Film Təbəqəsinin Buxarlanma Temperaturu və Buxar Təzyiqi

Buxarlanma mənbəyindəki film təbəqəsi membran hissəciklərini atomlar (və ya molekullar) şəklində qaz fazası məkanına daxil edə bilər. Buxarlanma mənbəyinin yüksək temperaturu altında membranın səthindəki atomlar və ya molekullar səth gərginliyini aradan qaldırmaq və səthdən buxarlanmaq üçün kifayət qədər enerji alırlar. Buxarlanmış atomlar və ya molekullar vakuumda, yəni qaz fazası məkanında qaz halında mövcuddur. Metal və ya qeyri-metal materiallar.

Vakuum mühitində membran materiallarının qızdırılması və buxarlanma prosesləri yaxşılaşdırıla bilər. Vakuum mühiti atmosfer təzyiqinin buxarlanma prosesinə təsirini azaldır və buxarlanma prosesini asanlaşdırır. Atmosfer təzyiqində material qazın müqavimətini dəf etmək üçün daha yüksək təzyiqə məruz qalmalıdır, vakuumda isə bu müqavimət xeyli azalır və materialın buxarlanmasını asanlaşdırır. Buxarlanma örtük prosesində buxarlanma mənbəyi materialının buxarlanma temperaturu və buxar təzyiqi buxarlanma mənbəyi materialının seçilməsində mühüm amildir. Cd (Se, s) örtüyü üçün onun buxarlanma temperaturu adətən 1000 ~ 2000 ℃ arasında olur, buna görə də uyğun buxarlanma temperaturuna malik buxarlanma mənbəyi materialını seçməlisiniz. Məsələn, 2400 ℃ atmosfer təzyiqi buxarlanma temperaturunda alüminium kimi, lakin vakuum şəraitində onun buxarlanma temperaturu əhəmiyyətli dərəcədə aşağı düşəcək. Bunun səbəbi vakuum tıxanmasında atmosfer molekullarının olmamasıdır, buna görə də alüminium atomları və ya molekulları səthdən daha asan buxarlana bilər. Bu fenomen vakuum buxarlanma örtüyü üçün vacib üstünlükdür. Vakuum atmosferində film materialının buxarlanması daha asan olur və beləliklə, daha aşağı temperaturda nazik filmlər əmələ gələ bilir. Bu aşağı temperatur materialın oksidləşməsini və parçalanmasını azaldır və beləliklə, daha yüksək keyfiyyətli filmlərin hazırlanmasına kömək edir.
Vakuum örtüyü zamanı, film materialının buxarlarının bərk və ya maye cisimdə tarazlaşdığı təzyiq, həmin temperaturda doyma buxar təzyiqi adlanır. Bu təzyiq müəyyən bir temperaturda buxarlanma və kondensasiyanın dinamik tarazlığını əks etdirir. Adətən, vakuum kamerasının digər hissələrindəki temperatur buxarlanma mənbəyinin temperaturundan xeyli aşağıdır ki, bu da buxarlanan membran atomlarının və ya molekullarının kameranın digər hissələrində kondensasiya olunmasını asanlaşdırır. Bu halda, buxarlanma sürəti kondensasiya sürətindən çoxdursa, dinamik tarazlıqda buxar təzyiqi doyma buxar təzyiqinə çatacaq. Yəni, bu halda buxarlanan atomların və ya molekulların sayı kondensasiya sayına bərabərdir və dinamik tarazlıq əldə edilir.

–Bu məqalə dərc olunubvakuum örtük maşını istehsalçısıGuangdong Zhenhua