가열 증발 방식의 증발원에서 필름층은 원자(또는 분자) 형태의 막 입자를 기체상 공간으로 이동시킬 수 있습니다. 증발원의 고온 조건에서 막 표면의 원자 또는 분자는 표면 장력을 극복하고 표면에서 증발할 만큼 충분한 에너지를 얻습니다. 이렇게 증발된 원자 또는 분자는 진공, 즉 기체상 공간에서 기체 상태로 존재하며 금속 또는 비금속 물질과 상호작용할 수 있습니다.
진공 환경에서는 막 재료의 가열 및 증발 공정을 개선할 수 있습니다. 진공 환경은 대기압이 증발 공정에 미치는 영향을 줄여 증발 공정을 더욱 용이하게 합니다. 대기압에서는 기체의 저항을 극복하기 위해 재료에 더 큰 압력을 가해야 하지만, 진공에서는 이 저항이 크게 감소하여 재료가 더 쉽게 증발합니다. 증발 코팅 공정에서 증발 원료의 증발 온도와 증기압은 증발 원료 선택에 중요한 요소입니다. Cd(Se, s) 코팅의 경우, 증발 온도는 일반적으로 1000~2000℃이므로 적절한 증발 온도를 가진 증발 원료를 선택해야 합니다. 예를 들어, 알루미늄은 대기압에서 2400℃의 증발 온도를 가지지만, 진공 조건에서는 증발 온도가 크게 낮아집니다. 이는 진공 상태에서는 대기 분자가 없어 알루미늄 원자나 분자가 표면에서 더 쉽게 증발할 수 있기 때문입니다. 이러한 현상은 진공 증착 코팅의 중요한 장점입니다. 진공 환경에서는 박막 재료의 증발이 더욱 원활하게 진행되어 낮은 온도에서 박막을 형성할 수 있습니다. 온도가 낮아지면 재료의 산화 및 분해가 줄어들어 더욱 높은 품질의 박막을 얻을 수 있습니다.
진공 코팅 공정 중, 필름 재료의 증기가 고체 또는 액체 상태로 평형을 이루는 압력을 해당 온도에서의 포화 증기압이라고 합니다. 이 압력은 주어진 온도에서 증발과 응축의 동적 평형 상태를 나타냅니다. 일반적으로 진공 챔버의 다른 부분의 온도는 증발원 온도보다 훨씬 낮기 때문에 증발하는 필름 원자 또는 분자가 챔버의 다른 부분에서 더 쉽게 응축됩니다. 이 경우, 증발 속도가 응축 속도보다 크면 동적 평형 상태에서 증기압은 포화 증기압에 도달합니다. 즉, 이 경우 증발하는 원자 또는 분자의 수와 응축하는 원자 또는 분자의 수가 같아져 동적 평형이 이루어집니다.
이 기사는 다음에서 발표했습니다.진공 코팅기 제조업체광둥진화
게시 시간: 2024년 9월 27일