Ho ntshwa ha mouoane ka lik'hemik'hale

Khōlo ea Epitaxial, eo hangata e tsejoang e le epitaxy, ke e 'ngoe ea lits'ebetso tsa bohlokoa ka ho fetisisa tlhahisong ea lisebelisoa tsa semiconductor le lisebelisoa. Seo ho thoeng ke kholo ea epitaxial se maemong a itseng ka har'a substrate ea kristale e le' ngoe holim'a kholo ea lera la ts'ebetso ea filimi ea sehlahisoa se le seng, kholo ea filimi ea kristale e le 'ngoe e bitsoa epitaxial lera theknoloji ea epitaxial ke mathoasong a lilemo tsa bo-1960 lipatlisisong tsa filimi e tšesaane ea silicon e le' ngoe ea kristale e le 'ngoe motheong oa ho hlaha ha nts'etsopele ea hoo e ka bang halofo ea lekholo la lilemo joale, batho ba khonne ho hlokomela mefuta e fapaneng ea lifilimi tsa semiconductor tlas'a maemo a itseng a kholo ea epitaxial. Theknoloji ea Epitaxial e rarollotse mathata a mangata likarolong tse arohaneng tsa semiconductor le lipotoloho tse kopaneng, e ntlafatsa haholo ts'ebetso ea sesebelisoa. Filimi ea Epitaxial e ka laola botenya ba eona le thepa ea doping ka nepo haholoanyane, tšobotsi ena e lebisitse nts'etsopele e potlakileng ea lipotoloho tse kopantsoeng tsa semiconductor, ho ea sethaleng se phethahetseng haholoanyane. Silicon e le 'ngoe kristale ka ho seha, ho sila, ho polishing le mekhoa e meng ea ts'ebetso, ho fumana lakane e bentšitsoeng, u ka etsa likarolo tse arohaneng le lipotoloho tse kopaneng ho eona. Empa maemong a mangata lakane ena e bentšitsoeng feela e le tšehetso ea mechini bakeng sa substrate, moo ho hlokahalang pele ho holisoa lera la filimi ea kristale e le 'ngoe e nang le mofuta o loketseng oa conductivity le resistivity, ebe likarolo tse arohaneng kapa lipotoloho tse kopantsoeng tse hlahisoang filiming ea kristale e le 'ngoe. Mokhoa ona o sebelisoa, mohlala, tlhahisong ea li-transistors tsa silicon tse nang le matla a phahameng a maqhubu a phahameng, ho rarolla khohlano pakeng tsa motlakase o senyehang le khanyetso ea letoto. Moqokeleli oa transistor o hloka motlakase o senyehang o phahameng, o khetholloang ke resistivity ea pn counction ea silicon wafer. E le ho fihlela tlhoko ena, ho hlokahala lisebelisoa tse hanyetsang haholo. Batho ba thepa e hanyetsang haholo ea mofuta oa n e nang le doped e tlase holim'a epitaxial microns tse 'maloa ho isa ho tse leshome le metso e' meli e teteaneng e nang le doped e nyane e hanyetsang e phahameng ea mofuta oa n, tlhahiso ea transistor lera la epitaxial, e rarollang motlakase o senyehang o phahameng o hlokahalang ke resistivity e phahameng le khanyetso e tlase ea letoto la pokello e hlokahalang ke resistivity e tlase ea substrate ea khanyetso pakeng tsa.

Kgolo ya epitaxial ya mokgahlelo wa kgase ke tshebediso ya pele tshimong ya semiconductor ya theknoloji ya kgolo ya epitaxial e hodileng haholoanyane, e bapalang karolo ya bohlokwa ntshetsopeleng ya saense ya semiconductor, e tlatsetsang haholo boleng ba thepa le disebediswa tsa semiconductor le ntlafatso ya tshebetso ya tsona. Hona jwale, ho lokiswa ha filimi ya epitaxial ya semiconductor single crystal ke mokgwa wa bohlokwa ka ho fetisisa wa ho kenya mouoane wa dikhemikhale. Seo ho thweng ke ho kenya mouoane wa dikhemikhale, ke hore, tshebediso ya dintho tse nang le kgase hodima bokahodimo bo tiileng ba karabelo ya dikhemikhale, tshebetso ya ho hlahisa di-deposit tse tiileng. Theknoloji ya CVD e ka hodisa difilimi tsa boleng bo hodimo tsa kristale e le nngwe, ho fumana mofuta o hlokahalang wa doping le botenya ba epitaxial, ho bonolo ho e etsa tlhahiso ya bongata, mme ka hona e sebedisitswe haholo indastering. Indastering, wafer ya epitaxial e lokisitsweng ke CVD hangata e na le lera le le leng kapa a mangata a patilweng, a ka sebediswang ho laola sebopeho sa sesebediswa le kabo ya doping ka ho hasana kapa ho kenngwa ha ion; thepa ya mmele ya lera la epitaxial la CVD e fapane le ya thepa e ngata, mme dikahare tsa oksijene le khabone tsa lera la epitaxial hangata di tlase haholo, e leng molemo wa yona. Leha ho le jwalo, lera la CVD epitaxial le bonolo ho le theha ka boithaopo, ka dikopo tse sebetsang ho hlokahala hore ho nkwe mehato e itseng ho fokotsa lera la epitaxial la ho ithaopela ho ithaopela, theknoloji ya CVD e ntse e le maemong a mang a mmuso wa tshebetso ya boiphihlelo, ho hlokahala hore ho etswe dipatlisiso tse tebileng haholoanyane, e le hore e tswele pele ho fumana ntshetsopele ya theknoloji ya CVD.

Mokhoa oa kholo ea CVD o rarahane haholo, karabelong ea lik'hemik'hale hangata o kenyelletsa likarolo le lintho tse fapaneng, o ka hlahisa lihlahisoa tse 'maloa tse mahareng,' me ho na le lintho tse ngata tse ikemetseng, tse kang mocheso, khatello, sekhahla sa phallo ea khase, jj., ts'ebetso ea epitaxial e na le mehato e mengata e latellanang, e 'ngoe le e 'ngoe ho nts'etsapele le ho ntlafatsa. Ts'ebetso ea epitaxial e na le mehato e mengata e latellanang, e atolohang le e phethahetseng. Ho sekaseka ts'ebetso le mokhoa oa kholo ea epitaxial ea CVD, pele ho tsohle, ho hlakisa ho qhibiliha ha lintho tse arabelang mohatong oa khase, khatello ea karolo ea tekano ea likhase tse fapaneng, lits'ebetso tse hlakileng tsa kinetic le thermodynamic; ebe ho utloisisa likhase tse arabelang ho tloha mohatong oa khase ho ea holim'a transport ea boima ba substrate, ho thehoa ha lera la moeli oa phallo ea khase le holim'a substrate, kholo ea nucleus, hammoho le karabelo ea bokaholimo, ho hasana le ho falla, kahoo qetellong ho hlahisa filimi e lakatsehang. Ts'ebetsong ea kholo ea CVD, nts'etsopele le tsoelo-pele ea reactor li bapala karolo ea bohlokoa, e leng se etsang qeto ea boleng ba lera la epitaxial haholo. Sebopeho sa bokaholimo ba lera la epitaxial, diphoso tsa lera la lattice, kabo le taolo ya ditshila, botenya le ho tshwana ha lera la epitaxial di ama ka ho toba tshebetso le tlhahiso ya sesebediswa.

–Sengoloa sena se lokollotsoe kemoetsi oa mochini oa ho roala ka vacuum cleanerGuangdong Zhenhua