ZCL0608

Данное оборудование объединяет технологии магнетронного распыления и резистивного испарения и предоставляет решение для нанесения покрытий на различные подложки.
Экспериментальное оборудование для нанесения покрытий в основном используется в университетах и ​​научно-исследовательских учреждениях и может удовлетворить разнообразные экспериментальные требования. Для оборудования предусмотрены различные конструктивные особенности, позволяющие гибко настраивать его в соответствии с потребностями научных исследований и разработок в различных областях. В качестве оборудования можно выбрать систему магнетронного распыления, систему катодно-дугового распыления, систему электронно-лучевого испарения, систему резистивного испарения, CVD, PECVD, ионный источник, систему смещения, систему нагрева, трехмерное крепление и т.д. Заказчики могут выбирать оборудование в соответствии со своими потребностями.
Оборудование отличается привлекательным внешним видом, компактной конструкцией, небольшой занимаемой площадью, высокой степенью автоматизации, простотой и гибкостью в эксплуатации, стабильной работой и простотой в обслуживании.
Оборудование может применяться для обработки пластика, нержавеющей стали, гальванизированных деталей/пластиковых элементов, стекла, керамики и других материалов. Возможно получение простых металлических слоев, таких как титан, хром, серебро, медь, алюминий, или пленок из металлокомпозитов, таких как TiN / TiCN / TiC / TiO2 / TiAlN / CrN / ZrN / CrC.