Maligayang pagdating sa Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Balita sa Industriya
-
Ilang Karaniwang Materyales na Target
1. Target ng Chromium Ang Chromium bilang isang materyal na sputtering film ay hindi lamang madaling pagsamahin sa substrate na may mataas na adhesion, kundi pati na rin ang chromium at oxide upang makabuo ng CrO3 film, ang mga mekanikal na katangian nito, acid resistance, at thermal stability ay mas mahusay. Bilang karagdagan, ang chromium sa hindi kumpletong oxidation...Magbasa pa -
Teknolohiya ng Deposisyon na Tinutulungan ng Ion Beam
1. Ang teknolohiyang ion beam assisted deposition ay nailalarawan sa pamamagitan ng malakas na pagdikit sa pagitan ng lamad at substrate, ang layer ng lamad ay napakalakas. Ipinapakita ng mga eksperimento na: ang pagdikit ng ion beam-assisted deposition kaysa sa pagdikit ng thermal vapor deposition ay tumaas nang ilang beses sa daan-daang...Magbasa pa -
Mga Katangian at Aplikasyon ng Reactive Sputtering Coating
Sa proseso ng sputtering coating, maaaring gamitin ang mga compound bilang mga target para sa paghahanda ng mga kemikal na na-synthesize na pelikula. Gayunpaman, ang komposisyon ng pelikulang nabuo pagkatapos ng sputtering ng target na materyal ay kadalasang lubhang lumilihis mula sa orihinal na komposisyon ng target na materyal, at dahil dito...Magbasa pa -
Mga Katangian ng Koepisyent ng Temperatura ng Resistor ng Pelikula ng Metal
Ang koepisyent ng temperatura ng resistensya ng metal film ay nag-iiba depende sa kapal ng film, ang manipis na film ay negatibo, ang makapal na film ay positibo, at ang mas makapal na film ay magkatulad ngunit hindi magkapareho sa mga bulk na materyales. Sa pangkalahatan, ang koepisyent ng temperatura ng resistensya ng resistance ay nagbabago mula negatibo patungo sa p...Magbasa pa -
Kabanata 2 ng Mga Katangian at Aplikasyon ng Ion Coating
③ Mataas na kalidad ng patong Dahil ang ion bombardment ay maaaring mapabuti ang densidad ng lamad, mapabuti ang istrukturang pang-organisasyon ng lamad, na ginagawang maayos ang pagkakapareho ng layer ng lamad, siksik na organisasyon ng plating, mas kaunting mga butas at bula, kaya pinapabuti ang kalidad ng lamad...Magbasa pa -
Mga Katangian at Aplikasyon ng Ion Coating - Kabanata 1
Kung ikukumpara sa evaporation plating at sputtering plating, ang pinakamahalagang katangian ng ion plating ay ang pagbuga ng mga energetic ion sa substrate at sa film layer habang nagaganap ang deposition. Ang pagbuga ng mga charged ion ay nagdudulot ng serye ng mga epekto, pangunahin na ang mga sumusunod. ① Membrane / base...Magbasa pa -
Espesyal na Kagamitan sa Magnetic Control Coating para sa Color Film
Ang espesyal na kagamitan sa pag-coat ng magnetron para sa color film ay gumagamit ng lakas ng magnetic field upang tumpak na makontrol ang pagdeposito ng mga materyales sa patong sa substrate ng pelikula. Ang makabagong teknolohiyang ito ay nagbibigay-daan sa walang kapantay na pagkakapareho at pagkakapare-pareho sa panahon ng proseso ng pag-coat, na nagreresulta sa mataas na kalidad...Magbasa pa -
Makinang Pangpahid ng Relo
Ang makinang pang-patong ng relo na may sputter ay gumagamit ng prosesong physical vapor deposition (PVD) upang maglagay ng manipis na pelikula ng materyal na patong sa mga bahagi ng relo. Ang pamamaraan ay nagbibigay ng mahusay na pagdikit, pantay na saklaw at iba't ibang opsyon sa patong kabilang ang metal, ceramic at diamond-like carbon. Bilang resulta,...Magbasa pa -
Makinang Patong ng Pelikula na Lumalaban sa Oksihenasyon
Ang makinang patong na lumalaban sa oksihenasyon ay isang makabagong teknolohiya na nagbibigay ng proteksiyon na patong upang maiwasan ang oksihenasyon at mapabuti ang tibay at mahabang buhay ng mga bahaging metal. Ang makinang ito ay naglalagay ng manipis na patong na pelikula sa ibabaw ng mga materyales, na lumilikha ng harang laban sa kalawang...Magbasa pa -
Kagamitan sa Pinagsamang Pelikula ng Proteksyon ng Lampara
Ang pagsasama ng makabagong teknolohiya sa mga modernong kagamitan sa pag-iilaw ay makabuluhang nagpapabuti sa kanilang pagganap at kahusayan. Gayunpaman, ginagawa rin nitong mas madaling kapitan ang mga ito ng pinsala mula sa iba't ibang panlabas na salik. Samakatuwid, upang maprotektahan ang mga mahahalagang ari-arian na ito at mapakinabangan ang kanilang buhay ng serbisyo, ang...Magbasa pa -
Pagpili at Pag-uuri ng Target
Sa pagtaas ng pag-unlad ng sputtering coating, lalo na ang teknolohiya ng magnetron sputtering coating, sa kasalukuyan, para sa anumang materyal ay maaaring ihanda sa pamamagitan ng ion bombardment target film, dahil ang target ay sputtering sa proseso ng pagpapatong nito sa ilang uri ng substrate, ang kalidad ng sukat...Magbasa pa -
Makinang Patong na Plasma na Hindi Kinakalawang na Bakal
Sa mga kamakailang balita, ang demand para sa mga produktong hindi kinakalawang na asero ay tumataas dahil sa mahusay nitong resistensya sa kalawang at modernong aesthetic appeal. Bilang resulta, ang mga tagagawa ay patuloy na naghahanap ng bago at pinahusay na mga pamamaraan para sa pagpapatong ng hindi kinakalawang na asero upang matugunan ang lumalaking pangangailangan ng merkado. Ito ang dahilan kung bakit...Magbasa pa -
Makinang Patong na Vacuum na Ginto ng Gripo
Ang paglulunsad ng nangungunang gold vacuum coating machine ay isang pangunahing pag-unlad sa larangan ng teknolohiya ng surface coating. Ayon sa kaugalian, ang paggamit ng gold coatings ay isang kumplikado at magastos na proseso na nangangailangan ng espesyal na kagamitan at mga bihasang technician. Gayunpaman, ang bagong makinang ito ay nangangako...Magbasa pa -
Mga Salik na Nakakaapekto sa Pagbuo ng Pelikula Kabanata 2
(4) Target na materyal. Ang target na materyal ang susi sa sputtering coating, sa pangkalahatan, hangga't natutugunan ng target na materyal ang mga kinakailangan, at maaaring kailanganin ang mahigpit na kontrol sa mga parameter ng proseso upang makuha ang film layer. Ang mga dumi sa target na materyal at mga surface oxide at iba pang maruming subst...Magbasa pa -
Mga Salik na Nakakaapekto sa Pagbuo ng Pelikula Kabanata 1
(1) Sputtering gas. Ang sputtering gas ay dapat magkaroon ng mga katangian ng mataas na sputtering yield, inert sa target na materyal, mura, madaling makuha ang mataas na kadalisayan at iba pang mga katangian. Sa pangkalahatan, ang argon ang mas mainam na sputtering gas. (2) Boltahe ng sputtering at boltahe ng substrate. Ang mga ito...Magbasa pa
