Masini vali e vali ai lanu nuanua

O le Magnetron sputtering o se ituaiga o le fa'aputuina o le ausa faaletino. O le metotia lautele o le sputtering e mafai ona fa'aaogaina e ufiufi ai u'amea, semiconductor, insulator ma isi meafaitino, ma e iai uiga o le tele o le gafatia e uta ai, faigofie ona fa'agaoioia, o le ata vali e matua manifinifi ma lamolemole, ma le pipii lelei ma isi mea. E mafai e le Magnetron sputtering ona fa'ateleina le fua faatatau o le sputtering e ala i le fa'aofiina o se fanua maneta i luga o le cathode surface o le sini ma fa'aaoga le fa'atapula'aina o le fanua maneta i luga o vaega ua molia e fa'ateleina ai le plasma density. O se masini ufiufi atoatoa o le magnetron sputtering vacuum e aofia ai le tele o vaega, o faiga ta'itasi e fa'amae'a galuega eseese, ma iu ai ina ausia le ufiufi maualuga le lelei mulimuli. O le meafaigaluega ufiufi opitika magnetron sputtering e aofia ai le potu vacuum, valve, vacuum pamu system, vacuum measurement system, cathode target, film thickness gauge, electro-pneumatic control system, ma isi. O le tino autu o le magnetron sputtering optical coater o le vacuum chamber, o le tele e fuafuaina e le tele o le substrate oloa ma le gafatia o le tagata fa'aoga. O le potu e faia i le u'amea e le gaoia (sous-electric steel) SUS304, e le faigofie ona elea, e sili atu le umi nai lo le u'amea kaponi ma faigofie ona tausia. E fa'aaogaina e le masini le tekinolosi ufiufi o le sputtering frequency medium frequency, e ufiufi ai i mea oxide e pei o le silicon oxide ma le niobium oxide ma isi, fa'atasi ai ma le fua o le mafiafia o le ata e fai ai se ata teuteu opitika. O le ata e faia e le masini ufiufi opitika magnetron sputtering e malosi le pipii ma maualuga le mama, ma e mafai ona sputtering i le tele o mea ma vaega eseese i le taimi e tasi.

O le faagasologa o le suia malie o lanu e masani ona faia e ala i le masini ufiufi opitika magnetron sputtering. I le taimi nei, o le ufi pito i tua o le tele o telefoni feaveaʻi e faʻaaogaina le faagasologa o le suia malie o lanu o le PVD vacuum coating. E moni, o le masini ufiufi opitika ma le masini ufiufi ea e mafai foi ona faia ni lanu e fitu e tutusa, ae o lanu e le o ni lanu masani ma e iai lava eseesega i le lelei. O le Magnetron sputtering o se ituaiga o le faʻaputuina o le ausa faaletino. O le metotia lautele o le sputtering e mafai ona faʻaaogaina e ufiufi ai uʻamea, semiconductor, insulator ma isi mea, ma e iai uiga o le tele o le gafatia e uta ai, faigofie ona faʻaogaina, o le ata ufiufi e matua manifinifi ma lamolemole, ma lelei le pipii ma isi mea faapena.

E mafai e le Magnetron sputtering ona faʻateleina le fua faatatau o le sputtering e ala i le faʻaofiina o se fanua maneta i luga o le cathode surface o le target ma faʻaaogaina le faʻatapulaʻaina o le fanua maneta i luga o vaega ua molia e faʻateleina ai le plasma density. O se masini atoatoa o le magnetron sputtering vacuum coating e aofia ai le tele o vaega, o masini taʻitasi e faʻamaeʻa galuega eseese, ma iu ai ina ausia le ufiufi maualuga le lelei. O le meafaigaluega o le magnetron sputtering optical coating e aofia ai le vacuum chamber, valve, vacuum pamu system, vacuum measurement system, cathode target, film thickness gauge, electro-pneumatic control system, ma isi.

O le tino autū o le magnetron sputtering optical coater o le vacuum chamber, o le telē e fuafua i le telē o le substrate oloa ma le gafatia o le tagata faʻaoga. O le chamber e faia i le SUS304 stainless steel, e le faigofie ona elea, e sili atu le umi nai lo le carbon steel ma faigofie ona tausia. E faʻaaogaina e le masini le tekinolosi o le ufi o le sputtering frequency medium, e ufi ai i mea oxide e pei o le silicon oxide ma le niobium oxide ma isi, faʻatasi ai ma le fua o le mafiafia o le ata e fai ai ata teuteu opitika. O le ata e faia e le masini ufi opitika magnetron sputtering e malosi le pipii ma maualuga le mama, ma e mafai ona sputtering i le tele o mea ma vaega eseese i le taimi e tasi.