ZCL0608

Apparatus magnetron putris et resistentiae evaporationem technologiam integrat, et solutionem praebet ad efficiens varia subiecta subiecta.
Apparatus experimentalis efficiens praesertim in universitatibus et institutionibus investigationis scientificis adhibitus est, ac variis experimentis requisitis occurrere potest.Varii scuta structuralia in apparatu reservantur, qui molliter configurari possunt obviam investigationi scientifico et evolutioni in diversis campis.Systema magnetron putris, systematis arcus cathode, systematis electronici trabes evaporationis, systematis evaporationis resistentia, ratio CVD, PECVD, ion principium, ratio inclinatio, systema calefactionis tria dimensiva fixtura, etc. eligi possunt.Clientes eligere possunt secundum diversas necessitates.
Apparatus habet proprietates pulchrae speciei, structurae compactae, area parva area, gradum automationis, simplicem et flexibilem operationem, stabilem operationem et facilem sustentationem.
Apparatus applicari possunt ferro plastico, immaculato, ferramentis electroplatis / partibus plasticis, vitreis, ceramicis aliisque materiis.Simplex metallis strata ut titanium, chromium, argentum, aes, aluminium, vel metallica membranae compositae ut TiN / TiCN / TiC / TiO2 / TiAlN / CrN / ZrN / CrC praeparari possunt.