Lapisan film pada sumber penguapan pemanasan dapat membuat partikel membran dalam bentuk atom (atau molekul) masuk ke ruang fase gas. Di bawah suhu tinggi sumber penguapan, atom atau molekul di permukaan membran mendapatkan energi yang cukup untuk mengatasi tegangan permukaan dan menguap dari permukaan. Atom atau molekul yang menguap ini berada dalam keadaan gas dalam ruang hampa, yaitu ruang fase gas. Bahan logam atau non-logam.
Dalam lingkungan vakum, proses pemanasan dan penguapan material membran dapat ditingkatkan. Lingkungan vakum mengurangi pengaruh tekanan atmosfer pada proses penguapan, sehingga proses penguapan lebih mudah dilakukan. Pada tekanan atmosfer, material perlu diberi tekanan yang lebih besar untuk mengatasi hambatan gas, sedangkan dalam vakum, hambatan ini sangat berkurang, sehingga material lebih mudah menguap. Dalam proses pelapisan penguapan, suhu penguapan dan tekanan uap material sumber penguapan merupakan faktor penting dalam pemilihan material sumber penguapan. Untuk pelapisan Cd(Se, s), suhu penguapannya biasanya berada di kisaran 1000 ~ 2000 ℃, sehingga perlu dipilih material sumber penguapan dengan suhu penguapan yang sesuai. Misalnya, aluminium pada tekanan atmosfer memiliki suhu penguapan 2400 ℃, tetapi dalam kondisi vakum, suhu penguapannya akan turun secara signifikan. Hal ini karena tidak adanya molekul atmosfer dalam penghalang vakum, sehingga atom atau molekul aluminium dapat lebih mudah menguap dari permukaan. Fenomena ini merupakan keuntungan penting untuk pelapisan penguapan vakum. Dalam atmosfer vakum, penguapan material film menjadi lebih mudah dilakukan, sehingga film tipis dapat terbentuk pada suhu yang lebih rendah. Suhu yang lebih rendah ini mengurangi oksidasi dan dekomposisi material, sehingga berkontribusi pada pembuatan film berkualitas lebih tinggi.
Selama pelapisan vakum, tekanan di mana uap bahan film mencapai kesetimbangan dalam padatan atau cairan disebut tekanan uap jenuh pada suhu tersebut. Tekanan ini mencerminkan kesetimbangan dinamis penguapan dan kondensasi pada suhu tertentu. Biasanya, suhu di bagian lain ruang vakum jauh lebih rendah daripada suhu sumber penguapan, yang memudahkan atom atau molekul membran yang menguap untuk mengembun di bagian lain ruang tersebut. Dalam hal ini, jika laju penguapan lebih besar daripada laju kondensasi, maka dalam kesetimbangan dinamis tekanan uap akan mencapai tekanan uap jenuh. Artinya, dalam hal ini, jumlah atom atau molekul yang menguap sama dengan jumlah yang mengembun, dan kesetimbangan dinamis tercapai.
–Artikel ini dirilis olehprodusen mesin pelapis vakumGuangdong Zhenhua
Waktu posting: 27 September 2024