La capa de película en la fuente de evaporación de calentamiento puede hacer que las partículas de la membrana, en forma de átomos (o moléculas), pasen al espacio de la fase gaseosa. Bajo la alta temperatura de la fuente de evaporación, los átomos o moléculas en la superficie de la membrana obtienen suficiente energía para superar la tensión superficial y evaporarse de la superficie. Estos átomos o moléculas evaporados existen en estado gaseoso en el vacío, es decir, en el espacio de la fase gaseosa. Materiales metálicos o no metálicos.
En un entorno de vacío, los procesos de calentamiento y evaporación de los materiales de membrana se optimizan. El vacío reduce el efecto de la presión atmosférica sobre la evaporación, facilitando así su realización. A presión atmosférica, el material requiere mayor presión para superar la resistencia del gas, mientras que en vacío esta resistencia se reduce considerablemente, facilitando la evaporación. En el proceso de recubrimiento por evaporación, la temperatura y la presión de vapor del material de partida son factores cruciales para su selección. Por ejemplo, para el recubrimiento de Cd(Se, s), su temperatura de evaporación suele estar entre 1000 y 2000 °C, por lo que es necesario elegir un material de partida con una temperatura de evaporación adecuada. En el caso del aluminio, cuya temperatura de evaporación a presión atmosférica es de 2400 °C, en condiciones de vacío disminuye significativamente. Esto se debe a la ausencia de la obstrucción de las moléculas atmosféricas en el vacío, lo que permite que los átomos o moléculas de aluminio se evaporen más fácilmente de la superficie. Este fenómeno representa una ventaja importante para el recubrimiento por evaporación al vacío. En una atmósfera de vacío, la evaporación del material de la película se facilita, lo que permite la formación de películas delgadas a temperaturas más bajas. Esta menor temperatura reduce la oxidación y la descomposición del material, contribuyendo así a la obtención de películas de mayor calidad.
Durante el recubrimiento al vacío, la presión a la que los vapores del material de la película se equilibran en estado sólido o líquido se denomina presión de vapor de saturación a esa temperatura. Esta presión refleja el equilibrio dinámico de evaporación y condensación a una temperatura dada. Normalmente, la temperatura en otras partes de la cámara de vacío es mucho menor que la de la fuente de evaporación, lo que facilita la condensación de los átomos o moléculas de la membrana que se evaporan en otras partes de la cámara. En este caso, si la tasa de evaporación es mayor que la de condensación, entonces, en equilibrio dinámico, la presión de vapor alcanzará la presión de vapor de saturación. Es decir, en este caso, el número de átomos o moléculas que se evaporan es igual al número que se condensan, y se alcanza el equilibrio dinámico.
–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua
Fecha de publicación: 27 de septiembre de 2024