadi positif...Baca selengkapnya -
Karakteristik dan Aplikasi Pelapisan Ion Bab 2
③ Kualitas lapisan yang tinggi. Karena penembakan ion dapat meningkatkan kepadatan membran, memperbaiki struktur organisasi membran, membuat lapisan membran seragam, organisasi pelapisan yang padat, lebih sedikit lubang dan gelembung, sehingga meningkatkan kualitas lapisan membran...Baca selengkapnya -
Karakteristik dan Aplikasi Pelapisan Ion - Bab 1
Dibandingkan dengan pelapisan evaporasi dan pelapisan sputtering, fitur terpenting dari pelapisan ion adalah bahwa ion-ion berenergi tinggi membombardir substrat dan lapisan film selama proses deposisi berlangsung. Pembombardiran ion bermuatan menghasilkan serangkaian efek, terutama sebagai berikut: ① Membran / dasar...Baca selengkapnya -
Peralatan Pelapisan Kontrol Magnetik Khusus untuk Film Berwarna
Peralatan pelapis magnetron khusus untuk film berwarna menggunakan kekuatan medan magnet untuk mengontrol secara akurat pengendapan bahan pelapis pada substrat film. Teknologi inovatif ini memungkinkan keseragaman dan konsistensi yang tak tertandingi selama proses pelapisan, menghasilkan kualitas tinggi...Baca selengkapnya -
Perhatikan Mesin Pelapisan Sputtering
Mesin pelapis jam tangan menggunakan proses deposisi uap fisik (PVD) untuk mengaplikasikan lapisan tipis bahan pelapis pada komponen jam tangan. Metode ini memberikan daya rekat yang sangat baik, cakupan yang seragam, dan berbagai pilihan pelapis termasuk logam, keramik, dan karbon mirip berlian. Akibatnya, ...Baca selengkapnya -
Mesin Pelapis Film Tahan Oksidasi
Mesin pelapis film tahan oksidasi adalah teknologi mutakhir yang menyediakan lapisan pelindung untuk mencegah oksidasi dan meningkatkan daya tahan serta umur pakai komponen logam. Mesin ini mengaplikasikan lapisan film tipis ke permukaan material, menciptakan penghalang terhadap korosi...Baca selengkapnya -
Peralatan Film Pelindung Lampu Terintegrasi
Penggabungan teknologi canggih ke dalam perlengkapan pencahayaan modern secara signifikan meningkatkan kinerja dan efisiensinya. Namun, hal ini juga membuat perlengkapan tersebut lebih rentan terhadap kerusakan akibat berbagai faktor eksternal. Oleh karena itu, untuk melindungi aset berharga ini dan memaksimalkan masa pakainya, ...Baca selengkapnya -
Pemilihan dan Klasifikasi Target
Dengan semakin berkembangnya pelapisan sputtering, khususnya teknologi pelapisan sputtering magnetron, saat ini, untuk material apa pun dapat dibuat film target dengan bombardir ion, karena target tersebut di-sputtering dalam proses pelapisan ke beberapa jenis substrat, kualitas pengukurannya...Baca selengkapnya -
Mesin Pelapis Plasma Baja Tahan Karat
Dalam berita terkini, permintaan produk baja tahan karat semakin meningkat karena ketahanan korosinya yang unggul dan daya tarik estetika modern. Akibatnya, para produsen terus mencari metode baru dan lebih baik untuk melapisi baja tahan karat guna memenuhi permintaan pasar yang terus berkembang. Inilah sebabnya...Baca selengkapnya -
Mesin Pelapisan Vakum Emas untuk Keran
Peluncuran mesin pelapis vakum emas terkemuka merupakan perkembangan besar di bidang teknologi pelapisan permukaan. Secara tradisional, aplikasi pelapisan emas adalah proses yang kompleks dan mahal yang membutuhkan peralatan khusus dan teknisi terampil. Namun, mesin baru ini menjanjikan...Baca selengkapnya -
Faktor-faktor yang mempengaruhi pembentukan film Bab 2
(4) Bahan target. Bahan target adalah kunci pelapisan sputtering, secara umum, selama bahan target memenuhi persyaratan, dan kontrol ketat terhadap parameter proses dapat menghasilkan lapisan film. Impuritas dalam bahan target dan oksida permukaan serta zat pengotor lainnya...Baca selengkapnya -
Faktor-faktor yang mempengaruhi pembentukan film Bab 1
(1) Gas sputtering. Gas sputtering harus memiliki karakteristik hasil sputtering yang tinggi, inert terhadap material target, murah, mudah diperoleh kemurnian tinggi, dan karakteristik lainnya. Secara umum, argon adalah gas sputtering yang lebih ideal. (2) Tegangan sputtering dan tegangan substrat. Ini...Baca selengkapnya
