Lapisan pilem dina sumber évaporasi évaporasi pemanasan bisa nyieun partikel mémbran dina bentuk atom (atawa molekul) kana spasi fase gas. Dina suhu luhur sumber évaporasi, atom atawa molekul dina beungeut mémbran meunang cukup énergi pikeun nungkulan tegangan permukaan sarta menguap tina beungeut cai. Atom atawa molekul anu ngejat ieu aya dina kaayaan gas dina vakum, nyaéta rohangan fase gas. bahan logam atawa nonlogam.
Dina lingkungan vakum, prosés pemanasan sareng évaporasi bahan mémbran tiasa ningkat. Lingkungan vakum ngirangan pangaruh tekanan atmosfir dina prosés évaporasi, ngajantenkeun prosés évaporasi langkung gampang dilaksanakeun. Dina tekenan atmosfir, bahan kudu jadi subjected kana tekanan gede pikeun nungkulan résistansi gas, sedengkeun dina vakum résistansi ieu greatly ngurangan, sahingga bahan gampang menguap. Dina prosés palapis évaporasi, suhu évaporasi sareng tekanan uap tina bahan sumber évaporasi mangrupikeun faktor anu penting dina milih bahan sumber évaporasi. Pikeun palapis Cd (Se, s), suhu évaporasina biasana dina 1000 ~ 2000 ℃, janten anjeun kedah milih bahan sumber évaporasi kalayan suhu évaporasi anu cocog. Sapertos aluminium dina suhu évaporasi tekanan atmosfir 2400 ℃, tapi dina kaayaan vakum, suhu évaporasina bakal turun sacara signifikan. Ieu kusabab teu aya molekul atmosfir dina halangan vakum, ku kituna atom aluminium atawa molekul bisa leuwih gampang ngejat tina beungeut cai. Fenomena ieu mangrupikeun kauntungan anu penting pikeun palapis évaporasi vakum. Dina atmosfir vakum, évaporasi tina bahan pilem jadi gampang pikeun ngalakonan, ku kituna film ipis bisa ngawujud dina suhu nu leuwih handap. Suhu handap ieu ngurangan oksidasi jeung dékomposisi bahan, sahingga contributing kana persiapan film kualitas luhur.
Salila palapis vakum, tekanan di mana uap bahan pilem equilibrate dina padet atawa cair disebut tekanan uap jenuh dina suhu éta. Tekanan ieu ngagambarkeun kasaimbangan dinamis évaporasi sareng kondensasi dina suhu anu ditangtukeun. Ilaharna, suhu di bagian séjén chamber vakum jauh leuwih handap suhu sumber évaporasi, nu matak ngamudahkeun pikeun ngejat atom mémbran atawa molekul pikeun ngembun dina bagian séjén chamber nu. Dina hal ieu, upami laju évaporasi langkung ageung tibatan laju kondensasi, maka dina kasatimbangan dinamis tekanan uap bakal ngahontal tekanan uap jenuh. Hartina, dina hal ieu, jumlah atom atawa molekul evaporating sarua jeung jumlah condensing, sarta kasatimbangan dinamis kahontal.
– Tulisan ieu dikaluarkeun kuprodusén mesin palapis vakumGuangdong Zhenhua
waktos pos: Sep-27-2024