ग्वांगडोंग झेनहुआ टेक्नॉलॉजी कंपनी लिमिटेडमध्ये आपले स्वागत आहे.
उद्योग बातम्या
-
सीव्हीडी तंत्रज्ञानाचे प्रकार
ढोबळमानाने सांगायचे झाल्यास, सीव्हीडीचे (CVD) अंदाजे दोन प्रकारांमध्ये वर्गीकरण करता येते: एक म्हणजे सबस्ट्रेटवर एकल-उत्पादनाच्या बाष्प निक्षेपणाद्वारे एकल-स्फटिक एपिटॅक्सियल थर तयार करणे, ज्याला संकुचितपणे सीव्हीडी (CVD) म्हणतात; आणि दुसरा म्हणजे सबस्ट्रेटवर पातळ थरांचे निक्षेपण करणे, ज्यामध्ये बहु-उत्पादने आणि अस्फटिकी थरांचा समावेश होतो. त्यानुसार...अधिक वाचा -
ऑप्टिकल थिन फिल्म्सचे पारेषण आणि परावर्तन स्पेक्ट्रा आणि रंग, प्रकरण २
यावरून आपण हे स्पष्ट करणार आहोत: (1) थिन-फिल्म उपकरणे, पारगम्यता, परावर्तन वर्णपट आणि रंग यांच्यातील संबंधित संबंध, म्हणजेच रंगाचा वर्णपट; याउलट, हा संबंध “एकमेव” नसतो, जो रंगाच्या बहु-वर्णपटाच्या रूपात प्रकट होतो. म्हणून, फिल्म'...अधिक वाचा -
ऑप्टिकल थिन फिल्म्सचे पारेषण आणि परावर्तन स्पेक्ट्रा आणि रंग, प्रकरण १
ऑप्टिकल थिन फिल्म्सचे ट्रान्समिशन आणि रिफ्लेक्टन्स स्पेक्ट्रा आणि रंग ही थिन फिल्म उपकरणांची एकाच वेळी अस्तित्वात असलेली दोन वैशिष्ट्ये आहेत. १. ट्रान्समिशन आणि रिफ्लेक्टन्स स्पेक्ट्रम म्हणजे ऑप्टिकल थिन फिल्म उपकरणांच्या परावर्तकता आणि पारगम्यतेचा तरंगलांबीशी असलेला संबंध. हे...अधिक वाचा -
एएफ थिन फिल्म इव्हॅपोरेशन ऑप्टिकल पीव्हीडी व्हॅक्यूम कोटिंग मशीन
एएफ थिन फिल्म इव्हॅपोरेशन ऑप्टिकल पीव्हीडी व्हॅक्यूम कोटिंग मशीन हे फिजिकल व्हेपर डिपॉझिशन (PVD) प्रक्रियेचा वापर करून मोबाईल उपकरणांवर पातळ थराचे कोटिंग लावण्यासाठी डिझाइन केलेले आहे. या प्रक्रियेमध्ये कोटिंग चेंबरमध्ये व्हॅक्यूम वातावरण तयार केले जाते, जिथे घन पदार्थांचे बाष्पीभवन होते आणि नंतर ते जमा होतात...अधिक वाचा -
ॲल्युमिनियम सिल्व्हर व्हॅक्यूम कोटिंग मिरर उत्पादन मशीन
ॲल्युमिनियम सिल्व्हर व्हॅक्यूम कोटिंग मिरर बनवण्याच्या मशीनने आपल्या प्रगत तंत्रज्ञान आणि अचूक अभियांत्रिकीने आरसा निर्मिती उद्योगात क्रांती घडवून आणली आहे. हे अत्याधुनिक मशीन काचेच्या पृष्ठभागावर ॲल्युमिनियम सिल्व्हरचा पातळ थर लावण्यासाठी डिझाइन केलेले आहे, ज्यामुळे उच्च-गुणवत्तेचे आरसे तयार होतात...अधिक वाचा -
ऑप्टिकल व्हॅक्यूम कोटिंग मशीन
ऑप्टिकल व्हॅक्यूम मेटलायझर हे एक अत्याधुनिक तंत्रज्ञान आहे, ज्याने पृष्ठभाग लेपन उद्योगात क्रांती घडवून आणली आहे. हे प्रगत मशीन ऑप्टिकल व्हॅक्यूम मेटलायझेशन नावाच्या प्रक्रियेचा वापर करून विविध प्रकारच्या सब्सट्रेट्सवर धातूचा पातळ थर लावते, ज्यामुळे एक अत्यंत परावर्तक आणि टिकाऊ पृष्ठभाग तयार होतो...अधिक वाचा -
प्लाझ्मा वर्धित रासायनिक बाष्प निक्षेपण अध्याय २
बहुतेक रासायनिक मूलद्रव्यांना रासायनिक गटांशी संयोग करून बाष्पीभूत केले जाऊ शकते, उदा. Si, H सोबत अभिक्रिया करून SiH4 तयार करतो आणि Al, CH3 सोबत संयोग करून Al(CH3) तयार करतो. थर्मल CVD प्रक्रियेमध्ये, वरील वायू गरम केलेल्या सब्सट्रेटमधून जाताना विशिष्ट प्रमाणात औष्णिक ऊर्जा शोषून घेतात आणि पुन्हा तयार होतात...अधिक वाचा -
प्लाझ्मा वर्धित रासायनिक बाष्प निक्षेपण अध्याय १
केमिकल व्हेपर डिपॉझिशन (CVD). नावाप्रमाणेच, हे एक तंत्र आहे जे अणू आणि आंतररेणवीय रासायनिक अभिक्रियांद्वारे घन फिल्म्स तयार करण्यासाठी वायुरूप पूर्वगामी अभिकारकांचा वापर करते. PVD च्या विपरीत, CVD प्रक्रिया बहुतेक उच्च दाबाच्या (कमी निर्वात) वातावरणात केली जाते, ...अधिक वाचा -
थिन फिल्म उपकरणांच्या गुणवत्तेवर परिणाम करणारे प्रक्रिया घटक आणि कार्यप्रणाली (भाग २)
३. सब्सट्रेट तापमानाचा प्रभाव: सब्सट्रेट तापमान हे पडद्याच्या वाढीसाठी एक महत्त्वाची अट आहे. ते पडद्यातील अणू किंवा रेणूंना अतिरिक्त ऊर्जा पुरवते आणि मुख्यत्वे पडद्याची रचना, एकत्रीकरण गुणांक, प्रसरण गुणांक आणि समुच्चय यांवर परिणाम करते...अधिक वाचा -
थिन फिल्म उपकरणांच्या गुणवत्तेवर परिणाम करणारे प्रक्रिया घटक आणि कार्यप्रणाली (भाग १)
ऑप्टिकल थिन फिल्म उपकरणांचे उत्पादन व्हॅक्यूम चेंबरमध्ये केले जाते आणि फिल्मच्या थराची वाढ ही एक सूक्ष्म प्रक्रिया आहे. तथापि, सध्या, ज्या स्थूल प्रक्रिया थेट नियंत्रित केल्या जाऊ शकतात, त्या काही अशा स्थूल घटकांशी संबंधित आहेत ज्यांचा गुणवत्तेशी अप्रत्यक्ष संबंध असतो...अधिक वाचा -
बाष्पीभवन तंत्रज्ञानाच्या विकासाच्या इतिहासाची ओळख
उच्च निर्वात वातावरणात घन पदार्थांना उष्णता देऊन त्यांचे ऊर्ध्वपातन किंवा बाष्पीभवन करून, एका विशिष्ट आधारस्तरावर पातळ थर जमा करण्याच्या प्रक्रियेला निर्वात बाष्पीभवन लेपन (ज्याला बाष्पीभवन लेपन असेही म्हणतात) म्हणून ओळखले जाते. निर्वात बाष्पीभवनाद्वारे पातळ थर तयार करण्याचा इतिहास...अधिक वाचा -
आयटीओ कोटिंग परिचय
इंडियम टिन ऑक्साइड (ITO) हा एक विस्तृत बँड गॅप असलेला, उच्च प्रमाणात डोपिंग केलेला n-प्रकारचा सेमीकंडक्टर पदार्थ आहे, ज्यामध्ये उच्च दृश्य प्रकाश पारगम्यता आणि कमी रोधकता ही वैशिष्ट्ये आहेत. त्यामुळे याचा वापर सौर पेशी (solar cells), फ्लॅट पॅनल डिस्प्ले, इलेक्ट्रोक्रोमिक खिडक्या, अजैविक आणि सेंद्रिय पदार्थांमध्ये मोठ्या प्रमाणावर केला जातो.अधिक वाचा -
प्रयोगशाळेतील व्हॅक्यूम स्पिन कोटिंग मशीन
प्रयोगशाळेतील व्हॅक्यूम स्पिन कोटर हे पातळ थर जमा करणे आणि पृष्ठभाग सुधारणे या क्षेत्रातील महत्त्वाची साधने आहेत. हे प्रगत उपकरण विविध प्रकारच्या पदार्थांचे पातळ थर सब्सट्रेटवर अचूकपणे आणि समान रीतीने लावण्यासाठी तयार केले आहे. या प्रक्रियेमध्ये द्रव द्रावण किंवा सस्पेंशनचा वापर केला जातो...अधिक वाचा -
आयन बीम सहाय्यित निक्षेपण पद्धत आणि तिची ऊर्जा निवड
आयन बीम-सहाय्यित निक्षेपणाचे दोन मुख्य प्रकार आहेत, एक डायनॅमिक हायब्रीड; आणि दुसरा स्टॅटिक हायब्रीड. पहिल्या प्रकारात, फिल्मच्या वाढीच्या प्रक्रियेत, आयन बॉम्बार्डमेंट आणि फिल्मसाठी एक विशिष्ट ऊर्जा आणि बीम करंट नेहमीच सोबत असतो; तर दुसऱ्या प्रकारात, फिल्म पृष्ठभागावर आधीच निक्षेपित केली जाते...अधिक वाचा -
आयन बीम निक्षेपण तंत्रज्ञान
① आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशन तंत्रज्ञानाचे वैशिष्ट्य म्हणजे फिल्म आणि सबस्ट्रेटमधील मजबूत आसंजन, ज्यामुळे फिल्मचा थर खूप मजबूत असतो. प्रयोगांनी हे दाखवून दिले आहे की: थर्मल व्हेपर डिपॉझिशनच्या तुलनेत आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशनमधील आसंजन शेकडो पटींनी वाढले आहे...अधिक वाचा
